專利名稱：旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置和釋放致動器懸架裝置的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及約束與釋放致動器懸架裝置的技術(shù)，該技術(shù)在諸如磁盤裝置或光磁盤裝置之類的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置不運行，而讀寫頭/滑塊處于預(yù)定位置時，約束致動器懸架裝置的運行，而當旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置運行時，從約束狀態(tài)釋放致動器懸架裝置。更特別地，本發(fā)明涉及一種應(yīng)用簡單裝置在旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置所限定的小空間內(nèi)，約束和釋放致動器懸架裝置運行的技術(shù)。
現(xiàn)有技術(shù)一種磁盤裝置包括旋轉(zhuǎn)磁盤，具有在其一個表面上制成的磁性層，并適于繞主軸旋轉(zhuǎn)；致動器懸架裝置；和控制裝置，其控制數(shù)據(jù)讀和寫，并控制致動器懸架裝置的運行。致動器懸架裝置包括磁頭，其讀、寫數(shù)據(jù)；滑塊，磁頭安裝在其上，并用于提供一種空氣支撐表面(ABS)；懸架裝置，滑塊設(shè)置在其上；支架臂，懸架裝置與其連接，并適于繞樞軸轉(zhuǎn)動。
音頻線圈臂制成支架臂的一部分，以夾持音頻線圈。音頻線圈臂設(shè)置在音頻線圈磁體的磁場內(nèi)。音頻線圈磁體和音頻線圈構(gòu)成音頻線圈馬達(VCM)，該音頻線圈馬達生成一個驅(qū)動力以使音頻線圈臂轉(zhuǎn)動。
隨著磁盤的旋轉(zhuǎn)，滑塊表面上的空氣流形成一種空氣支撐，一個提升力作用在滑塊的空氣支撐表面，于是滑塊從磁盤表面略微提升。利用音頻線圈馬達的驅(qū)動力，滑塊繞樞軸本質(zhì)上在磁盤的半徑方向轉(zhuǎn)動，并從磁盤表面略微浮起，從而允許磁頭在磁盤表面的預(yù)定位置讀出或?qū)懭霐?shù)據(jù)。
當前存在將磁盤裝置安裝在便攜式信息裝置例如便攜式計算機上的趨勢。這樣，減小尺寸和提高抗沖擊性兩者都是需要的。當磁盤裝置不工作時，磁盤并不旋轉(zhuǎn)，于是空氣支撐不存在。在一種加載/卸載式磁盤裝置中，當磁盤的旋轉(zhuǎn)被停止，滑塊收回到設(shè)置在磁盤外稱為斜面的收回裝置。例如在專利文獻1中對斜面給予了說明。專利文獻1日本專利公開號No.11-110933。
隨著滑塊收回到斜面，如果一個沖擊力從外部施加在磁盤裝置上，導致滑塊運動至磁盤的記錄區(qū)，并與磁盤表面接觸，不是滑塊損壞就是磁盤損壞。必須消除這種損壞。
如果滑塊降落到處于靜止狀態(tài)的磁盤表面，在空氣支撐表面與磁盤表面之間會產(chǎn)生稱為靜摩擦的粘接現(xiàn)象。在靜摩擦狀態(tài)下，如果試圖使磁盤旋轉(zhuǎn)，磁盤表面可能損壞，或者發(fā)生最壞的情況，變成不可能啟動磁盤。
因此，在磁盤裝置中需要使用一種裝置，在滑塊已經(jīng)運動到收回位置后，該裝置牢固地將滑塊約束在其收回位置，直至重新啟動磁盤為止，即使有大的沖擊力施加在磁盤裝置上。此外，需要在磁盤重新啟動時立即釋放約束，從而允許致動器懸架裝置自由運行。
當滑塊處于被約束位置時，釋放致動器懸架裝置方法的例子包括磁式方法、電磁螺旋管式方法和慣性摯子式方法，這些方法在專利文獻2中作了說明。根據(jù)磁式方法，在致動器懸架裝置的支架臂一旦被磁體吸引，致動器被解除鎖定。吸引力的大小會遇到一個限度。此外，為了獲得大磁場強度，需要為大磁體保證大的空間。這樣，僅僅就磁體來說，就此而言就難于對抗大沖擊力。專利文獻2日本專利公開號No.8-339645電磁螺旋管式的缺點在于其結(jié)構(gòu)變得復雜。此外，由于慣性摯子在操作中具有游隙，在承載過程中產(chǎn)生聲音，結(jié)果使使用人覺得似乎里面的元件已經(jīng)掉出。其它方法的例子包括專利文獻3所公開的利用渦流電流的技術(shù)。專利文獻3美國專利No.6,462,913根據(jù)上述美國專利公開的技術(shù)，一種設(shè)置有彎鉤與磁體以鉤住致動器的旋轉(zhuǎn)圓盤，可以旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在一種盒的底板上，而當主軸的旋轉(zhuǎn)停止時，旋轉(zhuǎn)圓盤借助于磁力作用而處于鉤住位置，該磁力作用是通過磁體和在轂盤的背側(cè)制出的磁性材料所感生，而當主軸正在旋轉(zhuǎn)時，旋轉(zhuǎn)圓盤由于作用在磁體上渦流電流力而旋轉(zhuǎn)以解除對致動器的鎖定，該渦流電流是在轂盤內(nèi)生成的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一在于提供一種旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，被約束在收回位置的致動器懸架裝置在磁盤裝置啟動時被釋放，從而改進其抗沖擊性。
本發(fā)明的另一個目的在于提供一種旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，利用一種簡單而節(jié)省空間的結(jié)構(gòu)保證得到一種裝置，當磁盤裝置處于停止狀態(tài)時，該裝置約束住處于收回位置的致動器懸架裝置，當磁盤裝置啟動時，該裝置釋放致動器懸架裝置。
本發(fā)明的原理在于利用釋放致動器懸架裝置的運行時，在旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)中生成的渦流電流，該致動器懸架裝置的運行是在旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置的讀寫頭/滑塊處于收回狀態(tài)下被約束的。眾所周知，如果記錄介質(zhì)是用導電材料制成，而渦流磁體鄰近記錄介質(zhì)設(shè)置，使渦流磁體的一個磁極面對記錄介質(zhì)的表面，而且記錄介質(zhì)在這樣的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)，由磁極產(chǎn)生的磁通穿過記錄介質(zhì)，通過電磁感應(yīng)渦流電流流經(jīng)記錄介質(zhì)，而且，一個力沿與旋轉(zhuǎn)方向相同的方向，作用在平行于記錄介質(zhì)表面的渦流磁體的面上，一個力還沿垂直于記錄介質(zhì)表面的方向作用。
當旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置要停止運行，以及當旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的轉(zhuǎn)數(shù)為零或者不大于預(yù)定值時，需要約束致動器懸架裝置的運行，以避免讀寫頭/滑塊從其收回位置運動，從而提高抗沖擊性。此外，當準備轉(zhuǎn)動記錄介質(zhì)以啟動旋轉(zhuǎn)圓盤裝置時，致動器懸架裝置必須處于允許其自由運行的狀態(tài)。
渦流電流給予渦流磁體的力與記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)速度有關(guān)。就此而論，致動器懸架裝置必須約束的時期，與由渦流電流給予渦流磁體的力微弱或完全不存在的時期一致，而致動器懸架裝置必須釋放的時期，與記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)速度增加到不低于預(yù)定值的時期一致。如果這樣的事實得到利用，致動器懸架裝置應(yīng)當釋放的定時同步可以按照作用在渦流磁體上的力的大小而獲得。
