專(zhuān)利名稱(chēng)：多層光記錄介質(zhì)的制造方法及多層光記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具備在激光束的入射方向側(cè)的一面上形成了在其表面上形成有記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽的基材的同時(shí)，將一面形成有在其表面上形成有記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽的透光層疊層于所述基材上部的多層光記錄介質(zhì)的制造方法以及多層光記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
作為這種多層光記錄介質(zhì)，公知的有如圖18所示的多層(以2層為例)光記錄介質(zhì)31。該多層光記錄介質(zhì)31為所謂的單面多層光記錄介質(zhì)。在中心部形成有安裝用中心孔的平板狀(以圓盤(pán)狀為例)的基材D的上面，依次疊層有記錄層L1、隔離層SP、記錄層L0以及保護(hù)層C。在這種情況，基材D在保護(hù)層C側(cè)的表面形成有導(dǎo)向槽(紋道GR和紋間表面LD)等的微細(xì)凹凸(深度Ld12)。還有，記錄層L1由在該微細(xì)凹凸上疊層反射膜、相變化膜以及保護(hù)膜等而構(gòu)成。其中，反射膜反射記錄用激光束以及再生用激光束(以下，不作區(qū)別時(shí)也稱(chēng)作“激光束”)；相變化膜通過(guò)照射記錄用激光束，伴隨光學(xué)常數(shù)的變化而發(fā)生光反射率的變化；保護(hù)膜保護(hù)相變化膜。還有，隔離層SP由透光性樹(shù)脂所形成，并在其保護(hù)層C側(cè)的表面上形成有與形成在基材D上的微細(xì)凹凸的深度Ld12相同深度Ld02的紋道GR和紋間表面LD等的微細(xì)凹凸。還有，記錄層L0將相變化膜和保護(hù)膜等疊層在該微細(xì)凹凸上面而構(gòu)成。保護(hù)層C由透光性樹(shù)脂所形成。在該多層光記錄介質(zhì)31中，通過(guò)在該圖的箭頭A所指的方向由拾光器照射激光束，對(duì)記錄層L0和L1進(jìn)行記錄數(shù)據(jù)的記錄，或者從記錄層L0和L1讀取記錄數(shù)據(jù)。
下面，參照?qǐng)D14至圖18對(duì)該多層光記錄介質(zhì)31的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。
在制造該多層光記錄介質(zhì)31之際，首先，用金屬材料制作在其表面形成有微細(xì)凹凸的原模MSS，該微細(xì)凹凸與形成在基材D的表面的紋道GR、紋間表面LD以及坑等(以下，也稱(chēng)作“紋道GR和紋間表面LD等”)的微細(xì)凹凸具有同方向的微細(xì)凹凸(以下，也稱(chēng)作“同相微細(xì)凹凸”)。接著，如圖14所示，根據(jù)復(fù)制形成于該原模MSS表面的微細(xì)凹凸，用金屬材料制作在且表面形成有與紋道GR和紋間表面LD等的微細(xì)凹凸呈反轉(zhuǎn)方向(相位反轉(zhuǎn)的方向)的微細(xì)凹凸(以下，也稱(chēng)作“反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸”)的母壓模MTS11。在這種情況，因?yàn)橛媒饘俨牧现谱髂笁耗TS11，所以母壓模MTS11的微細(xì)凹凸相對(duì)于原模MSS的微細(xì)凹凸，其深度DPMS11相同且方向反轉(zhuǎn)。還有，如圖15所示，通過(guò)從該母壓模MTS11進(jìn)行復(fù)制，用金屬材料制作在其表面形成有與紋道GR和紋間表面LD等相同方向的同相微細(xì)凹凸的子壓模CHS。在這種情況，因?yàn)橛媒饘俨牧现谱髯訅耗HS，所以子壓模CHS的微細(xì)凸凹也相對(duì)于母壓模MTS11的微細(xì)凹凸，其深度DPMS11相同且方向反轉(zhuǎn)。
接著，如圖16所示，將母壓模MTS11以及子壓模CHS分別安裝在各自的樹(shù)脂成形用模具(沒(méi)有圖示)內(nèi)，通過(guò)向各模具里注射樹(shù)脂材料分別制作其表面形成有紋道GR和紋間表面LD等的基材D和保護(hù)層C。在這種情況，保護(hù)層C用透光性樹(shù)脂材料制作。接著，如圖17所示，在所制作的基材D的紋道GR和紋間表面LD等的上面形成記錄層L1，而在所制作的保護(hù)層C的微細(xì)凹凸形成面上形成記錄層L0。最后，如圖18所示，使基材D和保護(hù)層C的各自的微細(xì)凹凸形成面彼此相對(duì)，并用透光性樹(shù)脂制的粘著劑將他們粘合在一起。在這種情況，由透光性樹(shù)脂制的粘著劑所形成的粘著層構(gòu)成作為透光層的隔離層SP。在這種狀態(tài)，基材D上的記錄層L1和保護(hù)層C上(隔離層SP上)的記錄層L0對(duì)于入射光的方向，其方向同時(shí)具有相同的同相微細(xì)凹凸。還有，在與保護(hù)層C相接觸的隔離層SP的表面上，根據(jù)硬化前的粘著劑溶合于形成在保護(hù)層C上的微細(xì)凹凸，形成與該微細(xì)凹凸的方向呈反轉(zhuǎn)方向的微細(xì)凹凸。通過(guò)上述工序，可制作多層光記錄介質(zhì)31。而且，在各圖面上，雖然基材D以及隔離層SP的各自的紋道GR的槽寬在作圖上各不相同，而實(shí)際上兩者形成得基本相同。
然而，在這種制作方法中，因?yàn)橛米⑸涑尚沃谱鞅Ｗo(hù)層C，所以不易將保護(hù)層C的厚度形成得很薄，存在著多層光記錄介質(zhì)31的整個(gè)厚度變厚的問(wèn)題。
為此，申請(qǐng)人開(kāi)發(fā)了一種能夠制造保護(hù)層C的膜厚較薄的多層光記錄介質(zhì)41的制造方法。而且，該多層光記錄介質(zhì)41也與多層光記錄介質(zhì)31一樣，如圖25所示，通過(guò)在箭頭A所指的方向由拾光器照射激光束，對(duì)記錄層L0和L1進(jìn)行記錄數(shù)據(jù)的記錄，或者從記錄層L0和L1讀取記錄數(shù)據(jù)。以下，用圖19至圖25對(duì)該制造方法進(jìn)行說(shuō)明。而且，對(duì)于與多層光記錄介質(zhì)31同樣的結(jié)構(gòu)附上同樣的符號(hào)，并不重復(fù)說(shuō)明。
