專利名稱：盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種進(jìn)行CD、DVD等盤狀記錄媒體的記錄或再生的盤裝置，特別是涉及用作家用影像設(shè)備或計(jì)算機(jī)的外圍設(shè)備的盤裝置的薄型化。
背景技術(shù)：
對(duì)應(yīng)于計(jì)算機(jī)的小型、薄型化等，對(duì)DVD等盤裝置的小型、薄型化的要求也不斷提高。一般情況下，在對(duì)DVD等盤狀記錄媒體進(jìn)行記錄·再生的盤裝置中，為了更換盤，需要相對(duì)載置盤的轉(zhuǎn)臺(tái)安放/釋放盤的機(jī)構(gòu)，但為了提供更舒適的操作性，要求具有盤自動(dòng)裝載機(jī)構(gòu)的盤裝置。
現(xiàn)有技術(shù)中，作為該盤自動(dòng)裝載機(jī)構(gòu)，由輸送機(jī)構(gòu)輸送盤后，由盤下面的轉(zhuǎn)臺(tái)和盤上方的被稱為夾持器的盤保持用的夾持構(gòu)件，從上下夾入盤，從而進(jìn)行盤的保持。
然而，在上述那樣的構(gòu)成的已有盤裝置中，當(dāng)進(jìn)行盤的自動(dòng)裝載時(shí)，由于存在設(shè)于盤上方的具有厚度的夾持構(gòu)件(夾持器)，所以，具有難以進(jìn)行盤裝置的薄型化的問題。
例如，在專利文獻(xiàn)1記載了具有在盤上方不需要夾持構(gòu)件(夾持器)的盤自動(dòng)裝載機(jī)構(gòu)的小型、薄型的盤裝置。
這樣的盤裝置如

圖12所示那樣，具有使可回轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)臺(tái)100朝上下移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)101，使轉(zhuǎn)臺(tái)100朝上方移動(dòng)(A方向)，移動(dòng)時(shí)將轉(zhuǎn)臺(tái)100上的盤D推壓于盤接合用接觸構(gòu)件103等，相對(duì)地使盤D朝轉(zhuǎn)臺(tái)100側(cè)移動(dòng)，由利用設(shè)于回轉(zhuǎn)軸104的爪105等的保持機(jī)構(gòu)106，不用人手即可將盤D保持于轉(zhuǎn)臺(tái)100。
(專利文獻(xiàn)1)日本特開2002-352794號(hào)公報(bào)在DVD等盤D中，有時(shí)由于制造工序中的問題，使得在盤上方具有毛邊或粘合部的凹坑等，當(dāng)將這樣的在盤上方存在毛邊或粘合部的凹坑等的盤裝載于上述現(xiàn)有的盤自動(dòng)裝載機(jī)構(gòu)時(shí)，存在該毛邊或粘合部的凹坑等使盤的最內(nèi)側(cè)的移動(dòng)部分地受到阻礙(X部分)，利用爪105等的保持機(jī)構(gòu)不能確實(shí)地保持盤D的問題。
發(fā)明的公開本發(fā)明的目的在于提供一種盤裝置，該盤裝置可實(shí)現(xiàn)盤裝置的薄型化，同時(shí)，即使在盤內(nèi)周側(cè)具有毛邊或粘合部的凹坑，也可進(jìn)行盤的確實(shí)的自動(dòng)裝載。
本發(fā)明的第一實(shí)施方式的盤裝置具有轉(zhuǎn)臺(tái)、盤保持機(jī)構(gòu)、盤接合用接觸構(gòu)件、及移動(dòng)機(jī)構(gòu)；該轉(zhuǎn)臺(tái)具有用于放置帶有中心孔的盤的環(huán)狀的盤支承面，可繞回轉(zhuǎn)軸進(jìn)行回轉(zhuǎn)；該盤保持機(jī)構(gòu)在轉(zhuǎn)臺(tái)上保持盤；該盤接合用接觸構(gòu)件具有不與盤保持機(jī)構(gòu)接觸的孔，同時(shí)，在孔的外周具有朝轉(zhuǎn)臺(tái)突出的突部；該移動(dòng)機(jī)構(gòu)使盤接合用接觸構(gòu)件與轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)地接近或離開；其中由形成于與盤支承面相對(duì)的位置的第一變形部和形成于盤支承面的內(nèi)周側(cè)的第二變形部構(gòu)成突部，由第二變形部形成的突部最往轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出。