在旋轉(zhuǎn)圓盤式記錄介質(zhì)是磁盤的情況下，關(guān)于通過渦流磁體在磁盤表面生成磁場，迄今為止還沒有研究到徹底的程度，例如，它可能導致所存儲數(shù)據(jù)的損壞。本發(fā)明已經(jīng)關(guān)注了這樣的事實磁盤表面制成的磁性層的抗磁力目前已經(jīng)變得更高；隨著與主軸之間的徑向分離，磁盤具有更高的外圓周速度，甚至相對較小的磁性負荷也可以提供足夠的力以致動釋放裝置，還考慮到這樣的知識，即使借助于磁體在磁盤內(nèi)生成渦流電流，對所存儲的數(shù)據(jù)也不存在影響。
本發(fā)明的第一方面提供了一種旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，該裝置包括盒；旋轉(zhuǎn)磁盤記錄介質(zhì)，其具有記錄區(qū)，至少記錄介質(zhì)的一部分區(qū)域是用導電材料制成；致動器懸架裝置，讀寫頭/滑塊設(shè)置在該裝置上，其上還設(shè)有音頻線圈馬達，致動器懸架裝置適于以這樣的方式操作，使讀寫頭/滑塊能繞被盒支撐的樞軸中心轉(zhuǎn)動，以在收回位置和記錄區(qū)之間運動；渦流磁體，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)一個由導電材料制成的區(qū)域的表面附近，渦流磁體具有面對旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的一個表面的磁極；和可運動裝置，其釋放被約束在收回位置的致動器懸架裝置，釋放是通過利用作用在渦流磁體上的渦流電流力執(zhí)行的，該渦流電流是借助于磁極在旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)中生成的。
根據(jù)在上述第一方面中的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，被已知裝置約束在收回位置的致動器懸架裝置，當存儲裝置即將運行時，可以由可運動裝置利用在記錄介質(zhì)中生成的渦流電流力，將其從約束狀態(tài)釋放。
致動器懸架裝置的約束是指致動器懸架裝置的運行被臨時地強制約束，使其在讀寫頭/滑塊處于收回狀態(tài)的過程中，沖擊或者類似因素不致使其運動。為了實現(xiàn)這種約束，可以在致動器懸架裝置和盒之間插入一種電氣裝置或機械裝置。
由于渦流磁體設(shè)置在記錄介質(zhì)附近，而其磁極是面對記錄介質(zhì)的表面，從磁極發(fā)出的磁通穿過記錄介質(zhì)，隨著記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生渦流電流，給予記錄介質(zhì)水平的力和垂直的力。在本發(fā)明中，并不總是要求渦流磁體離開記錄介質(zhì)一段距離。兩者可以彼此接觸到這樣的程度，只要不致阻礙記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)。
這些力可以用可能想象的許多方法利用。在其一端具有渦流磁體的臂，可以設(shè)置成可水平地或垂直地繞軸轉(zhuǎn)動，并可以在其旋轉(zhuǎn)時利用，或者可以將渦流磁體設(shè)置在懸臂梁的末端，以在梁位移時利用。
此外，可以采用一種方法，其中，一種渦流磁體被支撐在可以滑動的引導裝置上，當磁體被允許平行于或垂直于記錄介質(zhì)滑動時，磁體本身的運行得以被利用。在本發(fā)明的第一方面，當旋轉(zhuǎn)圓盤裝置即將啟動時，可運動裝置利用所討論的力，從而可以釋放被各種裝置約束的致動器懸架裝置。
本發(fā)明的第一方面可以應(yīng)用于加載/卸載式旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，該裝置利用一種斜面收回致動器懸架裝置，或者應(yīng)用于接觸啟動/停止式旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，該裝置利用記錄介質(zhì)的一種降落區(qū)。
在本發(fā)明的第一方面，可以設(shè)置一種可在約束區(qū)與釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動的摯子元件作為可運動裝置。作用在被摯子元件所夾持的渦流磁體上的力，被用作使摯子元件轉(zhuǎn)動的力，這樣，可以實現(xiàn)一種結(jié)構(gòu)簡單的釋放裝置。約束區(qū)是指摯子元件的一個轉(zhuǎn)動范圍，在其中，摯子元件可以直接地或者通過另一個元件間接地約束致動器懸架裝置，而釋放區(qū)是指摯子元件的一個轉(zhuǎn)動范圍，在其中，摯子元件可以從直接約束狀態(tài)或者從通過另一個元件的間接約束狀態(tài)，釋放致動器懸架裝置。
在約束區(qū)和釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動指的是可能存在這樣一個區(qū)域，該區(qū)域不能限定為它屬于兩個區(qū)域中的那一個區(qū)域，這是由于在約束區(qū)與釋放區(qū)之間存在遲滯特性。當摯子保持各種狀態(tài)其中之一時，約束區(qū)和釋放區(qū)并不總需要意味著摯子在某一區(qū)域轉(zhuǎn)動，但可以各自是表明某個特定約束位置或者釋放位置的區(qū)域。
在本發(fā)明的第一方面，可以設(shè)置一種偏轉(zhuǎn)裝置，當旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)以預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)，或者轉(zhuǎn)數(shù)較小，或者處于靜止狀態(tài)時，該偏轉(zhuǎn)裝置給予摯子元件一個偏轉(zhuǎn)力，以使摯子元件轉(zhuǎn)動到約束區(qū)。記錄介質(zhì)以預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)，或者轉(zhuǎn)數(shù)較小，或者處于靜止狀態(tài)的時期對應(yīng)于圓盤裝置不使用的時期，從而對應(yīng)于讀寫頭/滑塊被收回而致動器懸架裝置被約束的時期。通過這樣設(shè)置一種給予摯子元件以偏轉(zhuǎn)力的裝置，可以利用摯子元件作為約束裝置。
在本發(fā)明的第一方面，偏轉(zhuǎn)裝置可以由音頻線圈馬達的定子磁體，和渦流磁體或摯子元件的磁性部或磁體構(gòu)成。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，在設(shè)置了音頻線圈馬達的致動器懸架裝置中，不用設(shè)置特殊的部分就可以構(gòu)成偏轉(zhuǎn)裝置。偏轉(zhuǎn)裝置還可以用彈簧構(gòu)成。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，可以不受定子磁體和摯子元件之間相互關(guān)系的限制構(gòu)成偏轉(zhuǎn)裝置。通過采用這種偏轉(zhuǎn)裝置，致動器懸架裝置的約束與釋放可以用簡單的小尺寸裝置實現(xiàn)。