在該制造方法中，最初實(shí)施壓模制作工序。在該工序中，首先與上述的多層光記錄介質(zhì)31的制造方法一樣，制作一個(gè)原模MSS，并用該原模MSS制作金屬制的母壓模MTS11(參照?qǐng)D14)。此時(shí)，金屬材料具有良好的復(fù)制性并且可以忽視其收縮率，因而母壓模MTS11的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸與原模MSS的微細(xì)凹凸的深度DPMS11形成得基本相同。接著，使用該母壓模MTS11用金屬材料制作子壓模CHS(參照?qǐng)D15)。在這種情況，由于子壓模CHS也與母壓模MTS11一樣用金屬材料而制作，所以形成在其表面的同相微細(xì)凹凸與原模MSS的微細(xì)凹凸的深度DPMS11形成得基本相同。接著，如圖19所示，利用該子壓模CHS，用透光性的樹(shù)脂材料(例如，丙烯系樹(shù)脂或者烯烴系樹(shù)脂)制作壓模RS，該壓模RS的表面形成(復(fù)制)有與子壓模CHS的微細(xì)凹凸的方向呈反轉(zhuǎn)方向且與母壓模MTS11的方向呈同方向的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸。在這種情況，樹(shù)脂材料的復(fù)制性劣于金屬材料的復(fù)制性，且該樹(shù)脂材料的收縮率(在此例中為0.5％至1.5％)遠(yuǎn)比電鍍工序中的金屬材料的收縮率(例如，幾乎為0％)要大。因此，為了在其表面形成紋道GR和紋間表面LD等的壓模RS的微細(xì)凹凸的深度DPRS11要比子壓模CHS的微細(xì)凹凸的深度DPMS11形成得更淺。
接著，用所制造的各壓模實(shí)施多層光記錄介質(zhì)41的制造工序。在此工序中，首先，將母壓模MTS11安裝在樹(shù)脂成形用模具(沒(méi)有圖示)內(nèi)，通過(guò)向模具內(nèi)部注射樹(shù)脂材料(例如，PC(聚碳酸酯))，如圖20所示，制造表面形成(復(fù)制)有紋道GR和紋間表面LD等的導(dǎo)向槽的基材D。在這種情況，由于作為樹(shù)脂所使用的PC的收縮率為0.5％至1.5％，所以基材D的微細(xì)凹凸的深度Ld13相應(yīng)地比在母壓模MTS11的微細(xì)凹凸的深度DPMS11形成得更淺。接著，如圖21所示，在所制作的基材D的微細(xì)凹凸形成面上，用例如濺射法成膜記錄層L1。
其次，如圖22所示，在基材D的記錄層L1的形成面上滴下具有透光性的樹(shù)脂涂液R，并用旋轉(zhuǎn)涂膜法在基材D的整個(gè)表面上將涂液R涂成薄膜狀。接著，如圖23所示，在使其微細(xì)凹凸形成面朝向涂液R側(cè)的狀態(tài)下，將樹(shù)脂制的壓模RS覆蓋在涂有涂液R的基材D上面。在這種情況，當(dāng)在基材D上的涂敷進(jìn)行完了時(shí)，因?yàn)橥恳篟具有流動(dòng)性，所以一邊溶合于形成在壓模RS表面的微細(xì)凹凸形狀，一邊遍布在壓模RS與基材D之間的整個(gè)縫隙間。
接著，使涂液R進(jìn)行硬化。具體地說(shuō)，作為涂液R使用紫外線(xiàn)硬化型樹(shù)脂時(shí)，通過(guò)從壓模RS側(cè)進(jìn)行紫外線(xiàn)的照射，使涂液R進(jìn)行硬化。此時(shí)，根據(jù)從樹(shù)脂制的壓模RS到隔離層SP的復(fù)制性(起因于所使用的紫外線(xiàn)硬化型樹(shù)脂的收縮率，以及紫外線(xiàn)硬化型樹(shù)脂和樹(shù)脂制的壓模的接觸壓等)，形成在隔離層SP的紋間表面LD的深度Ld03要比形成在樹(shù)脂制的壓模RS的微細(xì)凹凸的深度DPRS11淺2％至10％。其次，如圖24所示，將壓模RS從基才D剝離開(kāi)。由此，完成表面形成(復(fù)制)有紋道GR和紋間表面LD等微細(xì)凹凸的隔離層SP。在這種情況，基材D的紋道GR(導(dǎo)向槽)根據(jù)作為樹(shù)脂所使用的PC的收縮率形成得較淺。一方面，隔離層SP的紋道GR，在制作壓模RS之際，由于樹(shù)脂的收縮使壓模RS的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸變淺，加上在形成隔離層SP之際，也因從壓模RS的復(fù)制性，相應(yīng)地要形成得更淺。因此，即使制作基材D時(shí)的樹(shù)脂的收縮與制作壓模RS時(shí)的樹(shù)脂的收縮為相同程度的情況，隔離層SP的紋道GR，也因從壓模RS的復(fù)制性而形成得較淺，相應(yīng)地確實(shí)比基材D的紋間表面LD的深度Ld13形成得要淺。
接著，如圖25所示，在所形成的隔離層SP的微細(xì)凹凸形成面上，例如用濺射法成膜記錄層L0。接著，根據(jù)在其記錄層LO上將涂液旋轉(zhuǎn)涂膜并使之硬化而形成保護(hù)層C。由此，完成多層光記錄介質(zhì)41的制造。根據(jù)該制造方法，因?yàn)橛眯D(zhuǎn)涂膜法制作保護(hù)層C，所以與用樹(shù)脂成形制造保護(hù)層的方法相比可以將保護(hù)層C的膜厚形成得較薄。
發(fā)明人對(duì)于使用上述壓模RS而制造的多層光記錄介質(zhì)41進(jìn)行了探討研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)有如下應(yīng)解決的課題。即，在該多層光記錄介質(zhì)41中，對(duì)于記錄層L1和LO進(jìn)行記錄數(shù)據(jù)的記錄，或者從記錄層LO和L1讀取記錄數(shù)據(jù)之際，利用從接收在各記錄層LO和L1所反射的激光束的拾光器輸出的跟蹤誤差信號(hào)進(jìn)行跟蹤伺服。此時(shí)，跟蹤誤差信號(hào)的信號(hào)強(qiáng)度受形成在基材D和隔離層SP的表面的紋間表面LD深度的影響。一般來(lái)講，在一定范圍之內(nèi)紋間表面LD越深其信號(hào)強(qiáng)度變得越大。具體來(lái)講，跟蹤誤差信號(hào)的信號(hào)強(qiáng)度Ip與紋間表面LD的深度Ld之間有下式成立。