按照本實(shí)施方式，在盤保持機(jī)構(gòu)的外周側(cè)，在轉(zhuǎn)臺(tái)的盤支承面的回轉(zhuǎn)軸側(cè)的相對(duì)的位置通過兩段的變形形成突部，所以，即使如現(xiàn)有技術(shù)那樣在盤內(nèi)周側(cè)存在毛邊或翹曲，也可使盤確實(shí)地移動(dòng)到轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)進(jìn)行保持。
本發(fā)明的第二實(shí)施方式在第一實(shí)施方式的盤裝置中，由第一變形部形成第一突部，由第二變形部形成第二突部，使第二突部比第一突部更往轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出。
按照本實(shí)施方式，由第一突部和盤支承面保持盤，由第二突部防止盤的內(nèi)周面的浮起，所以，可確實(shí)地將盤裝載于盤保持機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明第三實(shí)施方式在第一實(shí)施方式的盤裝置中，使由第二變形部形成的突部的內(nèi)周端部朝與轉(zhuǎn)臺(tái)相反的一側(cè)突出。
按照本實(shí)施方式，可提高突部的剛性，可由較強(qiáng)的力推壓盤。
本發(fā)明第四實(shí)施方式的盤裝置具有轉(zhuǎn)臺(tái)、盤保持機(jī)構(gòu)、盤接合用接觸構(gòu)件、及移動(dòng)機(jī)構(gòu)；該轉(zhuǎn)臺(tái)具有用于放置帶有中心孔的盤的環(huán)狀的盤支承面，可繞回轉(zhuǎn)軸進(jìn)行回轉(zhuǎn)；該盤保持機(jī)構(gòu)在轉(zhuǎn)臺(tái)上保持盤；該盤接合用接觸構(gòu)件具有不與盤保持機(jī)構(gòu)接觸的孔，同時(shí)，在孔的外周具有朝轉(zhuǎn)臺(tái)突出的突部；該移動(dòng)機(jī)構(gòu)使盤接合用接觸構(gòu)件與轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)地接近或離開；其中由形成在與盤支承面相對(duì)的位置的第一突部和形成于盤支承面的內(nèi)周側(cè)的第二突部構(gòu)成突部，使第二突部比第一突部更朝轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出。
按照本實(shí)施方式，由第一突部和盤支承面保持盤，由第二突部防止盤的內(nèi)周面的浮起，所以，即使如現(xiàn)有技術(shù)那樣在盤內(nèi)周側(cè)存在毛邊或翹曲，也可使盤確實(shí)地移動(dòng)到轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)進(jìn)行保持。
本發(fā)明第五實(shí)施方式在第一或第四實(shí)施方式的盤裝置中，盤接合用接觸構(gòu)件的位置固定著，通過由移動(dòng)機(jī)構(gòu)升降轉(zhuǎn)臺(tái)，從而使轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)盤接合用接觸構(gòu)件移動(dòng)。
按照本實(shí)施方式，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)裝卸操作盤裝置的薄型化。
本發(fā)明第六實(shí)施方式在第一或第四實(shí)施方式的盤裝置中，將盤接合用接觸構(gòu)件設(shè)于盤裝置的筐體或收容盤裝置的信息設(shè)備的一部分。
按照本實(shí)施方式，可形成為盤裝置的筐體或收容盤裝置的信息設(shè)備的一部分，所以，可減少部件數(shù)量。
本發(fā)明第七實(shí)施方式在第一或第四實(shí)施方式的盤裝置中，將突部形成為環(huán)狀。
按照本實(shí)施方式，可更確實(shí)地保持盤。