此外，在本發(fā)明的第一方面，摯子元件可以具有摯住部以約束致動器懸架裝置。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，摯子元件可以用于約束致動器懸架裝置。就是說，不必設(shè)置任何其它約束和釋放的元件，用簡單的小尺寸裝置就可以實現(xiàn)其功能。
此外，本發(fā)明的此第一方面可以采用一種結(jié)構(gòu)，其中，當摯子元件在約束區(qū)和釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動時，渦流磁體平行于或者本質(zhì)上垂直于旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的表面運動。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，利用定位在約束區(qū)的摯子元件，致動器懸架裝置被摯子元件的摯住部約束，而摯子元件通過利用作用在渦流磁體上的力而轉(zhuǎn)動，從而致動器懸架裝置可以被釋放。
此外，在本發(fā)明的第一方面，可以采用這樣一種結(jié)構(gòu)，其中，旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)具有一種非記錄區(qū)，而摯子元件在約束區(qū)與釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動，渦流磁體的磁極面本質(zhì)上面對非記錄區(qū)的表面。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，不必考慮渦流磁體的磁場對存儲在記錄介質(zhì)內(nèi)的數(shù)據(jù)的影響，于是，可以任意選擇合適的渦流磁體的磁場強度和記錄介質(zhì)合適的磁性層的抗磁力。
此外，在本發(fā)明的第一方面，通過在記錄介質(zhì)外周邊附近設(shè)置非記錄區(qū)，當摯子元件設(shè)置在接近記錄介質(zhì)外周邊處時，可以減小摯子元件的尺寸，由于在這個位置記錄介質(zhì)的圓周速度最高，有利于生成大渦流電流從而有利于獲得大力矩。
在本發(fā)明的第二方面，提供了一種旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，該裝置包括容納旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置的元件的裝置；存儲數(shù)據(jù)的裝置，數(shù)據(jù)存儲裝置被容納元件裝置可旋轉(zhuǎn)地支撐，并具有記錄區(qū)，至少數(shù)據(jù)存儲裝置的一部分區(qū)域是由導電材料制成；使讀寫頭/滑塊在收回位置和記錄區(qū)之間運動的裝置，讀寫頭/滑塊從數(shù)據(jù)存儲裝置讀取數(shù)據(jù)；將讀寫頭/滑塊運動裝置約束在收回位置的裝置；對數(shù)據(jù)存儲裝置的一個表面供給磁通的裝置，磁通供給裝置設(shè)置在數(shù)據(jù)存儲裝置的由導電材料制成區(qū)域的表面附近；釋放讀寫頭/滑塊運動的裝置，該裝置利用作用在磁通供給裝置的渦流電流的一個力，使讀寫頭/滑塊從約束狀態(tài)釋放，該渦流電流是借助于數(shù)據(jù)存儲裝置的旋轉(zhuǎn)由磁通在數(shù)據(jù)存儲裝置內(nèi)生成，約束釋放裝置夾持磁通供應(yīng)裝置。
在本發(fā)明的第三方面，提供了一種方法，該方法釋放被約束在旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置的收回位置的致動器懸架裝置，旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置具有旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)包括至少一部分由導電材料制成的區(qū)域；和致動器懸架裝置，該裝置包括讀寫頭/滑塊，本方法包括下列步驟使旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)，并借助于渦流磁體的磁極，允許渦流電流在旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)中生成；將渦流磁體以使其磁極面對由導電材料制成的區(qū)域的方式，設(shè)置在接近旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的位置；將基于渦流電流的力給予渦流磁體；利用給予渦流磁體的力，將致動器懸架裝置從約束狀態(tài)釋放。
根據(jù)本發(fā)明，如上所述，可以提供一種旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，渦流磁體設(shè)置成接近旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)，以生成渦流電流；致動器懸架裝置可以用簡單可靠的方式在一個小空間內(nèi)約束與釋放。此外，根據(jù)本發(fā)明，通過利用與上述相同的原理，可以提供一種約束與釋放致動器懸架裝置的方法。
對附圖的簡要說明圖1為透視圖，示出了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的磁盤裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖2為沿圖1中A-A線剖切的示意剖視圖。
圖3示出了根據(jù)圖1所示實施例的摯子元件和致動器懸架裝置的示意結(jié)構(gòu)。
圖4示出了根據(jù)圖1所示實施例的摯子元件的輪廓。
圖5示出了根據(jù)圖1所示實施例的摯子元件處于約束區(qū)的狀態(tài)，和該摯子元件處于釋放區(qū)域的狀態(tài)。
圖6示出了根據(jù)圖1所示實施例，作用在摯子元件上的力矩的實驗數(shù)據(jù)。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明第二實施例的磁盤裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖8示出了本發(fā)明又一個實施例的摯子元件的結(jié)構(gòu)。
圖9為一個方法的流程圖，該方法進一步實施本發(fā)明以約束與釋放致動器懸架裝置。
圖10為一個方法的流程圖，該方法進一步實施本發(fā)明以約束與釋放致動器懸架裝置。
圖11示出了一個給予摯子元件以偏轉(zhuǎn)力的例子。
對推薦實施例的詳細說明對本發(fā)明的實施例將結(jié)合


如下。圖1是從兩個方向觀察的透視圖，示出了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的磁盤裝置30的示意結(jié)構(gòu)，圖2是沿圖1中A-A線剖切的示意剖視圖，示出了磁盤裝置的主要部分。為了使說明簡化，在圖1中的斜面18在圖2中被省略。在磁盤裝置30中，作為旋轉(zhuǎn)磁盤式記錄介質(zhì)的兩個磁盤4a和4b，以及致動器懸架裝置8，均設(shè)置在由盒2和盒蓋(未示出)所限定的清潔氣密密封空間內(nèi)，該盒蓋覆蓋盒的上部。此外，一種控制磁盤裝置30運行和控制數(shù)據(jù)讀寫用的邏輯卡(未示出)，設(shè)置在盒2底部的外側(cè)。
作為磁疇改變的以保存數(shù)據(jù)的磁性層，連同其它各種用于改善粘接特性和磁特性，以及保護表面的各種涂層，用陰極真空噴鍍工藝過程，在磁盤4a和4b的每一個鋁基片上制出。本實施例所用磁盤的每一個磁性層具有3750奧斯特(Oe)的抗磁力。由于磁性層的抗磁力比較大，存儲在磁性層中的數(shù)據(jù)對外磁場敏感性較小。