Ip∝sin(2π·2·n·Ld/λ)在此，n為保護(hù)層C(或者隔離層SP)的折射率，λ代表激光束波長(zhǎng)。
另一方面，在多層光記錄介質(zhì)41中，如上所述，在制作基材D時(shí)的樹(shù)脂的收縮與制造壓模RS時(shí)的樹(shù)脂的收縮為相同程度的情況下，隔離層SP的紋間表面LD的深度Ld03，將起因于從壓模RS的復(fù)制性而形成得較淺，相應(yīng)地確實(shí)要比基材D的紋間表面LD的深度Ld13形成得更淺。為此，在該多層光記錄介質(zhì)41中，存在如下應(yīng)解決的課題比起對(duì)記錄層L1的跟蹤伺服，對(duì)記錄層LO的跟蹤伺服更不易進(jìn)行，從而有可能很難良好地對(duì)記錄層LO進(jìn)行記錄數(shù)據(jù)的記錄和從記錄層LO讀取記錄數(shù)據(jù)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于如上所述的應(yīng)改善點(diǎn)所進(jìn)行的。其主要目的在于提供一種良好地進(jìn)行對(duì)各記錄層的記錄數(shù)據(jù)的記錄和讀取，并能夠?qū)⒄麄€(gè)厚度形成得較薄的多層光記錄介質(zhì)的制造方法。還有，其另外的目的在于提供一種不加厚整個(gè)厚度且能夠良好地進(jìn)行對(duì)各記錄層的記錄數(shù)據(jù)的記錄和讀取的多層光記錄介質(zhì)。
本發(fā)明所涉及的一種多層光記錄介質(zhì)的制造方法，利用在壓模制作工序中所制作的壓模來(lái)制造所述多層光記錄介質(zhì)，所述多層光記錄介質(zhì)具備在激光束的入射方向側(cè)的一面上形成有跟蹤用導(dǎo)向槽的基材，所述跟蹤用導(dǎo)向槽的表面上形成有記錄層，同時(shí)，將透光層疊層在所述基材的上部，在所述透光層的一面上形成有在其表面上形成有記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽，其特征在于作為所述壓模制作工序，至少要實(shí)施如下制作工序制作金屬制的第1壓模和樹(shù)脂制壓模，其中，所述金屬制的第1壓模的表面上形成有與所述導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸，而所述樹(shù)脂制壓模從在其表面上形成有與所述導(dǎo)向槽的凹凸呈同方向的微細(xì)凹凸的金屬制的壓模進(jìn)行復(fù)制而成并且表面上形成有反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸，所述反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸與所述導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向、其深度比所述第1壓模的所述反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度更深，并且在所述透光層的形成之際被使用，可在該透光層的所述一面上形成與形成在所述基材的一面上的所述導(dǎo)向槽的深度相同或基本相同的所述導(dǎo)向槽；作為制造所述多層光記錄介質(zhì)的中間工序，至少要實(shí)施如下制作工序從所述第1壓模進(jìn)行復(fù)制，制作在所述一面上形成有所述導(dǎo)向槽的所述基材；在所述制作的基材的所述導(dǎo)向槽的所述表面上形成所述記錄層；在所述形成的記錄層的表面上涂敷透光性樹(shù)脂；在所述涂敷后的透光性樹(shù)脂的表面上形成從所述樹(shù)脂制壓模進(jìn)行復(fù)制而形成有其深度與形成在所述基材上的所述導(dǎo)向槽的深度相同或基本相同的所述導(dǎo)向槽的所述透光層；和在所述形成的透光層的所述導(dǎo)向槽的所述表面上形成所述記錄層。
在本多層光記錄介質(zhì)的制造方法中，作為壓模制作工序，至少要實(shí)施如下制作工序制作在其表面形成有與形成在基材和透光層的表面的導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的金屬制的第1壓模；從在其表面形成有與導(dǎo)向槽的凹凸呈同方向的微細(xì)凹凸的金屬制壓模進(jìn)行復(fù)制，制作在其表面形成有反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的樹(shù)脂制壓模，該反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸與導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向，其深度比第1壓模的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度更深，并且使用在透光層的形成之際，可在透光層的一面形成與形成在基材的一面的導(dǎo)向槽的深度相同或者基本相同的導(dǎo)向槽。根據(jù)利用這些第1壓模以及樹(shù)脂制壓模分別形成基材以及透光層，能夠同等地形成透光層的導(dǎo)向槽的深度和基材的導(dǎo)向槽的深度。其結(jié)果，能夠制造對(duì)所有的記錄層的跟蹤伺服時(shí)的跟蹤誤差信號(hào)的S/N都良好的多層光記錄介質(zhì)。還有，根據(jù)該制造方法，根據(jù)在記錄層上將涂液旋轉(zhuǎn)涂膜并使之硬化而形成保護(hù)層，能夠使保護(hù)層變薄的結(jié)果，多光層記錄介質(zhì)自身也可以形成得很薄。