本發(fā)明第八實(shí)施方式在第七實(shí)施方式的盤裝置中，將第一突部的徑向的寬度設(shè)定得比第二突部的徑向的寬度大。
按照本實(shí)施方式，通過將第一突部的寬度設(shè)定得比第二突部的寬度大，從而可確保第二突部的位移，通過將第二突部的寬度設(shè)定得比第一突部的寬度小，可使在第二突部的相對(duì)盤的推壓力集中。
本發(fā)明第九實(shí)施方式在第一或第四實(shí)施方式的盤裝置中，當(dāng)盤接合用接觸構(gòu)件與盤接觸時(shí)，轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)于盤接合用接觸構(gòu)件具有預(yù)定角度。
按照本實(shí)施方式，可由較小的推壓力將盤保持于盤保持機(jī)構(gòu)。
附圖的簡(jiǎn)單說明圖1為示出本發(fā)明的實(shí)施方式的盤裝置的構(gòu)成的主要部分截面圖。
圖2為形成該裝置的盤接合用接觸構(gòu)件的蓋體的俯視圖。
圖3為示出在本發(fā)明的實(shí)施方式的盤裝置中將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)之前的狀態(tài)的圖。
圖4為示出在本發(fā)明實(shí)施方式的盤裝置中將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)的開始的狀態(tài)的圖。
圖5為示出在本發(fā)明實(shí)施方式的盤裝置中將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)的途中的狀態(tài)、即盤與盤接合用接觸構(gòu)件的第一突部接觸的狀態(tài)的圖。
圖6為示出在本發(fā)明實(shí)施方式的盤裝置中將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)后的狀態(tài)、即盤與盤接合用接觸構(gòu)件的第一、二突部接觸的狀態(tài)的圖。
圖7為示出在本發(fā)明實(shí)施方式的盤裝置中將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)后、即盤處于可回轉(zhuǎn)的位置的狀態(tài)的圖。
圖8為本發(fā)明另一實(shí)施例的盤接合用接觸構(gòu)件的主要部分截面圖，與圖2的B-B線相當(dāng)。
圖9為本發(fā)明另一實(shí)施例的盤接合用接觸構(gòu)件的主要部分截面圖，與圖2的A-A線相當(dāng)。
圖10為本發(fā)明再另一實(shí)施例的盤接合用接觸構(gòu)件的主要部分截面圖，與圖2的B-B線相當(dāng)。
圖11為本發(fā)明再另一實(shí)施例的盤接合用接觸構(gòu)件的主要部分截面圖，與圖2的A-A線相當(dāng)。
圖12為說明背景技術(shù)的已有類型的盤裝置的截面圖。
實(shí)施發(fā)明的最佳形式圖1為示出本發(fā)明一實(shí)施方式的盤裝置1000的構(gòu)成的主要部分截面圖，圖2為形成該裝置的盤接合用接觸構(gòu)件的蓋體的俯視圖。
盤裝置1000具有轉(zhuǎn)臺(tái)10和盤保持機(jī)構(gòu)20，該轉(zhuǎn)臺(tái)10設(shè)于底座主體1與盤接合用接觸構(gòu)件30之間，該盤保持機(jī)構(gòu)20配置于轉(zhuǎn)臺(tái)10上。
轉(zhuǎn)臺(tái)10具有用于放置盤40的盤支承面11，可繞回轉(zhuǎn)軸A回轉(zhuǎn)。
盤保持機(jī)構(gòu)20具有轂部21、保持爪22、及彈性構(gòu)件23，具有第一狀態(tài)和第二狀態(tài)，該第一狀態(tài)是使盤40可繞回轉(zhuǎn)軸A回轉(zhuǎn)地將盤40保持于轉(zhuǎn)臺(tái)10上的狀態(tài)，該第二狀態(tài)與第一狀態(tài)不同，是盤40位于保持爪22的圖1中的上方的狀態(tài)。轂部21配合于盤40的中心孔，由保持爪22和對(duì)保持爪22施力的彈性構(gòu)件23將盤40保持于轉(zhuǎn)臺(tái)10上。
