專利名稱：磁頭滑動(dòng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁盤裝置中使用的磁頭滑動(dòng)器，特別涉及計(jì)算機(jī)硬盤中使用的磁頭滑動(dòng)器。
背景技術(shù)：
磁盤裝置包括磁盤和磁頭滑動(dòng)器，磁頭滑動(dòng)器被懸浮地支撐著，用于向磁盤中寫入信息和從磁盤中讀取信息。磁頭滑動(dòng)器具有磁轉(zhuǎn)換元件和懸浮導(dǎo)軌，作用于懸浮導(dǎo)軌的空氣流使磁頭滑動(dòng)器懸浮在磁盤上。近來的磁頭滑動(dòng)器包括基座部分；連接在基座部分上并且形成有磁轉(zhuǎn)換元件的元件形成部分。具有代表性的磁頭滑動(dòng)器，基座部分由アルチツク(Al2O3TiC)形成，元件形成部分由氧化鋁制作。
日本專利特開平5-28429號(hào)公報(bào)公開的磁頭滑動(dòng)器，使元件形成部分的表面從基座部分的表面后退，在使用時(shí)元件形成部分表面的磁轉(zhuǎn)換元件的前端的開口不易接觸到磁盤。
日本專利特開平7-182628號(hào)公報(bào)公開的磁頭滑動(dòng)器，由玻璃等形成基座部分，由碳膜覆蓋基座部分和元件形成部分。
日本專利特開平7-230615號(hào)公報(bào)公開的磁頭滑動(dòng)器，在基座部分和元件形成部分之間的高低差的部位上，只在元件形成部分形成保護(hù)膜。
日本專利特開2000-173217號(hào)公報(bào)公開了一種負(fù)壓型磁頭滑動(dòng)器。該負(fù)壓型磁頭滑動(dòng)器的懸浮導(dǎo)軌包括第1懸浮導(dǎo)軌部分，其具有在滑動(dòng)器主體的橫向延伸的橫向部分、和從該橫向部分兩端沿滑動(dòng)器主體的長度方向延伸的長度方向部分；兩個(gè)第2懸浮導(dǎo)軌部分，在第1懸浮導(dǎo)軌部分的后方，在滑動(dòng)器主體的橫向隔開間隔而設(shè)置。
在第1和第2懸浮導(dǎo)軌部分的表面形成空氣軸承。在使用時(shí)，使在懸浮導(dǎo)軌的空氣軸承表面產(chǎn)生的懸浮力、和在第1懸浮導(dǎo)軌部分的背后側(cè)產(chǎn)生的負(fù)壓平衡，可以把磁頭滑動(dòng)器相對(duì)磁盤的懸浮量保持為更小的值。
在第1和第2懸浮導(dǎo)軌部分的表面以及從該表面突出的空氣軸承的表面形成碳膜等保護(hù)膜。另一方面，在滑動(dòng)器主體的懸浮導(dǎo)軌突出的表面，一直沒有設(shè)置保護(hù)膜。
磁頭滑動(dòng)器相對(duì)磁盤的懸浮量具有降低趨勢(shì)。伴隨磁頭滑動(dòng)器的懸浮量的降低，磁頭滑動(dòng)器更接近磁盤。在磁盤的表面涂覆有潤滑劑，如果磁頭滑動(dòng)器接近磁盤，則磁盤上的潤滑劑以膏狀或其他狀態(tài)轉(zhuǎn)移附著在磁頭滑動(dòng)器上。
從磁盤上轉(zhuǎn)移附著在磁頭滑動(dòng)器上的潤滑劑如果能夠從磁頭滑動(dòng)器上流走，則不會(huì)有什么問題。但是，如果潤滑劑堆積在磁頭滑動(dòng)器上，則磁頭滑動(dòng)器的平衡被破壞，具有給磁轉(zhuǎn)換元件帶來不良影響的問題。如果由氧化鋁制作的元件形成部分和由アルチツク形成的基座部分之間具有高低差，則潤滑劑容易堆積在該高低差部分。在制造磁頭滑動(dòng)器時(shí)，磁頭滑動(dòng)器通過研磨機(jī)械加工變平坦，但由于元件形成部分和基座部分硬度不同，所以在元件形成部分和基座部分之間形成微小的高低差。因此，存在附著在磁轉(zhuǎn)換元件附近的潤滑劑給磁轉(zhuǎn)換元件帶來不良影響，在搜尋時(shí)產(chǎn)生懸浮吸附，懸浮狀態(tài)惡化，特性不穩(wěn)定等問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種使媒介物的潤滑劑不易附著在磁轉(zhuǎn)換元件附近的磁頭滑動(dòng)器。