本發(fā)明所涉及的多層光記錄介質(zhì)，按照上述的多層光記錄介質(zhì)的制造方法而制造，其構(gòu)成為具備在所述激光束的入射方向側(cè)的所述一面形成有跟蹤用導(dǎo)向槽的所述基材，所述跟蹤用的導(dǎo)向槽的表面形成有所述記錄層；在所述基材的上部疊層一層或兩層以上的所述透光層，所述透光層的所述一面形成有其表面形成所述記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽，并且在所述基材以及所述透光層的所述各一面分別形成的所述各導(dǎo)向槽的深度形成得相同或基本相同。
在本發(fā)明所涉及的多層光記錄介質(zhì)中，根據(jù)將在基材以及透光層的各一面分別形成的各導(dǎo)向槽的深度形成得相同或基本相同，能夠使對(duì)形成在透光層的一面的記錄層的跟蹤伺服時(shí)的跟蹤誤差信號(hào)的信號(hào)強(qiáng)度與對(duì)形成在基材的一面的記錄層的跟蹤伺服時(shí)的跟蹤誤差信號(hào)的信號(hào)強(qiáng)度維持同等高的狀態(tài)。從而，能夠改善對(duì)形成在透光層的記錄層的跟蹤伺服時(shí)從拾光器輸出的跟蹤誤差信號(hào)的S/N。其結(jié)果，對(duì)形成在透光層的記錄層的跟蹤伺服與形成在基材的記錄層的跟蹤伺服能夠同樣良好地進(jìn)行。從而，能夠良好地進(jìn)行對(duì)所有記錄層的記錄數(shù)據(jù)的記錄和從所有記錄層讀取記錄數(shù)據(jù)。
而且，在本發(fā)明所涉及的多層光記錄介質(zhì)的上述制造方法的中間工序中，將其表面形成記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽形成于一面的透光層由1層樹(shù)脂層而形成。該樹(shù)脂層通過(guò)實(shí)施以下的工序所制作在形成于所述基材上的所述記錄層的表面涂敷透光性樹(shù)脂；在所述所涂敷的透光性樹(shù)脂的表面形成從所述樹(shù)脂制壓模進(jìn)行復(fù)制、并且在且一面形成有所述導(dǎo)向槽的所述透光層。但也可利用在所述工序中所使用的所述基材和所述樹(shù)脂制壓模由2層以上的樹(shù)脂層而形成。這種情況的透光層的制造方法中，至少要實(shí)施以下工序在所述樹(shù)脂制壓模上涂敷所述透光性樹(shù)脂，在所述透光性樹(shù)脂的表面形成從所述樹(shù)脂制壓模進(jìn)行復(fù)制、并且形成有導(dǎo)向槽的光透過(guò)層(第1層)；在形成于所述基材上的所述記錄層上涂敷透光性粘著樹(shù)脂(第2層)；將形成有所述導(dǎo)向槽的透光層和所述基材以樹(shù)脂與樹(shù)脂相對(duì)的方向粘合(粘著)。
而且，本公開(kāi)與2001年12月27日申請(qǐng)的日本專(zhuān)利申請(qǐng)、特開(kāi)2001-396075所包含的主題有關(guān)，所有的這些公開(kāi)在此將明確地納入為參照事項(xiàng)。


圖1為第1母壓模MTS1的側(cè)面截面圖。
圖2為子壓模CHS2的側(cè)面截面圖。
圖3為從子壓模CHS2制作樹(shù)脂壓模RS時(shí)的側(cè)面截面圖。
圖4為使用第1母壓模MTS1制作基材D時(shí)的側(cè)面截面圖。
圖5為其表面形成有記錄層L1的基材D的側(cè)面截面圖。
圖6為在基材D上根據(jù)旋轉(zhuǎn)涂膜法涂有涂液R的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖7為在涂有涂液R的基材D上載放壓模RS的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖8為使涂液R硬化后，剝離壓模RS制作隔離層SP的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖9為表示多層光記錄介質(zhì)1的結(jié)構(gòu)的側(cè)面截面圖。
圖10為在有關(guān)隔離層SP的其他制作工序中，在壓模RS上根據(jù)旋轉(zhuǎn)涂膜法涂上涂液R1并使其硬化的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖11為在有關(guān)隔離層SP的其他制作工序中，在基材D上根據(jù)旋轉(zhuǎn)涂膜法涂上涂液R2的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖12為在圖11所示狀態(tài)的基材D上重疊圖10所示的壓模RS并使涂液R2硬化的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖13為從圖12所示的狀態(tài)剝離壓模RS，制作隔離層SP的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖14為從原模MSS制作母壓模MTS11時(shí)的側(cè)面截面圖。
圖15為從母壓模MTS11制作子壓模CHS時(shí)的側(cè)面截面圖。
圖16為從母壓模MTS11制作基材D，從子壓模CHS制作保護(hù)層C時(shí)的各自的側(cè)面截面圖。
圖17為在基材D的表面形成記錄層L1，在保護(hù)層C的表面形成記錄層L0的狀態(tài)的各自的側(cè)面截面圖。
圖18為表示多層光記錄介質(zhì)31的結(jié)構(gòu)的側(cè)面截面圖。
圖19為從子壓模CHS制作樹(shù)脂制的壓模RS時(shí)的側(cè)面截面圖。
圖20為使用母壓模MTS11制作基材D時(shí)的側(cè)面截面圖。
圖21為其表面形成有記錄層L1的基材D的側(cè)面截面圖。
圖22為根據(jù)旋轉(zhuǎn)涂膜法在基材D涂有涂液R的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖23為涂有涂液R的基材D上載放壓模RS的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖24為使涂液R硬化后，剝離壓模RS制作隔離層SP的狀態(tài)的側(cè)面截面圖。