本實施例所用的每一個磁盤的抗磁力設(shè)置成這樣的數(shù)量值，使其不致在附近磁體所形成的磁場影響下，使存儲的數(shù)據(jù)產(chǎn)生誤差。不過，正如將在后面說明的那樣，本實施例還提供了一種結(jié)構(gòu)，其中，即使磁盤的抗磁力小，存儲的數(shù)據(jù)也不會受影響。
對于本實施例所用的每一個磁盤而言，重要的是具有適度的電導性，這樣，磁盤的構(gòu)成材料在磁體電磁感應(yīng)下可能形成渦流電流的有效流。在本實施例中，鋁基片實現(xiàn)這一功能。在本實施例中，并不總是要求基片本身是電導體。也可以采用不導電的基片，因為本質(zhì)上用作渦流電流通路的導電層，可以用任何其它材料制成?；牟牧喜⒉痪窒抻阡X，例如可以是任何鋁鎂合金或者其它金屬。
此外，每一個磁盤并不要求基片或者其它的層在整個磁盤區(qū)域全是導電的。至少只有一部分渦流電流流動的區(qū)域是導電的。這種磁盤可以用已知的氣相沉積技術(shù)例如陰極真空噴鍍工藝制造。
在本實施例中，兩個磁盤4a和4b垂直地平行設(shè)置，并借助于主軸馬達(未示出)整體地一起繞主軸6旋轉(zhuǎn)。每一個磁盤在磁盤表面及其背面上設(shè)置了中央記錄區(qū)7以存儲數(shù)據(jù)，該記錄區(qū)占據(jù)磁盤表面或其背面的較大部分，而環(huán)行的非記錄區(qū)5沿記錄區(qū)的外周邊設(shè)置，此非記錄區(qū)不用于存儲數(shù)據(jù)。
致動器懸架裝置8包括支架臂10，該支架臂可以繞從盒2的底版垂直設(shè)置的樞軸20轉(zhuǎn)動；懸架裝置12a、12b、12c、12d，安裝在支架臂10的末端；磁頭/滑塊14a、14b、14c、14d，分別安裝在相應(yīng)的懸架裝置的末端。
在圖2中，設(shè)置了四個懸架裝置和四個磁頭/滑塊，以對應(yīng)于磁盤4a和4b的磁盤表面和其背面。磁頭/滑塊各自包括一個磁頭，其進行電信號和磁信號兩者的雙向轉(zhuǎn)換，在相應(yīng)的磁盤讀寫數(shù)據(jù)；滑塊，磁頭安裝在滑塊上。每一個磁頭/滑塊可以由只讀磁頭構(gòu)成，該只讀磁頭讀取存儲的磁信號，并將其轉(zhuǎn)換為電信號以再現(xiàn)信息，不在相應(yīng)的磁盤的記錄區(qū)7寫入數(shù)據(jù)。
在每一個滑塊的底面制出一種空氣支撐表面(ABS)。在每一個旋轉(zhuǎn)著的磁盤面生成一種空氣流，撞在滑塊的空氣支撐表面上，于是磁頭/滑塊受到一個提升力。具有這個提升力，磁頭/滑塊離開磁盤而與磁盤面保持微小的間隙，開始處于預(yù)定的位置。因此，通常在磁盤旋轉(zhuǎn)的過程中，磁頭/滑塊并不與磁盤接觸，即使磁頭/滑塊是設(shè)置在磁盤面的上方。
懸架裝置12a、12b、12c、和12d的末端分別制出突出的突出部16a、16b、16c和16d。一種斜面18(在圖2中未示出)設(shè)置在盒2上處于磁盤之外的位置。斜面是在加載/卸載方法中所采用的一種元件。該斜面是在磁盤裝置30的運行停止時，為磁頭/滑塊提供一個收回的場所。例如在日本專利公開號No.10-302421所公開的那樣。
當磁盤裝置30的運行要停止時，在磁盤停止運動之前，致動器懸架裝置8運動至磁盤之外，磁頭/滑塊收回到斜面中的一個收回位置，與此同時允許突出部與斜面滑動接觸。當致動器懸架裝置繞樞軸轉(zhuǎn)動至預(yù)定位置并到達斜面內(nèi)的收回位置時，四個磁頭/滑塊被夾持，使其相互相距一段預(yù)定的距離。就是說，即使有使磁頭/滑塊垂直加速的沖擊力施加在磁盤裝置上，磁頭/滑塊均彼此保持不接觸。
但是，斜面是供磁頭/滑塊臨時收回用的。當磁盤將要重新啟動時，致動器懸架裝置可以繞樞軸轉(zhuǎn)動到磁盤的記錄區(qū)7的一側(cè)。因此，如果磁頭/滑塊僅僅是收回而不用任何約束裝置約束，磁頭/滑塊可能在一種沖擊力的作用下落到磁盤的記錄區(qū)。
當磁盤是通過正常操作啟動時，磁盤首先旋轉(zhuǎn)，然后致動器懸架裝置8轉(zhuǎn)向磁盤，結(jié)果，在沿斜面的滑動表面滑動的同時，突出部離開斜面。然后，磁頭/滑塊運動到磁盤的表面處，并利用由進入磁盤與滑塊之間的空氣流所形成的空氣支撐避開磁盤表面，空氣流是由磁盤旋轉(zhuǎn)所生成。
線圈架22與支架臂10的后部制成一體并夾持音頻線圈24。在支架臂10的后部，軛架26a和26b設(shè)置在盒2的底板上，使其互相面對，音頻線圈磁體28a和28b各自由永久磁體構(gòu)成，分別設(shè)置在軛架26a和26b的內(nèi)側(cè)面，以限定一個磁性空間27。使致動器懸架裝置繞樞軸轉(zhuǎn)動的電流，流經(jīng)線圈架22所夾持的音頻線圈24。流過音頻線圈24的電流的大小和方向由邏輯卡控制，因此可以驅(qū)動致動器懸架裝置，并使磁頭/滑塊在預(yù)定位置定位。
線圈架22、音頻線圈24、音頻線圈磁體28a、28b和軛架26a、26b構(gòu)成音頻線圈馬達，并進一步構(gòu)成致動器懸架裝置的一部分。在此假定“致動器懸架裝置”這一術(shù)語主要指可運動部。
圖1中，當從圖紙上方觀察音頻線圈磁體時，設(shè)置在軛架26a的下側(cè)的音頻線圈磁體28a(見圖2)，其左手側(cè)為N極，右手側(cè)為S極，而與上音頻線圈相面對設(shè)置的音頻線圈磁體28b，所具有的左、右磁極分別與音頻線圈磁體28a的磁極的極性相反。就是說，音頻線圈磁體28a和28b設(shè)置成這樣，當電流被允許通過音頻線圈24時，由音頻線圈磁體所產(chǎn)生的磁場可以通過軛架26a和26b給予音頻線圈一個有效力。
在圖1中還示出了一種約束致動器懸架裝置的摯子元件50，設(shè)置在該裝置的收回位置。圖3示出了處于收回位置的致動器懸架裝置8被摯子元件50約束的狀態(tài)。圖4示出了從向下傾斜的角度和向上傾斜的角度兩個方向觀察的摯子元件的外觀輪廓。
如圖3所示，線圈架結(jié)合部23在線圈架22的末端制出，致動器懸架裝置被摯子元件50約束以抑制磁頭/滑塊朝向磁盤4a的運動。
在圖4中，摯子元件50用非磁性材料例如塑料制成，并包括摯子臂58，設(shè)置有中央軸孔52；磁體夾持部54，在摯子臂的一端制出；摯住部56，在摯子臂相反的另一端制出。摯子軸51(見圖3)從盒的底板垂直設(shè)置，插入中央軸孔52，這樣，摯子元件50可以繞摯子軸轉(zhuǎn)動。
渦流磁體60容納在磁體夾持部54中。利用設(shè)置在磁盤裝置的摯子元件50，渦流磁體的下磁極面定位成面向磁盤4a的表面。朝向磁盤4a表面的渦流磁體的磁極所發(fā)出的磁力線穿過磁盤。渦流磁體60可以用任何電磁體組成，但從簡化結(jié)構(gòu)的觀點出發(fā)，推薦使用永久磁體。如果渦流磁體是設(shè)置在磁盤4a的上方，不存在摯子元件50與疊層磁盤4a和4b的干涉，裝配磁盤存儲裝置不會碰到障礙。
盡管在本實施例中，渦流磁體只設(shè)置在磁盤4a的上表面上側(cè)，如果一個相反極性的渦流磁體也設(shè)置在相同磁盤的下表面下側(cè)以形成一個磁通路，就可以增加磁場強度，并從而增大作用在渦流磁體上的力。
渦流磁體的磁極并不要求是具有極高磁場強度的磁體，所以即使它不僅設(shè)置在磁盤4a表面上的非記錄區(qū)5，而且設(shè)置在與相同區(qū)域?qū)χ玫挠涗泤^(qū)7的任何位置，就可能允許有效渦流電流流動而不會對所存儲的數(shù)據(jù)帶來任何影響。這樣，無論磁極設(shè)置在任何位置，其作用可以顯現(xiàn)出來。在本實施例中，出于可靠性考慮，將磁極設(shè)置成使其面向非記錄區(qū)5，該非記錄區(qū)在接近磁盤外圓周處制成環(huán)行。