本發(fā)明的磁頭滑動(dòng)器的特征在于，具有滑動(dòng)器主體，其包括基座部分、及連接在該基座部分上并且形成有磁轉(zhuǎn)換元件的元件形成部分；在使用時(shí)與媒介物相面對(duì)的該滑動(dòng)器主體的第1表面；懸浮導(dǎo)軌，從該滑動(dòng)器主體的第1表面突出設(shè)置，并且具有第2表面；第1保護(hù)膜，其設(shè)在滑動(dòng)器主體的第1表面上，覆蓋該元件形成部分和該基座部分的交界；以及第2保護(hù)膜，設(shè)在該懸浮導(dǎo)軌的第2表面上，用于保護(hù)該磁轉(zhuǎn)換元件。
在這種結(jié)構(gòu)中，第1保護(hù)膜設(shè)置在包括滑動(dòng)器主體的第1表面的元件形成部分和該基座部分的交界的部分。第1保護(hù)膜覆蓋元件形成部分和基座部分的交界，即使元件形成部分和基座部分的交界具有高低差，也能夠緩解該高低差，防止轉(zhuǎn)移附著在磁頭滑動(dòng)器上的潤滑劑的堆積。因此，能夠緩和由于潤滑劑的堆積給磁轉(zhuǎn)換元件帶來的不良影響。第2保護(hù)膜保護(hù)磁轉(zhuǎn)換元件。
優(yōu)選第1保護(hù)膜的厚度和第2保護(hù)膜的厚度不同。該情況時(shí)，優(yōu)選第1保護(hù)膜的厚度比第2保護(hù)膜的厚度厚。由此，可以防止?jié)櫥瑒┰诖蓬^滑動(dòng)器上堆積，并且不會(huì)增大磁頭滑動(dòng)器的磁轉(zhuǎn)換元件的磁極所在部分的厚度。
優(yōu)選第1保護(hù)膜和第2保護(hù)膜由含氟的碳膜形成，第1保護(hù)膜的含氟量高于第2保護(hù)膜的含氟量。第1和第2保護(hù)膜使用含氟的碳膜，由此抑制潤滑劑的附著。并且，如果增加保護(hù)膜的含氟量，則防水性、防油性提高，但耐久性降低。因此，通過使第1保護(hù)膜的含氟量高于第2保護(hù)膜的含氟量，可以提高第1保護(hù)膜的防止?jié)櫥瑒┒逊e作用，并且不會(huì)惡化懸浮導(dǎo)軌的第2保護(hù)膜的特性。
本發(fā)明的另一形式的磁頭滑動(dòng)器的特征在于，具有滑動(dòng)器主體，其包括基座部分、及連接在該基座部分上并且形成有磁轉(zhuǎn)換元件的元件形成部分；在使用時(shí)與媒介物相面對(duì)的該滑動(dòng)器主體的第1表面；懸浮導(dǎo)軌，從該滑動(dòng)器主體的第1表面突出設(shè)置，并且具有第2表面；空氣軸承部分，從該懸浮導(dǎo)軌的第2表面突出設(shè)置，并且具有第3表面；第1保護(hù)膜，設(shè)在滑動(dòng)器主體的第1表面上，覆蓋該元件形成部分和該基座部分的交界；設(shè)在該懸浮導(dǎo)軌的第2表面上的第2保護(hù)膜；第3保護(hù)膜，設(shè)在該空氣軸承的第3表面上，用于保護(hù)該磁轉(zhuǎn)換元件。
在這種結(jié)構(gòu)中，第1保護(hù)膜設(shè)置在包括滑動(dòng)器主體的第1表面的元件形成部分和該基座部分的交界的部分。第1保護(hù)膜覆蓋元件形成部分和基座部分的交界，即使元件形成部分和基座部分的交界具有高低差，也能夠緩解該高低差，防止轉(zhuǎn)移附著在磁頭滑動(dòng)器上的潤滑劑的堆積。因此，能夠緩和由于潤滑劑的堆積給磁轉(zhuǎn)換元件帶來的不良影響。第2和第3保護(hù)膜保護(hù)磁轉(zhuǎn)換元件。
優(yōu)選下述的懸浮導(dǎo)軌，其包括第1懸浮導(dǎo)軌部分，其具有在該滑動(dòng)器主體的橫向延伸的橫向部分、和從該橫向部分兩端沿該滑動(dòng)器主體的長度方向延伸的長度方向部分；兩個(gè)第2懸浮導(dǎo)軌部分，在該第1懸浮導(dǎo)軌部分的后方，在該滑動(dòng)器主體的橫向隔開間隔設(shè)置。該懸浮導(dǎo)軌起到形成負(fù)壓型磁頭滑動(dòng)器的作用。


圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施例涉及的磁盤裝置的俯視圖。
圖2是表示本發(fā)明的實(shí)施例涉及的磁頭滑動(dòng)器的立體圖。
圖3是表示省略了保護(hù)膜的圖2所示磁頭滑動(dòng)器的立體圖。
圖4是概略表示包括圖3所示磁頭滑動(dòng)器的元件形成部分和基座部分的交界部分的剖面圖。
圖5是概略表示包括圖2所示磁頭滑動(dòng)器的元件形成部分和基座部分的交界部分的剖面圖。
圖6是表示保護(hù)膜的含氟量和保護(hù)膜的硬度的關(guān)系圖。
圖7是表示保護(hù)膜的含氟量和保護(hù)膜與水的接觸角的關(guān)系圖。
圖8是表示本發(fā)明的其他實(shí)施例的磁頭滑動(dòng)器的俯視圖。
圖9是將圖8所示磁頭滑動(dòng)器的一部分放大表示的立體圖。
圖10是沿圖8所示磁頭滑動(dòng)器的X-X線的剖面圖。
具體實(shí)施例方式
圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施例涉及的磁盤裝置的俯視圖。在圖1中，磁盤裝置(HDD)10具有殼體11，在殼體11上配置有安裝在主軸電機(jī)12上的磁盤13、和與磁盤13相面對(duì)的磁頭滑動(dòng)器14。磁頭滑動(dòng)器14被固定于可以繞著軸15擺動(dòng)的承載臂16的前端。承載臂16被驅(qū)動(dòng)器17驅(qū)動(dòng)著擺動(dòng)，從而磁頭滑動(dòng)器14被定位于磁盤13的所期望的記錄磁道上。由此，磁頭滑動(dòng)器14可以向磁盤13寫入信息或從磁盤13讀出信息。
圖2是表示本發(fā)明的實(shí)施例涉及的磁頭滑動(dòng)器14的立體圖。圖3是表示省略了保護(hù)膜的圖2所示磁頭滑動(dòng)器14的立體圖。在圖2和圖3中，磁頭滑動(dòng)器14具有滑動(dòng)器主體20?；瑒?dòng)器主體20包括基座部分21和連接在基座部分21上的元件形成部分22。元件形成部分22具有利用薄膜形成工藝制作的磁轉(zhuǎn)換元件23，磁轉(zhuǎn)換元件23具有磁極24?；糠?1由アルチツク(Al2O3TiC)制成，元件形成部分22由氧化鋁(Al2O3)制成。25表示元件形成部分22和基座部分21的交界。箭頭A表示在使用磁盤裝置10時(shí)空氣對(duì)于磁頭滑動(dòng)器14的相對(duì)流動(dòng)方向。
磁頭滑動(dòng)器14具有在使用時(shí)與磁盤13相面對(duì)的表面(第1表面)26。磁頭滑動(dòng)器14的第1表面26包括元件形成部分22和基座部分21的交界25。一對(duì)平行的懸浮導(dǎo)軌27從滑動(dòng)器主體的第1表面26突出設(shè)置。懸浮導(dǎo)軌27具有第2表面28。磁極24呈現(xiàn)于懸浮導(dǎo)軌27的第2表面28上。
第1保護(hù)膜29設(shè)在滑動(dòng)器主體20的第1表面26上，覆蓋元件形成部分22和基座部分21的交界25。第2保護(hù)膜30設(shè)在懸浮導(dǎo)軌27的第2表面28上，用于保護(hù)磁轉(zhuǎn)換元件23的磁極24。第2保護(hù)膜30是用來防止磁轉(zhuǎn)換元件23的磁極24的腐蝕和受損。在圖3中，省略了第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30，所以能夠看到第1表面26和第2表面28。在圖2中，第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30分別形成于第1表面26和第2表面28上。