圖25為表示多層光記錄介質(zhì)41的結(jié)構(gòu)的側(cè)面截面圖。
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明所涉及的多層光記錄介質(zhì)以及多層光記錄介質(zhì)的制造方法的最適宜的實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。
首先，參照?qǐng)D9對(duì)多層(以2層為例)光記錄介質(zhì)1的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。
多層光記錄介質(zhì)1為一種，比如具備多個(gè)相變化記錄層的所謂單面多層光記錄介質(zhì)(改寫(xiě)型光記錄介質(zhì))，至少具備基材D、記錄層L1、隔離層SP、記錄層LO以及保護(hù)層C而構(gòu)成?；腄以樹(shù)脂(例如，聚碳酸酯)為材料形成平板狀(以圓板狀為例)，在其一面(圖9的上面)上，從其中心部附近面向外緣部，螺旋狀地形成有作為微細(xì)凹凸的激光束導(dǎo)向用的紋道GR以及紋間表面LD。還有，形成在該基材D上的紋間表面LD的深度Ld11，在跟蹤伺服時(shí)為了能夠得到S/N的良好的跟蹤誤差信號(hào)，與在上述的多層光記錄介質(zhì)31和41的基材D的表面所形成的紋間表面LD的深度Ld12和LD13設(shè)定成同等(意味著相同或者基本相同。以下，同樣)深度。記錄層L1由在形成于基材D的表面的紋道GR上和紋間表面LD的上部疊層反射膜、相變化膜以及保護(hù)膜等而構(gòu)成。此時(shí)，相變化膜由將GeTeSb、InSbTe或者AgGeInSbTe等相變化材料通過(guò)例如濺射法而形成薄膜狀。
隔離層SP由透光性樹(shù)脂所形成，其保護(hù)層C側(cè)的表面形成有紋道GR以及紋間表面LD等。在這種情況，形成在隔離層SP的紋間表面LD的深度Ld01，在跟蹤伺服時(shí)為了能夠得到S/N的良好的跟蹤誤差信號(hào)，與形成在基材D表面的紋間表面LD的深度Ld11設(shè)定成同等深度。記錄層LO由在形成于隔離層SP表面的紋道GR上和紋間表面LD上疊層相變化膜和保護(hù)膜等而構(gòu)成。在這種情況，記錄層LO的相變化膜與記錄層L1的相變化膜具有同樣的結(jié)構(gòu)。保護(hù)層C防止記錄層LO受損的同時(shí)起到一部分光路(透鏡)的作用，由在記錄層LO的上面將透光性樹(shù)脂的涂液RC旋轉(zhuǎn)涂膜并使之硬化而形成。在該多層光記錄介質(zhì)1中，通過(guò)在該圖的箭頭A所指方向從拾光器向記錄層L1和LO照射記錄用激光束(例如波長(zhǎng)為405nm的激光束)，該記錄層L1和LO在非晶質(zhì)狀態(tài)和結(jié)晶狀態(tài)之間發(fā)生可逆的相變化而進(jìn)行記錄標(biāo)記的記錄和消除。具體地說(shuō)，在記錄用激光束照射到記錄層L1和L0之際，通過(guò)其照射部分被加熱至高于熔點(diǎn)后迅速冷卻(急冷)而被非晶質(zhì)化，按照2值記錄數(shù)據(jù)形成記錄標(biāo)記。還有，在記錄層L1和LO在照射記錄用激光束之際，通過(guò)其照射部分被加熱至高于結(jié)晶化溫度后慢慢地冷卻(慢冷)而被結(jié)晶化，取消記錄標(biāo)記。并且，通過(guò)在該圖的箭頭A所指方向從光拾光器照射再生用激光束，進(jìn)行從記錄層LO和L1的記錄數(shù)據(jù)的讀取。
這樣，根據(jù)該多層光記錄介質(zhì)1，通過(guò)將隔離層SP的紋間表面LD深度Ld01與基材D的紋間表面LD的深度Ld11形成得同等，可以更高地維持對(duì)記錄層LO的跟蹤伺服時(shí)的跟蹤誤差信號(hào)的信號(hào)強(qiáng)度。因此，能夠改善在對(duì)記錄層LO跟蹤伺服時(shí)從拾光器輸出的跟蹤誤差信號(hào)的S/N。其結(jié)果，能夠同樣良好地進(jìn)行對(duì)記錄層L1的跟蹤伺服和對(duì)記錄層L0的跟蹤伺服。因此，可以良好地進(jìn)行對(duì)各記錄層LO和L1的記錄數(shù)據(jù)的記錄和讀取。還有，因?yàn)橥ㄟ^(guò)在記錄層LO上面將涂液旋轉(zhuǎn)涂膜并使之硬化而形成保護(hù)層C，所以與用注射成形而制作的保護(hù)層C的多層光記錄介質(zhì)31相比，能夠?qū)⒈Ｗo(hù)層C的厚度形成得較薄，其結(jié)果可以使多層光記錄介質(zhì)1的整個(gè)厚度變薄。
下面，參照?qǐng)D1至圖9對(duì)多層光記錄介質(zhì)1的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。
在制造該多層光記錄介質(zhì)1之際，首先實(shí)施本發(fā)明的壓模制作工序。最初，通過(guò)在金屬制的平板(以金屬圓板為例)表面進(jìn)行切削加工，制作具有同相微細(xì)凹凸的第1原模(沒(méi)有圖示)，該同相微細(xì)凹凸與形成在基材D表面的紋道GR和紋間表面LD等的微細(xì)凹凸處于同方向的關(guān)系。而且，在制作第1原模之際，也可以采用如下的制作方法在玻璃制的平板表面上形成抗蝕劑層，通過(guò)對(duì)該抗蝕劑層進(jìn)行曝光和顯影處理(構(gòu)圖處理)在玻璃制平板的表面形成與紋道GR和紋間表面LD等的微細(xì)凹凸呈反方向的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸，再通過(guò)進(jìn)行電鍍處理在該反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸所形成的玻璃制平板的表面形成金屬層，然后從玻璃制平板剝離該金屬層來(lái)制作第1原模。接著，與多層光記錄介質(zhì)31的制作方法一樣，如圖1所示，從該第1原模進(jìn)行復(fù)制來(lái)制作相當(dāng)于本發(fā)明的第1壓模的第1母壓模MTS1。還有，通過(guò)在金屬制的平板(以金屬圓板為例)表面進(jìn)行切削加工，制作具有同相微細(xì)凹凸的第2原模(沒(méi)有圖示)。接著，通過(guò)從第2原模在金屬材料進(jìn)行偶數(shù)次復(fù)制，如圖2所示，制作具有同相微細(xì)凹凸的子壓模CHS2。還有，如圖3所示，利用該子壓模CHS2(或者第2原模)，制作其表面形成有反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的樹(shù)脂制的壓模RS，為了在隔離層SP的表面形成紋道GR和紋間表面LD等的微細(xì)凹凸使用該壓模RS。