在本實施例中，從磁盤表面到與其面對的渦流磁體的磁極之間的距離設(shè)置為0.7mm，渦流磁體的磁場強度選擇為使其在正對磁極之下的磁盤表面處提供2150高斯(0.215Wb/m2)的磁通強度。在這一磁場強度與3750奧斯特的抗磁力之間的關(guān)系中，已經(jīng)確認，即使渦流磁體設(shè)置在記錄區(qū)7的上方，對所存儲的數(shù)據(jù)也沒有影響。不過，如果渦流磁體60設(shè)置在非記錄區(qū)5的上方，就不需要考慮磁盤的抗磁力和渦流磁體的磁場強度；此外，非記錄區(qū)5是磁盤上圓周速度最高處，因此這樣的設(shè)置對于獲得最大的渦流電流是適當?shù)摹?br> 在本實施例中，在利用渦流磁體60與音頻線圈磁體28a、28b之間的作用力時，渦流磁體60還作為一種偏轉(zhuǎn)裝置。面對磁盤的渦流磁體磁極的極性因此與音頻線圈磁體28a、28b的極性相關(guān)聯(lián)。偏轉(zhuǎn)裝置提供這樣一個扭矩，使摯子元件轉(zhuǎn)到約束區(qū)，即當致動器懸架裝置處于收回位置時，這個扭矩使摯子元件沿圖3中X方向轉(zhuǎn)動。
在本實施例中，既然音頻線圈28a的渦流磁體側(cè)是N極，而音頻線圈28b的渦流磁體側(cè)是S極，渦流磁體60的上側(cè)制成N極其面對磁盤的面因此是S極。這樣的結(jié)果，渦流磁體60從音頻線圈磁體接收一個推斥力，并給予一個偏轉(zhuǎn)力作用于摯子元件50，成為使其沿X方向旋轉(zhuǎn)運動的力。
根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，處于收回位置的致動器懸架裝置可以被摯子元件的摯住部56約束。當致動器懸架裝置8處于其收回位置時，摯住部56與在線圈架22上制出的線圈架結(jié)合部23結(jié)合，并約束磁頭/滑塊的運行，使其不在例如外部沖擊的作用下向磁盤運動。并非總是需要將線圈架結(jié)合部制成線圈架的一部分。可以在致動器懸架裝置的任何部位制出。
下面參看圖5，將對具有上述結(jié)構(gòu)的磁盤裝置的運行說明如下。圖5(A)示出了這樣一種狀態(tài)，其中，磁盤裝置處于靜止狀態(tài)，而致動器懸架裝置處于其收回位置(見圖1)。
即使有使磁頭/滑塊運動離開磁盤的沖擊力作用在處于收回位置的致動器懸架裝置上，致動器懸架裝置不會轉(zhuǎn)動出其收回位置之外。這可以用任何已知的方法實現(xiàn)。例如，致動器懸架裝置的運動可以用定界止擋阻止。
在圖5(A)所示狀態(tài)，依靠由音頻線圈磁體28a、28b與渦流磁體60之間感生的推斥力，即依靠偏轉(zhuǎn)力，摯子元件50在X方向經(jīng)受一個力，并繞摯子軸51轉(zhuǎn)動，摯子臂58貼靠盒的一點P而停止轉(zhuǎn)動。
圖5(A)中的摯子元件50是處于約束區(qū)，其中，在音頻線圈22末端制出的線圈架結(jié)合部23，與摯住部56彼此結(jié)合，以避免致動器懸架裝置沿使磁頭/滑塊接近磁盤的方向轉(zhuǎn)動。在本實施例中，約束區(qū)對應(yīng)于摯子元件繞樞軸轉(zhuǎn)動的范圍，其中，摯住部56可以約束線圈架結(jié)合部23，因此，這個范圍在摯子元件貼靠盒的P點之前達到。
因此，當致動器懸架裝置處于其收回位置，且摯子元件50處于約束區(qū)內(nèi)時，即使有強的沖擊力從外部施加在磁盤裝置，借助于摯子元件，致動器懸架裝置被牢固地固定在盒上，磁頭/滑塊不可能運動到磁盤的表面，不可能損壞磁盤，不可能產(chǎn)生靜摩擦。
下面的說明是針對當磁盤4a和4b旋轉(zhuǎn)以使磁盤裝置運行時要執(zhí)行什么操作。當準備要操作磁盤裝置30時，需要將致動器懸架裝置從其被摯子元件50約束的狀態(tài)釋放，使磁頭/滑塊能夠向磁盤運動。
在圖5(A)所示狀態(tài)，如果磁盤4a是沿Z方向旋轉(zhuǎn)，由于渦流磁體60所發(fā)出的磁力線與由電導體制成的磁盤之間的相對運動，根據(jù)Fleming的右手定律，一種稱為渦流電流的感應(yīng)電流流經(jīng)磁盤。由于渦流電流處于渦流磁體60的磁場內(nèi)，基于Fleming的左手定律的一種力作用在磁盤與渦流磁體之間。結(jié)果，渦流磁體60在與磁盤4a旋轉(zhuǎn)相同的方向作用一個力。
這個由渦流電流感應(yīng)的力，取決于渦流磁體的磁場強度、渦流磁體與磁盤之間的距離、磁盤的電特性和旋轉(zhuǎn)磁盤的圓周速度。在本實施例中，所討論的力選擇為超過偏轉(zhuǎn)力。因此，由于磁盤旋轉(zhuǎn)速度增加，沿Y方向作用在摯子元件上的力變得更大，摯子元件繞摯子軸51旋轉(zhuǎn)上到圖5(B)所示的釋放區(qū)，最終摯子臂58與盒側(cè)壁的Q點接觸而停止。此原理也像Arago的磁盤是眾所周知的。
如圖5(B)所示，在釋放區(qū)的摯子元件50的摯住部56，不再處于與線圈架結(jié)合部23結(jié)合的位置，于是，致動器懸架裝置與摯子元件脫離結(jié)合而可以轉(zhuǎn)動，以使磁頭/滑塊向磁盤運動。本實施例中，在摯子元件的摯子臂58貼靠盒的側(cè)壁的Q點之前，摯子元件到達了釋放區(qū)。
當磁盤裝置被引入停止狀態(tài)時，首先，磁頭/滑塊收回到斜面，致動器懸架裝置處于圖5(A)所示位置。當磁盤正在旋轉(zhuǎn)時，一個力沿Y方向作用在摯子元件50上，該力大于X方向偏轉(zhuǎn)力，但是，當磁盤電源切斷時，磁盤的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)數(shù)逐漸減少，X方向的偏轉(zhuǎn)力變成大于Y方向的力。因此，摯子元件朝向約束區(qū)轉(zhuǎn)動，并最終與盒的側(cè)壁的P點接觸而停止。與此同時，摯住部56與線圈架結(jié)合部23結(jié)合，以約束致動器懸架裝置。
在本發(fā)明中，致動器懸架裝置從其被約束狀態(tài)釋放的定時，可以設(shè)置成與致動器懸架裝置必須實際自由操作的定時一致，即必須與允許磁盤旋轉(zhuǎn)的定時一致。這樣，借助于簡單結(jié)構(gòu)得以實現(xiàn)約束/釋放裝置，而并不要求任何其它特別裝置。
此外，由于渦流磁體是設(shè)置在可以保證高圓周速度的磁盤外圓周，就可以減小渦流磁體的尺寸，這對于獲得力矩以使摯子元件反抗偏轉(zhuǎn)力而轉(zhuǎn)動是必需的。這樣，根據(jù)本發(fā)明的摯子元件在盒內(nèi)所需要的空間可以小。
圖6(A)和6(B)示出了作用在上述摯子元件上的力矩實驗數(shù)據(jù)。圖6(A)示出了當3.5型磁盤裝置的厚度為1.27mm磁盤以7200rpm旋轉(zhuǎn)時，改變渦流磁體與磁盤表面之間的距離，作用在摯子元件上的力矩測得值。此測量所用的渦流磁體是圖1中所示的渦流磁體。在圖6(A)中，曲線(a)表述去除了音頻線圈的測量結(jié)果，曲線(b)表述設(shè)置了音頻線圈以生成偏轉(zhuǎn)力的測量結(jié)果。
曲線(c)表述了對應(yīng)于渦流磁體和音頻線圈磁體所感生的偏轉(zhuǎn)力的曲線(a)與曲線(b)之間的差異。曲線(b)超出曲線(c)的區(qū)間對應(yīng)于這樣的區(qū)間，在該區(qū)間，可能獲得一個力矩以允許摯子元件借助于渦流電流轉(zhuǎn)動到釋放區(qū)。
圖6(B)示出了作用在摯子元件上的力矩，該力矩是當渦流磁體的磁極面面對3.5型磁盤裝置的1.27mm厚的磁盤，并與之相距0.81mm，而且磁盤的旋轉(zhuǎn)速度在變化時產(chǎn)生的力矩。曲線(d)表示去除了音頻線圈的測量結(jié)果，而曲線(e)表示安裝了音頻線圈磁體以生成偏轉(zhuǎn)力的測量結(jié)果。