盤接合用接觸構(gòu)件30在本實(shí)施例中設(shè)于構(gòu)成盤裝置1000的外殼的上部頂板的一部分，配置于盤40的上方，具有不與盤保持機(jī)構(gòu)20接觸的孔31，同時(shí)，在盤保持機(jī)構(gòu)20的關(guān)于盤40的外周側(cè)、且在轉(zhuǎn)臺(tái)10的盤支承面11的回轉(zhuǎn)軸A側(cè)的位置，兩段地如第一變形部32和第二變形部33那樣通過拉深加工(絞り加工)等成形加工進(jìn)行變形，朝盤40具有兩段的突部34、35。兩段的突部由第一突部34和進(jìn)一步在孔31的近旁所形成的第二突部35構(gòu)成。另外，這些突部34、35為環(huán)狀，接觸于作為盤40的內(nèi)周區(qū)域即非記錄區(qū)域41。第一突部34和第二突部35也可為從內(nèi)周側(cè)朝向外周方向的錐形的構(gòu)成。另外，突部35的環(huán)形不一定非要連續(xù)地構(gòu)成。
盤裝置1000具有使轉(zhuǎn)臺(tái)10相對(duì)盤接合用接觸構(gòu)件30移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)50。移動(dòng)機(jī)構(gòu)50可為移動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)10的構(gòu)成，或者也可為移動(dòng)盤接合用接觸構(gòu)件30的構(gòu)成。或者，也可為移動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)10和盤接合用接觸構(gòu)件30雙方的構(gòu)成。移動(dòng)機(jī)構(gòu)50為用于使轉(zhuǎn)臺(tái)10升降的升降機(jī)構(gòu)，在本實(shí)施例中，以支點(diǎn)51為中心回轉(zhuǎn)而上下移動(dòng)。
下面，根據(jù)圖2說明該裝置的形成盤接合用接觸構(gòu)件的蓋體。圖1與圖2的B-B線截面相當(dāng)。
在盤接合用接觸構(gòu)件30的外緣部設(shè)置多個(gè)螺釘孔2，盤接合用接觸構(gòu)件30由螺釘安裝于底座主體1。
在盤接合用接觸構(gòu)件30的中央部設(shè)置孔31。該孔31為比盤40的中心孔大的半徑的圓形開口。因此，為比配合于盤40的中心孔的盤保持機(jī)構(gòu)20大的開口。
在孔31的外周部，形成突出到底座主體1側(cè)的環(huán)狀的突部34、35。該環(huán)狀的突部34、35由設(shè)于孔31的外周的第二突部35和設(shè)于第二突部35的外周的第一突部34構(gòu)成，第二突部35的突出高度形成得比第一突部34的突出高度大。另外，第一突部34的徑向的寬度按比第二突部35的徑向?qū)挾却蟮某叽缧纬?。這樣，可由雙重突部34、35提高盤接合用接觸構(gòu)件30的相對(duì)彎曲的剛性，同時(shí)，假如夾持盤時(shí)在盤接合用接觸構(gòu)件30產(chǎn)生變形，也由于第二突部35比第一突部34高，所以，可確實(shí)地壓入盤，進(jìn)行穩(wěn)定的夾持動(dòng)作。另外，在孔31設(shè)置從第一突部34朝盤插入口3側(cè)構(gòu)成為細(xì)頭形狀的拉深部(絞り部)4。由該拉深部4朝底座主體1側(cè)形成凸?fàn)顚?dǎo)向部。
另外，在盤接合用接觸構(gòu)件30形成多個(gè)拉深部4、5、6，由這些拉深部4、5、6朝底座主體1側(cè)形成凸?fàn)顚?dǎo)向部。
另外，在盤接合用接觸構(gòu)件30的前面?zhèn)榷瞬浚徑拥匦纬赏怀龅降鬃黧w1側(cè)的預(yù)定長(zhǎng)度的第一拉深槽(絞り溝)7和朝與第一拉深槽7相反的一側(cè)突出的預(yù)定長(zhǎng)度的第二拉深槽8。第一拉深槽7和第二拉深槽8為按與盤的寬度相當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)度連續(xù)的槽。在這里，第一拉深槽7從中心部朝端部逐漸變高地形成。