在這種情況，多層光記錄介質(zhì)1的對(duì)記錄層LO進(jìn)行跟蹤伺服時(shí)從拾光器輸出的跟蹤誤差信號(hào)的S/N與對(duì)記錄層L1進(jìn)行跟蹤伺服時(shí)從拾光器輸出的跟蹤誤差信號(hào)的S/N希望同樣良好。因此，多層光記錄介質(zhì)1的形成于隔離層SP表面的紋間表面LD的深度Ld01與多層光記錄介質(zhì)1的形成于基材D表面的紋間表面LD的深度Ld11設(shè)定為相同(或基本相同)。一方面，在制造多層光記錄介質(zhì)1中，形成隔離層SP的紋道GR時(shí)使用樹(shù)脂制的壓模RS。在這種情況，在從第2母壓模MTS2制作壓模RS之際，樹(shù)脂制的壓模RS以所使用的樹(shù)脂材料所固有的收縮率收縮。還有，根據(jù)從樹(shù)脂制的壓模RS制作隔離層SP時(shí)的復(fù)制性，相應(yīng)地紋道GR形成得要淺一些。另一方面，如上所述由于金屬材料復(fù)制性良好，且可忽視收縮率，所以第1原模和第1母壓模MTS1的各微細(xì)凹凸的深度形成得基本相同，而且第2原模與子壓模CHS2的各微細(xì)凹凸的深度也形成得基本相同。因此，在進(jìn)行第2原模的切削加工時(shí)，應(yīng)考慮樹(shù)脂制的壓模RS的收縮率和從樹(shù)脂制的壓模RS到隔離層SP的復(fù)制性，以滿(mǎn)足如下條件的深度DPMS2(子壓模CHS2的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度也要同等)進(jìn)行同相微細(xì)凹凸的切削加工。即，壓模RS的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPRS比第1母壓模MTS1的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPMS1要深，且形成在隔離層SP表面的紋間表面LD的深度Ld01和形成在基材D表面的紋間表面LD的深度Ld11要相同(或基本相同)。具體地說(shuō)，微細(xì)凹凸的凹槽的深度DPMS2要加工得比形成在第1母壓模MTS1的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPMS1深0.5nm至5nm左右。
接著，將第1母壓模MTS1安裝在樹(shù)脂成形用模具內(nèi)，通過(guò)向模具內(nèi)注射樹(shù)脂材料(例如，PC(聚碳酸酯))，如圖4所示，制作其表面形成(復(fù)制)有紋道GR和紋間表面LD等的導(dǎo)向槽的基材D。此時(shí)，由于作為樹(shù)脂的PC的收縮率為0.5％至1.5％，所以基材D的微細(xì)凹凸的深度Ld11相應(yīng)地比第1母壓模MTS1的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPNS1形成得要淺。接著，如圖5所示，在所制作的基材D的微細(xì)凹凸形成面上，比如用濺射法成膜記錄層L1。
接著，如圖6所示，在基材D的記錄層L1的形成面上滴下一種具有透光性的樹(shù)脂涂液R，然后根據(jù)旋轉(zhuǎn)涂膜法在基材D的整個(gè)表面上將涂液R涂成薄膜狀。接著，如圖7所示，在使其微細(xì)凹凸形成面面向涂液R側(cè)的狀態(tài)下，將樹(shù)脂制的壓模RS覆蓋在涂有涂液R的基材D上面。在這種情況，當(dāng)在基材D上的涂敷進(jìn)行完了時(shí)，由于涂液R具有流動(dòng)性，所以一邊溶合于形成在壓模RS表面的微細(xì)凹凸的形狀，一邊遍布在壓模RS和基材D之間的整個(gè)縫隙間。
接著，使涂液R進(jìn)行硬化。具體地說(shuō)，作為涂液R使用紫外線(xiàn)硬化型樹(shù)脂時(shí)，利用從壓模RS側(cè)照射紫外線(xiàn)的方法，使涂液R進(jìn)行硬化。此時(shí)，根據(jù)從樹(shù)脂制的壓模RS到隔離層SP的復(fù)制性(起因于所使用的紫外線(xiàn)硬化型樹(shù)脂的收縮率，以及紫外線(xiàn)硬化型樹(shù)脂和樹(shù)脂制的壓模之間的接觸壓等)，形成在隔離層SP的紋間表面LD深度Ld01比形成在樹(shù)脂制的壓模RS的微細(xì)凹凸的深度DPRS(參照?qǐng)D3)要淺2％至10％。在這種情況，考慮到從上述的樹(shù)脂制的壓模RS到隔離層SP的復(fù)制性，事先使壓模RS的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPRS比第1母壓模MTS1的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPMS1形成得更深。其結(jié)果，形成在隔離層SP的紋間表面LD的深度Ld01與形成在基材D的紋間表面LD的深度Ld11形成得相同(參照?qǐng)D8)。其次，如圖8所示，將壓模RS從基材D剝離開(kāi)。由此完成了表面形成(復(fù)制)有紋道GR和紋間表面LD等微細(xì)凹凸的隔離層SP。
接著，如圖9所示，在所形成的隔離層SP的微細(xì)凹凸形成面上，根據(jù)比如濺射法成膜記錄層LO。上述為止的工序相當(dāng)于本發(fā)明的中間工序。接著，通過(guò)在記錄層LO的上面將涂液RC旋轉(zhuǎn)涂膜并使之硬化形成保護(hù)層C。由此，完成多層光記錄介質(zhì)1的制造。