圖4是概略表示包括圖3所示磁頭滑動(dòng)器14的元件形成部分22和基座部分21的交界25的部分的剖面圖。在制造磁頭滑動(dòng)器14時(shí)，第1表面26通過研磨機(jī)械加工變平坦。但是，元件形成部分22由氧化鋁制成，基座部分21由アルチツク制成，由于氧化鋁和アルチツク的硬度不同，所以在第1表面26的元件形成部分22和基座部分21之間的交界25形成微小的高低差31。即，元件形成部分22在第1表面26的部分低于基座部分21在第1表面26的部分。如果存在這種高低差31，涂覆在磁盤13表面的潤滑劑轉(zhuǎn)移附著在磁頭滑動(dòng)器14上后，沿著第1表面26流動(dòng)的潤滑劑容易堆積在高低差31的底部。
圖5是概略表示包括圖2所示磁頭滑動(dòng)器14的元件形成部分22和基座部分21的交界25的部分的剖面圖。第1保護(hù)膜29設(shè)在滑動(dòng)器主體20的第1表面26上，覆蓋元件形成部分22和基座部分21的交界25，即跨越元件形成部分22和基座部分21而設(shè)置。因?yàn)榈?保護(hù)膜29覆蓋元件形成部分22和基座部分21的交界25，所以第1保護(hù)膜29在高低差31的表面與高低差31露出的情況相比變得平滑。因此，從磁盤13轉(zhuǎn)移附著在磁頭滑動(dòng)器14上的潤滑劑容易沿著滑動(dòng)器主體20的第1表面26流動(dòng)，防止?jié)櫥瑒┒逊e。從而，能夠緩和因潤滑劑的堆積給磁轉(zhuǎn)換元件23帶來的不良影響。并且，磁頭滑動(dòng)器14的懸浮動(dòng)作不會(huì)受堆積的潤滑劑的妨礙。
第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30優(yōu)選由碳膜(例如DLC)形成。可以使第1保護(hù)膜29的厚度和第2保護(hù)膜30的厚度不同。該情況時(shí)，優(yōu)選第1保護(hù)膜29的厚度比第2保護(hù)膜30的厚度厚。由此，不會(huì)增大磁頭滑動(dòng)器14的厚度(磁轉(zhuǎn)換元件23的磁極24所在的部分的厚度)，從而實(shí)現(xiàn)磁頭滑動(dòng)器14的小型化，并且通過增加第1保護(hù)膜29的厚度，而使高低差31上的第1保護(hù)膜29更加平滑，以防止?jié)櫥瑒┰诖蓬^滑動(dòng)器14的第1表面26上堆積。例如，第1保護(hù)膜29的厚度為10nm，第2保護(hù)膜30的厚度為3～5nm。
并且，第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30優(yōu)選由含氟的碳膜形成。該情況時(shí)，優(yōu)選第1保護(hù)膜29的含氟量高于第2保護(hù)膜30的含氟量。
圖6是表示保護(hù)膜的相對(duì)于DLC的含氟量和保護(hù)膜的硬度的關(guān)系的圖。含氟量越多，保護(hù)膜的硬度越低。因此，為了提高保護(hù)膜的機(jī)械強(qiáng)度，優(yōu)選含氟量較少。
圖7是表示保護(hù)膜的相對(duì)于DLC的含氟量和保護(hù)膜與水的接觸角的關(guān)系的圖。含氟量越多，保護(hù)膜與水的接觸角越大。保護(hù)膜與水的接觸角越大，異物即潤滑劑越不容易附著在保護(hù)膜上。
這樣，通過將含氟的碳膜用于第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30，而抑制潤滑劑附著在第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30上。并且，如果增加保護(hù)膜的含氟量，則防水性、防油性提高，但耐久性降低。因此，通過使第1保護(hù)膜29的含氟量高于第2保護(hù)膜30的含氟量，可以提高防止?jié)櫥瑒┰诘?表面26堆積的效果，并且不會(huì)降低懸浮導(dǎo)軌27的機(jī)械強(qiáng)度。