曲線(f)表述了對應(yīng)于渦流磁體和音頻線圈磁體所感生的偏轉(zhuǎn)力的曲線(d)與曲線(e)之間的差異。曲線(e)超出曲線(f)的區(qū)間對應(yīng)于這樣的區(qū)間，在該區(qū)間，可能獲得一個力矩以允許摯子元件借助于渦流電流轉(zhuǎn)動到釋放區(qū)域。
在參考圖1至6所述的上述實施例中，渦流磁體60與音頻線圈磁體28a、28b之間的推斥力，被用作一種偏轉(zhuǎn)力以在約束區(qū)定位摯子元件50。另一個獲得偏轉(zhuǎn)的例子，是使摯子元件的一部分用磁性材料或者磁體構(gòu)成，并利用作用在其與音頻線圈磁體之間的力。
磁性材料或磁體被鑲嵌在圖4所示用塑料制成的摯子元件上標明57的位置。如果摯子元件設(shè)置成圖3所示，可以在音頻線圈磁體28a、28b和摯子元件之間生成一個吸引力，并允許摯子元件在X方向轉(zhuǎn)動，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員一目了然的是，磁體57可以相對于軸孔52鑲嵌在磁體夾持器側(cè)，在音頻線圈磁體與磁體57之間的推斥力可以利用。
當只有磁性材料或磁體57被用于產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)力時，渦流磁體60設(shè)置在不受音頻線圈磁體的磁場影響的位置。此外，作用在音頻線圈磁體和渦流磁體之間的偏轉(zhuǎn)力，和作用在音頻線圈磁體與磁性材料或磁體57之間的偏轉(zhuǎn)力可能組合在一起。
獲得偏轉(zhuǎn)力方法的另一個例子是這樣，其中，可以引入一個彈簧與摯子元件結(jié)合，以利用彈簧的彈性力。圖11示出了一種利用彈簧獲得偏轉(zhuǎn)力的結(jié)構(gòu)。與圖4所示的摯子元件50相比較，圖11中示出的摯子元件53包括彈簧止擋61；彈簧63，繞具有軸孔52的支撐部設(shè)置。彈簧63的一端貼靠盒的側(cè)壁，而彈簧的相反一端貼靠彈簧止擋61，對彈簧止擋施加一個偏轉(zhuǎn)力以使摯子元件沿X方向(見圖3)轉(zhuǎn)動。
當只利用彈簧63產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)力時，渦流磁體60設(shè)置在不受音頻線圈磁體的磁場影響的位置。此外，作用在音頻線圈磁體與渦流磁體之間的偏轉(zhuǎn)力和由彈簧生成的偏轉(zhuǎn)力可能組合在一起。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明第二實施例的磁盤裝置90的示意性結(jié)構(gòu)。用導電材料制成的磁盤80，安裝成可以繞主軸84轉(zhuǎn)動。磁盤80具有降落區(qū)82，在磁盤內(nèi)周邊附近制成；記錄區(qū)94，在降落區(qū)之外制成。降落區(qū)82是在磁盤一個表面上具有稱為紋理的凹凸不平形狀的區(qū)域。降落區(qū)的功能是當磁盤停止旋轉(zhuǎn)空氣支撐失去作用時，提供磁頭/滑塊88得以降落的區(qū)域，或者充當在磁盤旋轉(zhuǎn)時移開磁頭/滑塊的區(qū)域。利用降落區(qū)使磁頭/滑塊的收回方法稱為接觸啟動/停止(CSS)法。
當磁頭/滑塊降落在磁盤上或者從磁盤移開時，降落區(qū)的紋理起減小摩擦力和避免磁盤表面磨損的作用。致動器懸架裝置86制成可以繞樞軸92轉(zhuǎn)動。也在磁盤裝置90的運行停止，而磁頭/滑塊置放成與降落區(qū)82的上表面接觸的情況下，當沖擊力施加在磁盤裝置90時，需要避免磁頭/滑塊運動到記錄區(qū)94，。這與如上所述關(guān)于圖1的加載/卸載方法的情況相同。
在圖7所示實施例中，處于收回位置的磁頭/滑塊向主軸84的轉(zhuǎn)動，可以通過已知的方法防止，例如使用物理止擋阻止致動器懸架裝置86。為了避免磁頭/滑塊運動到記錄區(qū)94，并使致動器懸架裝置能夠按需要運行，當啟動磁盤裝置的運行時，采用一種摯子元件100，該摯子元件應(yīng)用圖3至圖5所述摯子元件的原理。
在摯子元件100中，摯子臂104設(shè)置在摯子元件的一端，摯子臂上具有渦流磁體102，在摯子元件相反的另一端具有摯住部108，軸孔在摯子臂104的中央部制出。從盒底板垂直設(shè)置的摯子軸106插入軸孔，于是摯子元件100可以轉(zhuǎn)動地被支撐。摯住部108由磁性材料或磁體構(gòu)成，并受到音頻線圈磁體(未示出)的吸引力(偏轉(zhuǎn)力)吸引。因此，當磁盤80停止旋轉(zhuǎn)時，摯子元件沿X方向轉(zhuǎn)動直至貼靠定程止擋105，該定程止擋例如用盒的壁構(gòu)成，并定位在約束區(qū)。線圈架87在其一端設(shè)置了線圈架結(jié)合部89。
下面對具有圖7所示結(jié)構(gòu)的本實施例磁盤裝置的運行給予說明。當致動器懸架裝置86處于其收回位置時，摯子元件100借助于偏轉(zhuǎn)力置放在約束區(qū)。處于收回位置的致動器懸架裝置通過已知的方法約束，使其不致繞樞軸轉(zhuǎn)向主軸84，而其繞樞軸轉(zhuǎn)向記錄區(qū)94的運動則被一種裝置約束，該裝置包括摯子元件100的摯住部108、線圈架結(jié)合部89和定程止擋105。
如果磁盤94沿Z方向旋轉(zhuǎn)，由于在磁盤94內(nèi)流動的渦流電流的作用，沿Y方向的一個力作用在渦流磁體102上，使摯子元件100沿Y方向繞摯子軸106轉(zhuǎn)動。作用在摯子元件上的力選擇為，當磁盤的轉(zhuǎn)數(shù)達到一個預(yù)定值或者更大時，使該作用力變得大于偏轉(zhuǎn)力。既然摯子元件100沿Y方向轉(zhuǎn)動，它最終進入釋放區(qū)，從而摯住部108和線圈架結(jié)合部89彼此結(jié)合，致動器懸架裝置被從約束狀態(tài)釋放，變成可以繞樞軸轉(zhuǎn)向記錄區(qū)。
在收回運動中，磁頭/滑塊在磁盤停止旋轉(zhuǎn)之前收回到降落區(qū)，然后切斷磁盤裝置的電源，隨著沿X方向的偏轉(zhuǎn)力變得大于Y方向的作用力的結(jié)果，允許磁盤的轉(zhuǎn)數(shù)逐漸減小。因此，摯子元件沿X方向轉(zhuǎn)動并進入約束區(qū)，然后，摯住部108與線圈架結(jié)合部89結(jié)合，以約束致動器懸架裝置。
盡管在上面已經(jīng)提及的實施例中，致動器懸架裝置從約束狀態(tài)到釋放狀態(tài)，是利用基于渦流電流并沿平行于磁盤表面方向作用在渦流磁體上的力，渦流電流還產(chǎn)生一個力，該力作用以拉動渦流磁體的磁極，使其從磁盤表面垂直離開。圖8示出了有關(guān)利用這種沿垂直方向作用力的收回與釋放裝置的實施例。
為避免與根據(jù)本發(fā)明實施例的上述說明重復，圖8只示出了主要部分。在圖8中，示出了磁盤134，用導電材料制成；摯子元件131；和線圈架122，該線圈架是致動器懸架裝置的一部分。線圈架結(jié)合部124設(shè)置成線圈架的一部分。
在摯子元件131中，渦流磁體132設(shè)置在摯子臂128的一端，而由磁性材料或磁體構(gòu)成的摯住部135，設(shè)置在摯子臂128相反的一端部，摯子元件131被垂直地支撐，借助于固定在盒底板120上的軸承130可以繞樞軸轉(zhuǎn)動。此外，設(shè)置了偏轉(zhuǎn)磁體126以吸引摯住部135，并給予摯子元件131一個偏轉(zhuǎn)力。