如此，根據(jù)該多層光記錄介質(zhì)的制造方法，通過(guò)考慮到從樹(shù)脂制的壓模RS到隔離層SP的復(fù)制性，事先使壓模RS的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPRS比第1母壓模MTS1的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度DPMS1形成得更深，可以使隔離層SP的紋間表面LD的深度Ld01與基材D的紋間表面LD的深度Ld11形成得相同。還有，通過(guò)在記錄層LO的上面將涂液R1旋轉(zhuǎn)涂膜之后使之硬化而形成保護(hù)層C，可以制造保護(hù)層C的厚度、甚至整個(gè)介質(zhì)的厚度很薄的多層光記錄介質(zhì)1。
而且，本發(fā)明不只限于上述發(fā)明的實(shí)施形態(tài)，可適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行更改。例如，利用在上述的實(shí)施形態(tài)中所制作的基材D和壓模RS，也可制造由2層以上的透光性樹(shù)脂層而形成的隔離層SP。此時(shí)，如圖10所示，在壓模RS的微細(xì)凹凸的形成面上滴下具有透光性的樹(shù)脂涂液R1，并用旋轉(zhuǎn)涂膜法在壓模RS的整個(gè)表面涂敷涂液R1。接著，使該涂液R1進(jìn)行硬化。具體地說(shuō)，作為涂液R1使用紫外線(xiàn)硬化樹(shù)脂時(shí)，由照射紫外線(xiàn)使之硬化。此時(shí)，按照如上所述的從壓模RS的復(fù)制性，形成于隔離層SP的紋間表面LD的深度Ld01比壓模RS的微細(xì)凹凸的深度DPRS要淺。其次，如圖11所示，在基材D的記錄層L1的形成面上滴下透光性樹(shù)脂制的涂液R2，并用旋轉(zhuǎn)涂膜法在基材D的整個(gè)表面涂敷涂液R2。接著，如圖12所示，使涂液R1和涂液R2貼緊，并將壓模RS粘合到基材D上。具體地說(shuō)，作為涂液R2使用紫外線(xiàn)硬化型的透光性粘著樹(shù)脂時(shí)，通過(guò)從壓模RS側(cè)照射紫外線(xiàn)，使涂液R2進(jìn)行硬化，從而將壓模RS粘合到基材D上。
接著，將壓模RS從基材D剝離開(kāi)。由此，如圖13所示，完成以由涂液R1和涂液R2所形成的2層的樹(shù)脂層所構(gòu)成，并由涂液R1在樹(shù)脂層的表面形成(復(fù)制)有紋道GR和紋間表面LD等的微細(xì)凹凸的隔離層SP。即使根據(jù)采用該方法的制作工序，隔離層SP的紋間表面LD的深度Ld01與基材D的紋間表面LD的深度Ld11也形成得相同(或基本相同)。根據(jù)該隔離層SP的制作工序，在基材D和壓模RS上可以涂敷具有不同特性的材料的樹(shù)脂。因此，對(duì)于記錄層L1以及記錄層LO可以分別使用恰當(dāng)?shù)臉?shù)脂。而且，還可以采用如下的制作工序使涂在基材D側(cè)的涂液R2硬化，然后在壓模RS側(cè)作為涂液R1涂敷紫外線(xiàn)硬化型的透光性粘著樹(shù)脂，將基材D以及壓模RS層疊之后使涂液R1硬化。
還有，在上述發(fā)明的實(shí)施形態(tài)中，作為一例，對(duì)于利用相變化膜構(gòu)成各記錄層LO和L1的例子進(jìn)行了說(shuō)明。然而，各記錄層LO和L1也可以由追記型記錄層和再生專(zhuān)用層所構(gòu)成。還有，也可適用于具有多個(gè)記錄層和多個(gè)再生用層的DVD系列產(chǎn)品的一部分。還有，也可以改換直接使用第1母壓模MTS1的方法，而使用從第1母壓模MTS1在金屬材料進(jìn)行偶數(shù)次復(fù)制而制作的金屬制壓模制作基材D。
還有，基材D不只限于圓板形狀，也可以形成長(zhǎng)方形等的多角形和橢圓形等各種形狀。還有，在本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)中，以具有2層記錄層L1和LO的多層光記錄介質(zhì)1為例進(jìn)行了說(shuō)明，而本發(fā)明也可以有效地適用于具有3層以上的記錄層的多層光記錄介質(zhì)。該多層光記錄介質(zhì)具有，在激光束的入射方向側(cè)的一面形成有跟蹤用導(dǎo)向槽(紋道GR和紋間表面LD等)的基材，其中跟蹤用的導(dǎo)向槽的表面形成有記錄層，在基材D的上部疊層2層以上的透光層，在透光層的一面形成有其表面形成有記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽，同時(shí)，各導(dǎo)向槽形成相同(或基本相同)深度的結(jié)構(gòu)。還有，對(duì)于各金屬制的壓模以及各樹(shù)脂制的壓模的材質(zhì)，沒(méi)有特別限制，可以做適當(dāng)?shù)剡x擇。還有，在本發(fā)明的各實(shí)施形態(tài)中，對(duì)采用記錄層L1含有反射膜的結(jié)構(gòu)的例子進(jìn)行了說(shuō)明，而在本發(fā)明中，記錄層L1含有反射膜的結(jié)構(gòu)并不是必須的，根據(jù)適宜地調(diào)整基材D和各層的反射率以及折射率，只要是對(duì)記錄和再生不發(fā)生障礙能夠充分地得到從記錄層L1的激光束之反射光的層結(jié)構(gòu)就可以。還有，在本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)中，采用通過(guò)在記錄層LO的上面將透光性樹(shù)脂的涂液RC旋轉(zhuǎn)涂膜并使之硬化而形成保護(hù)層C的方法，并對(duì)此方法的例子進(jìn)行了說(shuō)明。然而，也可以采用根據(jù)通過(guò)透光性的粘著層將透光性的樹(shù)脂薄膜粘貼起來(lái)而形成保護(hù)層的方法。在這種情況，作為樹(shù)脂薄膜使用比如厚度為50μm至100μm左右的聚碳酸酯樹(shù)脂制的薄膜，而作為透光性的粘著層可以使用例如紫外線(xiàn)硬化型的粘著劑。