圖8是表示本發(fā)明的其他實(shí)施例的磁頭滑動(dòng)器的俯視圖。圖9是將圖8所示磁頭滑動(dòng)器的部分放大表示的立體圖。圖10是沿圖8所示磁頭滑動(dòng)器的X-X線的剖面圖。圖8～圖10所示磁頭滑動(dòng)器是負(fù)壓型磁頭滑動(dòng)器的示例。
磁頭滑動(dòng)器14具有滑動(dòng)器主體20，該滑動(dòng)器主體20由基座部分21和連接在基座部分21上的元件形成部分22構(gòu)成?；糠?1由アルチツク(Al2O3TiC)制成，元件形成部分22由氧化鋁(Al2O3)制成。磁轉(zhuǎn)換元件23(參照?qǐng)D2和圖3)通過薄膜形成工藝形成于元件形成部分22上。磁轉(zhuǎn)換元件23具有磁極24。箭頭A表示磁盤裝置10在使用時(shí)空氣對(duì)于磁頭滑動(dòng)器14的相對(duì)流動(dòng)方向。
磁頭滑動(dòng)器14具有在使用時(shí)與磁盤13相面對(duì)的表面(第1表面)26。磁頭滑動(dòng)器14的第1表面26包括元件形成部分22和基座部分21的交界25。懸浮導(dǎo)軌27從滑動(dòng)器主體的第1表面26突出設(shè)置。懸浮導(dǎo)軌27具有第2表面28。如后面所述，懸浮導(dǎo)軌27的形狀與圖2和圖3所示懸浮導(dǎo)軌27的形狀不同。另外，空氣軸承33從懸浮導(dǎo)軌27的第2表面28突出設(shè)置?？諝廨S承33具有第3表面34。磁極24呈現(xiàn)于空氣軸承33的第3表面34上。
第1保護(hù)膜29設(shè)在滑動(dòng)器主體20的第1表面26上，覆蓋元件形成部分22和基座部分21的交界25。第2保護(hù)膜30設(shè)在懸浮導(dǎo)軌27的第2表面28上。第3保護(hù)膜35設(shè)在空氣軸承33的第3表面34上，用于保護(hù)磁轉(zhuǎn)換元件30的磁極24。在圖8中，也省略了第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30及第3保護(hù)膜35。
第1保護(hù)膜29的作用和前述實(shí)施例的第1保護(hù)膜29的作用相同，第2保護(hù)膜30及第3保護(hù)膜35的作用和前述實(shí)施例的第2保護(hù)膜30的作用相同。并且，第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30及第3保護(hù)膜35優(yōu)選由碳膜(例如DLC)形成，可以使第1保護(hù)膜29的厚度和第2保護(hù)膜30及第3保護(hù)膜35的厚度不同。該情況時(shí)，優(yōu)選第1保護(hù)膜29的厚度比第2保護(hù)膜30及第3保護(hù)膜35的厚度厚。由此，不會(huì)增大磁頭滑動(dòng)器14的厚度，從而實(shí)現(xiàn)磁頭滑動(dòng)器14的小型化，并且在第1表面26的元件形成部分22和基座部分21之間的交界25處產(chǎn)生的微小的高低差31上(參照?qǐng)D4和圖5)，使第1保護(hù)膜29更加平滑，可以防止?jié)櫥瑒┰诖蓬^滑動(dòng)器14的第1表面26上堆積。
同樣，第1保護(hù)膜29和第2保護(hù)膜30及第3保護(hù)膜35優(yōu)選由含氟的碳膜形成。該情況時(shí)，優(yōu)選第1保護(hù)膜29的含氟量高于第2保護(hù)膜30及第3保護(hù)膜35的含氟量。
下面，詳細(xì)說明懸浮導(dǎo)軌27和空氣軸承33。懸浮導(dǎo)軌27包括第1懸浮導(dǎo)軌部分36，在空氣流動(dòng)方向A觀看時(shí)位于上游側(cè)；兩個(gè)第2懸浮導(dǎo)軌部分37，在第1懸浮導(dǎo)軌部分36的后方，在滑動(dòng)器主體20的橫向隔開間隔設(shè)置。空氣軸承33分別設(shè)在第1懸浮導(dǎo)軌部分36和第2懸浮導(dǎo)軌部分37上。