當摯子臂128隨著作用在摯子元件131上的偏轉(zhuǎn)力而轉(zhuǎn)動并在其最終位置停止時，渦流磁體132的一個磁極面，和磁盤134的一個表面彼此面對，其間保持微小的間隙。
下面針對具有上述結(jié)構(gòu)的實施例的運行給予說明。當致動器懸架裝置處于其收回位置，而磁盤134的旋轉(zhuǎn)停止時，摯住部135借助于偏轉(zhuǎn)磁體126收回，與線圈架結(jié)合部124結(jié)合并約束住致動器懸架裝置。
當磁盤131沿Z方向旋轉(zhuǎn)時，渦流磁體132的磁通穿過磁盤，通過電磁感應(yīng)產(chǎn)生一個渦流電流，對渦流磁體給予一個力，此力沿向下方向(圖8中向下)以拉動磁體從磁盤離開。此力選擇為大于摯住部135和偏轉(zhuǎn)磁體126兩者產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)力。利用這個力，摯子臂繞軸承130沿Y方向轉(zhuǎn)動以釋放對致動器懸架裝置的約束。
停止磁盤運動的操作原理與前面實施例中上述原理相同。首先，磁頭/滑塊收回，然后磁盤的旋轉(zhuǎn)停止。結(jié)果，隨著基于渦流電流的力的減小，摯子元件借助偏轉(zhuǎn)力沿X方向轉(zhuǎn)動，摯住部135約束致動器懸架裝置。
美國專利No.6,462,913所公開的技術(shù)，利用環(huán)繞主軸制出的轂盤所產(chǎn)生的渦流電流。此轂盤設(shè)置在磁盤的中央，并將一個旋轉(zhuǎn)盤，設(shè)置在低于由處于最低水平高度的磁盤所限定的空間內(nèi)。此外，轂盤旋轉(zhuǎn)表面的圓周速度低于磁盤的圓周速度，于是，為了獲得旋轉(zhuǎn)圓盤的足夠旋轉(zhuǎn)力矩，磁體的尺寸傾向于變得更大。在本發(fā)明的上述實施例中，不需要利用磁盤下面的空間，而高圓周速度可以通過利用磁盤平面的外部空間獲得，這是比較容易保證的。因此，前面的實施例肯定可以適應(yīng)近年來日益增長的使磁盤裝置減小尺寸和降低厚度的要求。
其次，參看圖9，對實施本發(fā)明釋放致動器懸架裝置的方法給予說明。在同一圖中，方框202中，致動器懸架裝置通過已知的方法被約束在收回位置。約束方法并不特別限制，因為致動器懸架裝置可以通過利用作用在渦流磁體上的力釋放。例如，可以采用機械方法或者機械方法和電氣方法兩者的組合。
在方框204中，渦流磁體以這樣的方式設(shè)置在鄰近磁盤處，使渦流磁體的磁極面向磁盤表面。推薦磁極和磁盤表面盡可能近地定位在這樣的范圍，其中，即使在存在制造誤差或者外在因素，磁極與磁盤兩者彼此都不會接觸。這是由于從磁極發(fā)出的磁通可以有效地利用，而這可以減小渦流磁體的尺寸。不過，本發(fā)明的范圍并不把磁極與磁盤表面彼此接觸的情況排除在外。
在方框206中，用導電材料制成的磁盤旋轉(zhuǎn)。在本實施例中，磁盤的啟動也具有一種定時裝置，獲得釋放約束的力的同時，釋放對致動器懸架裝置的約束。在方框208中，通過由渦流磁體感生的電磁感應(yīng)的作用，在磁盤中生成渦流電流。
在方框210中，渦流電流作用一個力于磁體，而在方框212中，致動器懸架裝置的約束通過利用該力而釋放。作用于渦流磁體的力的方向有兩個方向旋轉(zhuǎn)方向，平行于磁盤表面；平行于磁盤表面并沿離開磁盤方向延伸的方向。兩者中的任何一個，或者兩者的組合均可以利用。
其次，參看圖10，對實施本發(fā)明的約束和釋放致動器懸架裝置的方法給予說明。在方框222中，設(shè)置了摯子元件，以約束和釋放致動器懸架裝置。
在方框224，磁頭/滑塊收回到斜面或者降落區(qū)，致動器懸架裝置放在收回位置。在方框226中，摯子元件定位在約束區(qū)域，以約束處于收回位置的致動器懸架裝置。在方框228，渦流磁體設(shè)置在靠近磁盤表面的位置。在方框230，磁盤旋轉(zhuǎn)，并借助于渦流磁體的磁場，在磁盤中產(chǎn)生渦流電流。
在方框232中，通過利用渦流電流給予渦流磁體的力，使摯子元件處于釋放區(qū)，以釋放致動器懸架裝置。在方框234中，當磁盤的旋轉(zhuǎn)速度降低以關(guān)閉磁盤裝置時，摯子元件再次處于約束區(qū)以允許約束致動器懸架裝置。
盡管對本發(fā)明已經(jīng)結(jié)合附圖所示具體的實施例說明如上，不用說本發(fā)明并不局限于這些實施例，在本發(fā)明所獲得的效果范圍內(nèi)可以采用已知的任何結(jié)構(gòu)。
附圖標記注釋2盒4a、4b、80、134磁盤5磁盤的非記錄區(qū)6、84主軸7、94磁盤的記錄區(qū)8、86致動器懸架裝置10支架臂12a、12b、12c、12d懸架裝置14a、14b、14c、14d磁頭/滑塊16a、16b、16c、16d突出部18斜面20、92樞軸
22、87、122線圈架23、89、124線圈架結(jié)合部24音頻線圈26a、26b軛架27磁場空間28a、28b音頻線圈磁體30、90、134磁盤裝置50、53、100、131摯子元件51、106摯子軸52軸孔54磁體夾持器56、108、135摯住部57磁性材料或者磁體58、104、128摯子臂60、102、132渦流磁體61彈簧止擋63彈簧82降落區(qū)105定程止擋126偏轉(zhuǎn)磁體圖6作用在摯子元件上的力矩磁盤-磁極間距離磁盤旋轉(zhuǎn)速度圖9202約束致動器懸架裝置204在磁盤附近設(shè)置渦流磁體206使磁盤旋轉(zhuǎn)208在磁盤內(nèi)生成渦流電流
210通過渦流電流給予渦流磁體一個力212利用給予渦流磁體以一個力，釋放致動器懸架裝置的約束圖10222設(shè)置摯子元件224使致動器懸架裝置處于收回位置226使摯子元件處于約束區(qū)以約束致動器懸架裝置228設(shè)置渦流磁體，使其面對磁盤230轉(zhuǎn)動磁盤以生成渦流電流232通過利用作用在渦流磁體上的渦流電流力釋放致動器懸架裝置234使磁盤旋轉(zhuǎn)變慢以使摯子元件轉(zhuǎn)動至其約束區(qū)
權(quán)利要求
1.一種旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其包括盒；旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)，其具有記錄區(qū)，至少記錄介質(zhì)的一部分區(qū)域由導電材料制成；致動器懸架裝置，讀寫頭/滑塊連接在該裝置上，該裝置包括音頻線圈馬達，所述致動器懸架裝置適于以這樣的方式操作，使所述讀寫頭/滑塊以由所述盒支撐的樞軸為中心轉(zhuǎn)動，以在收回位置和所述記錄區(qū)之間運動；渦流磁體，其設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)一個區(qū)域的表面附近，該區(qū)域由導電材料制成，所述渦流磁體具有面對所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的一個表面的磁極；和可運動裝置，其釋放被約束在所述收回位置的所述致動器懸架裝置，所述釋放是通過利用作用在所述渦流磁體上的渦流電流力執(zhí)行的，該渦流電流借助于所述磁極在所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)中生成。
2.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，還包括一斜面，其中，所述致動器懸架裝置收回，而使所述讀寫頭/滑塊定位在所述斜面處。
3.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)具有降落區(qū)，而所述致動器懸架裝置使所述讀寫頭/滑塊收回到所述降落區(qū)。