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性如上所述，根據(jù)該多層光記錄介質(zhì)的制造方法，作為壓模的制作工序至少要實(shí)施如下工序制作在其表面形成有與形成在基材和透光層表面的導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的金屬制的第1壓模；制作從在其表面形成有與所述導(dǎo)向槽的凹凸呈同方向的微細(xì)凹凸的金屬制的壓模進(jìn)行復(fù)制并且表面形成有反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的樹(shù)脂制壓模，所述反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸與導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向、其深度比第1壓模的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度更深，并且在使用于透光層的形成之際，可在透光層的一面形成與形成在基材的一面的導(dǎo)向槽相同深或者基本相同深的導(dǎo)向槽。通過(guò)使用這些第1壓模以及樹(shù)脂制壓模分別形成基材以及透光層，能夠?qū)⑼腹鈱拥膶?dǎo)向槽的深度和基材的導(dǎo)向槽的深度形成得同等。其結(jié)果，可實(shí)現(xiàn)能夠制造對(duì)所有的記錄層進(jìn)行跟蹤伺服時(shí)的跟蹤誤差信號(hào)的S/N都良好的多層光記錄介質(zhì)的多層光記錄介質(zhì)的制造方法。
權(quán)利要求
1.一種多層光記錄介質(zhì)的制造方法，利用在壓模制作工序中所制作的壓模來(lái)制造所述多層光記錄介質(zhì)，所述多層光記錄介質(zhì)具備在激光束的入射方向側(cè)的一面上形成有跟蹤用導(dǎo)向槽的基材，所述跟蹤用導(dǎo)向槽的表面上形成有記錄層，同時(shí)，將透光層疊層在所述基材的上部，在所述透光層的一面上形成有在其表面上形成有記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽，其特征在于作為所述壓模制作工序，至少要實(shí)施如下制作工序制作金屬制的第1壓模和樹(shù)脂制壓模，其中，所述金屬制的第1壓模的表面上形成有與所述導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸，而所述樹(shù)脂制壓模從在其表面上形成有與所述導(dǎo)向槽的凹凸呈同方向的微細(xì)凹凸的金屬制的壓模進(jìn)行復(fù)制而成并且表面上形成有反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸，所述反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸與所述導(dǎo)向槽的凹凸呈反轉(zhuǎn)方向、其深度比所述第1壓模的所述反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度更深，并且在所述透光層的形成中被使用時(shí)，可在該透光層的所述一面上形成與形成在所述基材的一面上的所述導(dǎo)向槽的深度相同或基本相同的所述導(dǎo)向槽；作為制造所述多層光記錄介質(zhì)的中間工序，至少要實(shí)施如下制作工序從所述第1壓模進(jìn)行復(fù)制，制作在所述一面上形成有所述導(dǎo)向槽的所述基材；在所述制作的基材的所述導(dǎo)向槽的所述表面上形成所述記錄層；在所述形成的記錄層的表面上涂敷透光性樹(shù)脂；在所述涂敷后的透光性樹(shù)脂的表面上形成從所述樹(shù)脂制壓模進(jìn)行復(fù)制而形成有其深度與形成在所述基材上的所述導(dǎo)向槽的深度相同或基本相同的所述導(dǎo)向槽的所述透光層；和在所述形成的透光層的所述導(dǎo)向槽的所述表面上形成所述記錄層。
2.一種多層光記錄介質(zhì)，根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層光記錄介質(zhì)的制造方法而制造，其構(gòu)成為具備在所述激光束的入射方向側(cè)的所述一面上形成有跟蹤用導(dǎo)向槽的所述基材，所述跟蹤用導(dǎo)向槽的表面上形成有所述記錄層；在所述基材的上部疊層一層或兩層以上的所述透光層，所述透光層的所述一面上形成有在其表面上形成有所述記錄層的跟蹤用導(dǎo)向槽，其特征在于在所述基材以及所述透光層的各所述一面上分別形成的所述各導(dǎo)向槽的深度形成得相同或基本相同。
全文摘要
本發(fā)明所涉及的多層光記錄介質(zhì)的制造方法為從金屬制的壓模進(jìn)行復(fù)制，制作金屬制的第1壓模和樹(shù)脂制壓模，其中樹(shù)脂制壓模形成有其深度比第1壓模的反轉(zhuǎn)微細(xì)凹凸的深度更深，且能夠在隔離層(SP)的一面形成與形成在基材(D)的一面的導(dǎo)向槽具有相同深度的導(dǎo)向槽的微細(xì)凹凸；從第1壓模進(jìn)行復(fù)制，制作一面形成有導(dǎo)向槽(GR和LD)的基材(D)；在基材(D)的導(dǎo)向槽的表面形成記錄層(L1)；在記錄層(L1)的表面涂敷透光性樹(shù)脂；在透光性樹(shù)脂的表面形成從樹(shù)脂制壓模進(jìn)行復(fù)制且形成有其深度與形成在基材(D)的導(dǎo)向槽的深度相同的導(dǎo)向槽(GR和LD)的隔離層(SP)；在隔離層(SP)的導(dǎo)向槽的表面形成記錄層(L0)。
文檔編號(hào)G11B7/26GK1608291SQ0282619
公開(kāi)日2005年4月20日 申請(qǐng)日期2002年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月27日
發(fā)明者水島哲郎, 小卷壯, 吉成次郎 申請(qǐng)人:Tdk株式會(huì)社