這些拉深部4、5、6和拉深槽7、8在安裝于盤保持機(jī)構(gòu)20的狀態(tài)下的盤40的外周端的外方設(shè)于孔31的盤插入口3側(cè)。由這些拉深部4、5、6和拉深槽7形成凸?fàn)顚?dǎo)向部，由該凸?fàn)顚?dǎo)向部對(duì)從盤插入口3插入的盤40進(jìn)行引導(dǎo)。另外，由這些拉深部4、5、6、及拉深槽7、8提高盤接合用接觸構(gòu)件30的強(qiáng)度。拉深部4和拉深部5雖然也可為連續(xù)的1個(gè)拉深部，但通過分成多個(gè)，可進(jìn)一步提高盤接合用接觸構(gòu)件30的強(qiáng)度。
另外，本實(shí)施例通過在不具有側(cè)壁的盤接合用接觸構(gòu)件30的前面?zhèn)榷瞬啃纬深A(yù)定長(zhǎng)度的第一拉深槽7和朝與該第一拉深槽7相反的一側(cè)突出的預(yù)定長(zhǎng)度的第二拉深槽8，從而可提高盤接合用接觸構(gòu)件30的前面?zhèn)榷瞬康南鄬?duì)彎曲的剛性。另外，通過提高相對(duì)彎曲的剛性，從而可穩(wěn)定地進(jìn)行特別是盤40的夾持動(dòng)作。另外，本實(shí)施例通過將第一拉深槽7的端部的槽高度形成得比中心部更高，從而與形成相同高度的槽的場(chǎng)合相比，可提高相對(duì)彎曲的剛性，同時(shí)，在盤40的插入時(shí)和排出時(shí)，可在第一拉深槽7的兩端部引導(dǎo)盤，所以，不會(huì)損傷盤40的記錄面，可進(jìn)行順利的動(dòng)作。
盤接合用接觸構(gòu)件30使用鋁合金，在盤接合用接觸構(gòu)件30的內(nèi)周面整體涂覆氨基甲酸乙酯顆粒配合的氟系涂層。涂層也可僅對(duì)突部35、拉深部4、5、6、第一拉深槽7的與盤40的接觸面實(shí)施。作為涂層材料，最好使用在顆粒直徑為20微米的氨基甲酸乙酯樹脂中配合了氟和硅的涂層材料，該氟相對(duì)氨基甲酸乙酯樹脂的配合比為5％，該硅相對(duì)氨基甲酸乙酯樹脂的配合比為1.0～1.5％。另外，涂層材料的摩擦系數(shù)最好在0.2～0.6，如為0.55或更小則更理想。
下面，根據(jù)圖3～圖7說明本實(shí)施例的動(dòng)作。
圖3為示出在本發(fā)明的實(shí)施方式的盤裝置中將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)之前的狀態(tài)的圖，圖4為示出將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)的開始的狀態(tài)的圖，圖5為示出將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)的途中的狀態(tài)、即盤與盤接合用接觸構(gòu)件的第一突部接觸的狀態(tài)的圖，圖6為示出將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)后的狀態(tài)、即盤與盤接合用接觸構(gòu)件的第一、二突部接觸的狀態(tài)的圖，圖7為示出將盤裝載到轉(zhuǎn)臺(tái)后、即盤處于可回轉(zhuǎn)的位置的狀態(tài)的圖。
如圖3所示那樣，移動(dòng)機(jī)構(gòu)50在盤保持機(jī)構(gòu)20處于第二狀態(tài)的場(chǎng)合，將盤接合用接觸構(gòu)件30接觸于盤40地使轉(zhuǎn)臺(tái)10相對(duì)盤接合用接觸構(gòu)件30朝箭頭B的方向相對(duì)移動(dòng)。然后，如圖4～圖5所示那樣，從盤接合用接觸構(gòu)件30的第一突部34接觸于盤40的狀態(tài)起，如圖6所示那樣，由移動(dòng)機(jī)構(gòu)50進(jìn)一步使轉(zhuǎn)臺(tái)10相對(duì)盤接合用接觸構(gòu)件30移動(dòng)，從而使盤接合用接觸構(gòu)件30的第一突部34和第二突部35朝轉(zhuǎn)臺(tái)10側(cè)相對(duì)地推壓盤40，這樣，盤保持機(jī)構(gòu)20的狀態(tài)從第二狀態(tài)成為第一狀態(tài)。然后，如圖6所示那樣，當(dāng)盤保持機(jī)構(gòu)20的狀態(tài)成為第一狀態(tài)時(shí)，移動(dòng)機(jī)構(gòu)50使轉(zhuǎn)臺(tái)10下降一些到達(dá)再生位置。