4.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述可運動裝置是一摯子元件，該摯子元件適于以由所述盒支撐的摯子軸為中心在約束區(qū)和釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動。
5.如權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，還包括一偏轉(zhuǎn)裝置，當所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)以預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)，或者低于預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)旋轉(zhuǎn)，或者處于靜止狀態(tài)時，該偏轉(zhuǎn)裝置給予所述摯子元件一個偏轉(zhuǎn)力，以使摯子元件轉(zhuǎn)動到所述約束區(qū)。
6.如權(quán)利要求5所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述偏轉(zhuǎn)裝置包括所述音頻線圈馬達的定子磁體和所述渦流磁體。
7.如權(quán)利要求5所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述摯子元件具有磁性部或者磁體，而所述偏轉(zhuǎn)裝置包括所述磁性部或所述磁體，以及所述音頻線圈馬達的定子磁體。
8.如權(quán)利要求5所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，還包括與所述摯子元件相連的彈簧，其中，所述偏轉(zhuǎn)裝置包括所述彈簧。
9.如權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，摯子元件具有約束所述致動器懸架裝置的摯住部。
10.如權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述摯子元件適于在約束區(qū)和釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動，這樣，所述渦流磁體平行于所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的表面運動。
11.如權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述摯子元件適于在約束區(qū)與釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動，這樣，所述渦流磁體本質(zhì)上垂直于所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的表面運動。
12.如權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)具有非記錄區(qū)，而所述摯子元件在約束區(qū)和釋放區(qū)之間轉(zhuǎn)動時，所述渦流磁體的磁極本質(zhì)上面對所述非記錄區(qū)的表面。
13.如權(quán)利要求12所述的旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其中，所述非記錄區(qū)設(shè)置在接近所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的外圓周。
14.一種旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置，其包括容納旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置元件的裝置；存儲數(shù)據(jù)的裝置，所述數(shù)據(jù)存儲裝置被所述容納元件裝置可旋轉(zhuǎn)地支撐，并具有記錄區(qū)，至少所述數(shù)據(jù)存儲裝置的一部分區(qū)域由導電材料制成；使讀寫頭/滑塊在收回位置和所述記錄區(qū)之間運動的裝置，所述讀寫頭/滑塊從所述數(shù)據(jù)存儲裝置讀取數(shù)據(jù)；將所述讀寫頭/滑塊運動裝置約束在所述收回位置的裝置；向所述數(shù)據(jù)存儲裝置的一個表面供給磁通的裝置，所述磁通供給裝置設(shè)置在所述數(shù)據(jù)存儲裝置由導電材料制成的區(qū)域的表面附近；和釋放所述讀寫頭/滑塊的裝置，該裝置利用作用在所述磁通供給裝置的渦流電流的一個力使讀寫頭/滑塊從約束狀態(tài)釋放，該渦流電流借助于數(shù)據(jù)存儲裝置的旋轉(zhuǎn)，通過所述磁通在所述數(shù)據(jù)存儲裝置內(nèi)生成，所述約束釋放裝置保持著所述磁通供應(yīng)裝置。
15.一種釋放被約束在旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置收回位置的致動器懸架裝置的方法，所述旋轉(zhuǎn)圓盤存儲裝置具有旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)包括至少一部分由導電材料制成的區(qū)域和包括讀寫頭/滑塊的致動器懸架裝置，所述方法包括下列步驟使所述旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)旋轉(zhuǎn)，并借助于渦流磁體的磁極，允許渦流電流在旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)中生成，所述渦流磁體以使其磁極面對所述由導電材料制成的區(qū)域的方式，設(shè)置在接近旋轉(zhuǎn)圓盤記錄介質(zhì)的位置；將基于所述渦流電流的力給予所述渦流磁體；和利用給予所述渦流磁體的力，將所述致動器懸架裝置從約束狀態(tài)釋放。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，基于所述渦流電流并給予所述渦流磁體的力作用在平行于所述旋轉(zhuǎn)磁盤記錄介質(zhì)的一個表面的方向。
17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，基于所述渦流電流并給予所述渦流磁體的力作用在本質(zhì)上垂直于所述旋轉(zhuǎn)磁盤記錄介質(zhì)的一個表面的方向。
全文摘要
一種裝置以約束和釋放磁盤裝置中處于收回位置的致動器懸架裝置。在磁盤裝置中，磁盤4a用導電材料制成，并設(shè)置一種摯子元件50，該摯子元件在其一端夾持一個渦流磁體，并在其相反的一端設(shè)有摯住部。致動器懸架裝置8處于收回位置，并在其線圈架結(jié)合部23由摯子元件約束。渦流磁體以這樣的方式設(shè)置，使磁體的一個磁極在靠近磁盤表面的位置面對磁盤表面。當磁盤旋轉(zhuǎn)時，生成渦流電流，而一個力作用在渦流磁體上，這樣，摯子元件轉(zhuǎn)動并釋放致動器懸架裝置。本發(fā)明的優(yōu)點是改進了抗沖擊性。
文檔編號G11B5/54GK1542828SQ20041003128
公開日2004年11月3日 申請日期2004年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月28日
發(fā)明者太田睦郎, 茶碗谷健, 早川賢, 健 申請人:日立環(huán)球儲存科技荷蘭有限公司