第1懸浮導(dǎo)軌部分36具有在滑動(dòng)器主體20的橫向延伸的橫向部分36A；和從橫向部分36A兩端沿滑動(dòng)器主體20的長度方向延伸的長度方向部分36B。由橫向部分36A和長度方向部分36B所包圍的空間的容積增大。在長度方向部分36B和第2懸浮導(dǎo)軌部分37之間具有長度方向間隙。
在使用時(shí)，一部分空氣越過第1懸浮導(dǎo)軌部分36的橫向部分36A而流過，流入其背后側(cè)的空間，再流向下游側(cè)。其他一部分空氣繞過第1懸浮導(dǎo)軌部分36的橫向部分36A和長度方向部分36B，沿著第2懸浮導(dǎo)軌部分37流過。并且，一部分空氣通過長度方向部分36B和第2懸浮導(dǎo)軌部分37之間的長度方向間隙，流入一對(duì)第2懸浮導(dǎo)軌部分37之間的空間中，再流向下游側(cè)。
空氣軸承33受到因空氣流動(dòng)而形成的懸浮力。該懸浮力作用于使磁頭滑動(dòng)器14從磁盤13離開的方向。另一方面，通過第1懸浮導(dǎo)軌部分36的橫向部分36A流入其背后側(cè)的空間的空氣流，由于該空間的容積增大而生成負(fù)壓。該負(fù)壓作用于使磁頭滑動(dòng)器14靠近磁盤13的方向。如果使懸浮力和負(fù)壓取得最佳平衡，則可以使磁頭滑動(dòng)器14相對(duì)磁盤13以較小的距離穩(wěn)定懸浮。
在制造該磁頭滑動(dòng)器14時(shí)，在形成有磁轉(zhuǎn)換元件23的狀態(tài)下，第2表面28成為磁頭滑動(dòng)器14(構(gòu)成磁頭滑動(dòng)器的塊體)的表面。因此，在磁頭滑動(dòng)器14的表面(第2表面28)隔著第1密接層形成作為第2保護(hù)膜30的第1碳層(DLC層)。另外，在第1碳層(DLC層)的表面隔著第2密接層形成作為第3保護(hù)膜35的第2碳層(DLC層)。因此，使用掩模對(duì)第2密接層和第2碳層(DLC層)進(jìn)行蝕刻，形成空氣軸承33和第3保護(hù)膜35。第2密接層的剩余部分成為空氣軸承33。另外，使用掩模對(duì)第1密接層和第2碳層(DLC層)進(jìn)行蝕刻，形成懸浮導(dǎo)軌27和第2保護(hù)膜30。在該蝕刻中，進(jìn)行磨削直到露出形成基座部分21的アルチツク層和形成元件形成部分22的氧化鋁層。結(jié)果，被磨削的層的底面低于第2表面28，成為磁頭滑動(dòng)器14的第1表面26。因此，懸浮導(dǎo)軌27從第1表面26突出。然后，在磁頭滑動(dòng)器14的第1表面26上形成第1保護(hù)膜29。圖10示出該特征。從而，可以改變第1保護(hù)膜29、第2保護(hù)膜30和第3保護(hù)膜35的厚度及組成。
在圖9中，通過蝕刻也可以磨削磁轉(zhuǎn)換元件23所在的懸浮導(dǎo)軌27部分的端部(下游側(cè)的第2懸浮導(dǎo)軌部分37的端部)。通過這種邊緣切削，可以使磁轉(zhuǎn)換元件23的磁極24接近磁盤13。第1保護(hù)膜29形成于第1表面26上，并且直到磁轉(zhuǎn)換元件23所在的懸浮導(dǎo)軌27部分的端部38的后側(cè)。由此，可以防止?jié)櫥瑒┒逊e在磁轉(zhuǎn)換元件23的形成位置附近。
權(quán)利要求
1.一種磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，具有滑動(dòng)器主體，其包括基座部分、及連接在該基座部分上并且形成有磁轉(zhuǎn)換元件的元件形成部分；在使用時(shí)與媒介物相面對(duì)的該滑動(dòng)器主體的第1表面；懸浮導(dǎo)軌，從該滑動(dòng)器主體的第1表面突出設(shè)置，并且具有第2表面；第1保護(hù)膜，設(shè)在滑動(dòng)器主體的第1表面上，覆蓋該元件形成部分和該基座部分的交界；第2保護(hù)膜，設(shè)在該懸浮導(dǎo)軌的第2表面上，用于保護(hù)該磁轉(zhuǎn)換元件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，該第1保護(hù)膜的厚度和該第2保護(hù)膜的厚度不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，該第1保護(hù)膜的厚度比該第2保護(hù)膜的厚度厚。