在該狀態(tài)下，盤接合用接觸構(gòu)件30成為不接觸盤40的狀態(tài)，但為了不損傷盤40，盤接合用接觸構(gòu)件30的第一突部34和第二突部35的下面，設(shè)有氨基甲酸乙酯涂層等公知的保護(hù)膜。
接合用接觸構(gòu)件30的上述狀態(tài)中的、盤40由盤保持機(jī)構(gòu)20完全保持的圖6、圖7的狀態(tài)為第一狀態(tài)，此外的圖3～圖5的狀態(tài)為第二狀態(tài)。
如圖1所示那樣，在本實(shí)施例中，定位于轉(zhuǎn)臺(tái)10上方的盤40通過轉(zhuǎn)臺(tái)10朝上方的移動(dòng)，使盤接合用接觸構(gòu)件30的第一突部34、第二突部35接觸于盤40，移動(dòng)機(jī)構(gòu)50進(jìn)一步使轉(zhuǎn)臺(tái)10相對(duì)盤接合用接觸構(gòu)件30移動(dòng)，從而使盤接合用接觸構(gòu)件30的第一突部34和第二突部35朝轉(zhuǎn)臺(tái)10側(cè)相對(duì)地推壓盤40，即使在盤40存在毛邊或粘合部的凹坑，第一突部34和第二突部35也確實(shí)地使盤保持機(jī)構(gòu)20的狀態(tài)從第二狀態(tài)成為第一狀態(tài)。
即，當(dāng)盤40相對(duì)地朝轉(zhuǎn)臺(tái)10側(cè)被推壓時(shí)，保持爪22一時(shí)反抗對(duì)保持爪22施力的彈性構(gòu)件23的施力朝箭頭C方向后退，此后，當(dāng)盤40到達(dá)轉(zhuǎn)臺(tái)10的盤支承面11上時(shí)，由彈性構(gòu)件23的施加力使保持爪22恢復(fù)到原來的狀態(tài)，成為保持爪22保持盤40的第一狀態(tài)。
這樣，完成盤40向轉(zhuǎn)臺(tái)10的裝載。
在本實(shí)施方式中，雖然將盤接合用接觸構(gòu)件30設(shè)于構(gòu)成盤裝置的外殼的上部筐體即頂板，但不限于此，例如即使形成為將盤接合用接觸構(gòu)件30設(shè)于收容盤裝置的信息設(shè)備的一部分的構(gòu)成，也可起到與上述盤裝載動(dòng)作相同的作用。
在本實(shí)施方式中，作為盤保持機(jī)構(gòu)20，形成為由設(shè)置了多個(gè)的保持爪22將盤40保持固定于轉(zhuǎn)臺(tái)10的構(gòu)成，但不限于此，例如也可由球狀的構(gòu)件、環(huán)狀的彈性構(gòu)件等保持固定。
另外，在本發(fā)明的實(shí)施方式中，由于在轉(zhuǎn)臺(tái)10的再生位置轉(zhuǎn)臺(tái)10保持水平地構(gòu)成，所以，在使盤接合用接觸構(gòu)件30與盤40接觸的狀態(tài)下，轉(zhuǎn)臺(tái)10相對(duì)盤接合用接觸構(gòu)件30傾斜角度θ(轉(zhuǎn)臺(tái)10按圓弧狀的軌跡升降)，但作為其它形式，轉(zhuǎn)臺(tái)10也可為垂直升降的機(jī)構(gòu)。當(dāng)采用垂直升降的機(jī)構(gòu)時(shí)，使保持爪22朝箭頭C方向縮回所需要的力同時(shí)地作用于多個(gè)保持爪22，但當(dāng)按圓弧狀軌跡升降時(shí)，力分散，所以，可減小使盤保持機(jī)構(gòu)20動(dòng)作所需要的力。
下面，根據(jù)圖8～圖11說明其它實(shí)施例。
圖8、圖9為另一實(shí)施例的盤接合用接觸構(gòu)件的主要部分截面圖，圖8為與圖2的B-B線相當(dāng)?shù)慕孛鎴D，圖9為與圖2的A-A線相當(dāng)?shù)慕孛鎴D。
盤接合用接觸構(gòu)件30具有在與盤支承面相對(duì)的位置作為傾斜面形成的第一變形部32和在盤支承面的內(nèi)周側(cè)作為拉深槽形成的第二變形部33，由第一變形部32形成第一突部34，由第二變形部33形成第二突部35。第二突部35比第一突部34更朝轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出，第一突部34的徑向的寬度比第二突部35的徑向?qū)挾却?。另外，通過使由第二變形部33形成的第二突部35的內(nèi)周端部朝與轉(zhuǎn)臺(tái)相反的一側(cè)突出，從而可提高第二突部35的剛性，可按強(qiáng)力推壓盤40。