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，該第1保護(hù)膜和該第2保護(hù)膜由含氟的碳膜形成，該第1保護(hù)膜的含氟量高于該第2保護(hù)膜的含氟量。
5.一種磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，具有滑動(dòng)器主體，其包括基座部分、及連接在該基座部分上并且形成有磁轉(zhuǎn)換元件的元件形成部分；在使用時(shí)與媒介物相面對(duì)的該滑動(dòng)器主體的第1表面；懸浮導(dǎo)軌，從該滑動(dòng)器主體的第1表面突出設(shè)置，并且具有第2表面；空氣軸承部分，從該懸浮導(dǎo)軌的第2表面突出設(shè)置，并且具有第3表面；第1保護(hù)膜，設(shè)在滑動(dòng)器主體的第1表面上，覆蓋該元件形成部分和該基座部分的交界；第2保護(hù)膜，設(shè)在該懸浮導(dǎo)軌的第2表面上；第3保護(hù)膜，設(shè)在該空氣軸承的第3表面上，用于保護(hù)該磁轉(zhuǎn)換元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，該懸浮導(dǎo)軌包括第1懸浮導(dǎo)軌部分，其具有在該滑動(dòng)器主體的橫向延伸的橫向部分、和從該橫向部分兩端沿該滑動(dòng)器主體的長度方向延伸的長度方向部分；兩個(gè)第2懸浮導(dǎo)軌部分，在該第1懸浮導(dǎo)軌部分的后方，在該滑動(dòng)器主體的橫向隔開間隔而設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，該第1保護(hù)膜的厚度與該第2及第3保護(hù)膜的厚度不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，該第1保護(hù)膜的厚度比該第2及第3保護(hù)膜的厚度厚。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁頭滑動(dòng)器，其特征在于，該第1保護(hù)膜和該第2保護(hù)膜及第3保護(hù)膜由含氟的碳膜形成，該第1保護(hù)膜的含氟量高于該第2及第3保護(hù)膜的含氟量。
全文摘要
一種磁頭滑動(dòng)器，具有滑動(dòng)器主體，該滑動(dòng)器主體包括由アルチツク制成的基座部分，和形成有磁轉(zhuǎn)換元件的由氧化鋁制成的元件形成部分。懸浮導(dǎo)軌從滑動(dòng)器主體的表面突出設(shè)置。第1保護(hù)膜設(shè)在滑動(dòng)器主體的表面上，并且覆蓋元件形成部分和基座部分的交界，以防止磁盤的潤滑劑堆積在基座部分和元件形成部分之間的交界部分。第2保護(hù)膜設(shè)在懸浮導(dǎo)軌的表面上，以防止磁轉(zhuǎn)換元件的腐蝕及受損。另外，在懸浮導(dǎo)軌上設(shè)置空氣軸承的情況下，在空氣軸承的表面設(shè)置第3保護(hù)膜。
文檔編號(hào)G11B5/60GK1714392SQ03825580
公開日2005年12月28日 申請(qǐng)日期2003年2月19日 優(yōu)先權(quán)日2003年2月19日
發(fā)明者笠松祥治, 吉田進(jìn), 武藏貴之 申請(qǐng)人:富士通株式會(huì)社