圖10和圖11為再另一實(shí)施例的盤接合用接觸構(gòu)件的主要部分截面圖，圖10為與圖2的B-B線相當(dāng)?shù)慕孛鎴D，圖11為與圖2的A-A線相當(dāng)?shù)慕孛鎴D。
盤接合用接觸構(gòu)件30具有第一變形部32和第二變形部33，該第一變形部32在與盤支承面相對(duì)的位置作為傾斜面形成，該第二變形部33通過在盤支承面的內(nèi)周側(cè)朝與轉(zhuǎn)臺(tái)相反的一側(cè)使與該第一變形部32不同的角度的平面部突出而形成，由第一變形部32和第二變形部33形成最朝轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出的第二突部35。
按照本發(fā)明的盤裝置，具有盤接合用接觸構(gòu)件，該盤接合用接觸構(gòu)件在盤保持機(jī)構(gòu)的外周側(cè)，在轉(zhuǎn)臺(tái)的盤支承面的回轉(zhuǎn)軸側(cè)的相對(duì)位置兩段地進(jìn)行變形，朝盤具有兩段的突部，所以，即使如現(xiàn)有技術(shù)那樣在盤內(nèi)周側(cè)具有毛邊或粘合部的凹坑，也可確實(shí)地使盤移動(dòng)到轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)進(jìn)行保持，可進(jìn)行盤的確實(shí)的自動(dòng)裝載，不需要與夾持器相當(dāng)量的厚度，所以，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)裝卸操作盤裝置的薄型化。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性本發(fā)明在進(jìn)行CD、DVD等盤狀記錄媒體的記錄或再生的盤裝置中，即使如過去那樣在盤內(nèi)周側(cè)具有毛邊或粘合部的凹坑，也可確實(shí)地使盤移動(dòng)到轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)進(jìn)行保持，可進(jìn)行盤的確實(shí)的自動(dòng)裝載操作，所以，可利用于作為家用影像設(shè)備或計(jì)算機(jī)的外圍設(shè)備使用的、要求薄型化的盤裝置。
權(quán)利要求
1.一種盤裝置，具有轉(zhuǎn)臺(tái)、盤保持機(jī)構(gòu)、盤接合用接觸構(gòu)件，及移動(dòng)機(jī)構(gòu)；該轉(zhuǎn)臺(tái)具有用于放置帶有中心孔的盤的環(huán)狀的盤支承面，可繞回轉(zhuǎn)軸進(jìn)行回轉(zhuǎn)；該盤保持機(jī)構(gòu)在所述轉(zhuǎn)臺(tái)上保持所述盤；該盤接合用接觸構(gòu)件具有不與所述盤保持機(jī)構(gòu)接觸的孔，同時(shí)，在所述孔的外周具有朝所述轉(zhuǎn)臺(tái)突出的突部；該移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述盤接合用接觸構(gòu)件與所述轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)地接近或離開；其特征在于由形成于與所述盤支承面相對(duì)的位置的第一變形部和形成于所述盤支承面的內(nèi)周側(cè)的第二變形部構(gòu)成所述突部，由所述第二變形部形成的突部最往所述轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，其特征在于由所述第一變形部形成第一突部，由所述第二變形部形成第二突部，所述第二突部比所述第一突部更往所述轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，其特征在于由所述第二變形部形成的所述突部的內(nèi)周端部朝與所述轉(zhuǎn)臺(tái)相反的一側(cè)突出。
4.一種盤裝置，具有轉(zhuǎn)臺(tái)、盤保持機(jī)構(gòu)、盤接合用接觸構(gòu)件，及移動(dòng)機(jī)構(gòu)；該轉(zhuǎn)臺(tái)具有用于放置帶有中心孔的盤的環(huán)狀的盤支承面，可繞回轉(zhuǎn)軸進(jìn)行回轉(zhuǎn)；該盤保持機(jī)構(gòu)在所述轉(zhuǎn)臺(tái)上保持所述盤；該盤接合用接觸構(gòu)件具有不與所述盤保持機(jī)構(gòu)接觸的孔，同時(shí)，在所述孔的外周具有朝所述轉(zhuǎn)臺(tái)突出的突部；該移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述盤接合用接觸構(gòu)件與所述轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)地接近或離開；其特征在于由形成在與所述盤支承面相對(duì)的位置的第一突部和形成于所述盤支承面的內(nèi)周側(cè)的第二突部構(gòu)成所述突部，所述第二突部比所述第一突部更朝所述轉(zhuǎn)臺(tái)側(cè)突出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的盤裝置，其特征在于所述盤接合用接觸構(gòu)件的位置固定著，通過由所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)升降所述轉(zhuǎn)臺(tái)，從而使所述轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)所述盤接合用接觸構(gòu)件移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的盤裝置，其特征在于將所述盤接合用接觸構(gòu)件設(shè)于所述盤裝置的筐體或收容所述盤裝置的信息設(shè)備的一部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的盤裝置，其特征在于將所述突部形成為環(huán)狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的盤裝置，其特征在于將所述第一突部的徑向的寬度設(shè)定得比所述第二突部的徑向的寬度大。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的盤裝置，其特征在于當(dāng)所述盤接合用接觸構(gòu)件與所述盤接觸時(shí)，所述轉(zhuǎn)臺(tái)相對(duì)于所述盤接合用接觸構(gòu)件具有預(yù)定角度。
全文摘要
本發(fā)明的盤裝置具有轉(zhuǎn)臺(tái)(10)、盤保持機(jī)構(gòu)(20)、盤接合用接觸構(gòu)件(30)、及移動(dòng)機(jī)構(gòu)(50)；該轉(zhuǎn)臺(tái)(10)具有用于放置帶有中心孔的盤(40)的環(huán)狀的盤支承面(11)，可繞回轉(zhuǎn)軸進(jìn)行回轉(zhuǎn)；該盤保持機(jī)構(gòu)(20)在轉(zhuǎn)臺(tái)(10)上保持盤(40)；該盤接合用接觸構(gòu)件(30)具有不與盤保持機(jī)構(gòu)(20)接觸的孔(31)，同時(shí)，在孔(31)的外周具有朝轉(zhuǎn)臺(tái)(10)突出的突部(34、35)；該移動(dòng)機(jī)構(gòu)(50)可使盤接合用接觸構(gòu)件(30)與轉(zhuǎn)臺(tái)(10)相對(duì)地接近和離開；其中由形成于與盤支承面(11)相對(duì)的位置的第一變形部(32)和形成于盤支承面(11)的內(nèi)周側(cè)的第二變形部(33)構(gòu)成突部(34、35)，由第二變形部(33)形成的突部(34、35)最往轉(zhuǎn)臺(tái)(10)側(cè)突出。
文檔編號(hào)G11B17/028GK1849657SQ20048002580
公開日2006年10月18日 申請(qǐng)日期2004年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月8日
發(fā)明者和田慎一 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社