本實(shí)用新型的實(shí)施例涉及一種觸摸面板及觸摸顯示裝置。

背景技術(shù)：

單層銦錫氧化物(SITO)觸摸面板工藝廣泛應(yīng)用在手表等小尺寸產(chǎn)品上。由于用戶在使用這些小尺寸產(chǎn)品時(shí)，比如看時(shí)間、定時(shí)等操作時(shí)，眼睛距離屏幕很近，此類產(chǎn)品屏幕上的少量瑕疵都會(huì)極大地影響用戶的體驗(yàn)，因而這類產(chǎn)品的消影等級(jí)要求很高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供一種觸摸面板及觸摸顯示裝置。該觸摸面板通過(guò)將第一消影層和第二消影層分別形成在不同的基板上，從而可以避免因需要露出觸摸電極邦定區(qū)而蝕刻第二消影層，進(jìn)而避免由第一消影層過(guò)刻帶來(lái)的消影效果降低。另外，分別形成在兩個(gè)基板上的兩層消影層也可以帶來(lái)更好的消影效果。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例提供一種觸摸面板，包括：彼此相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板；形成在第一基板上的第一消影層；形成在所述第一消影層上的觸摸電極層；以及形成在所述第二基板上的第二消影層，其中所述第一基板的形成有所述第一消影層和所述觸摸電極層的一側(cè)面對(duì)所述第二基板的形成有所述第二消影層的一側(cè)。

在一些示例中，所述觸摸電極層包括觸摸電極圖案和觸摸電極邦定區(qū)。

在一些示例中，形成在所述第一基板上的所述第一消影層與形成在所述第二基板上的所述第二消影層之間具有膠層和間隙層至少之一。

在一些示例中，所述第一基板和所述第二基板為玻璃基板。

在一些示例中，所述觸摸電極層由透明金屬氧化物形成。

在一些示例中，所述觸摸電極邦定區(qū)設(shè)置在所述第一基板的外圍區(qū)域，且與所述觸摸電極圖案電連接。

在一些示例中，所述觸摸面板還包括：黑矩陣層，設(shè)置在所述第一基板的外圍區(qū)域。

在一些示例中，所述第一消影層和所述第二消影層的至少之一包括二氧化硅和五氧化二鈮的疊層或者氮化硅層。

在一些示例中，所述第一消影層和所述第二消影層的材料相同。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例提供一種觸摸顯示裝置，包括顯示面板和上述任一所述觸摸面板，其中所述觸摸面板設(shè)置在所述顯示面板的顯示表面?zhèn)取?/p>

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅涉及本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，而非對(duì)本實(shí)用新型的限制。

圖1是觸摸面板的形成有觸摸電極層的基板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是另一觸摸面板的形成有觸摸電極層的基板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的觸摸面板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的觸摸面板的平面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的觸摸面板的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板的制作方法的流程圖；

圖7-圖10是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板的制造流程中的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11是根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的觸摸顯示裝置的截面結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；谒枋龅谋緦?shí)用新型的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在無(wú)需創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

除非另外定義，本實(shí)用新型使用的技術(shù)術(shù)語(yǔ)或者科學(xué)術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)為本實(shí)用新型所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本實(shí)用新型中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語(yǔ)并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來(lái)區(qū)分不同的組成部分?！鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語(yǔ)意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件?！斑B接”或者“相連”等類似的詞語(yǔ)并非限定于物理的或者機(jī)械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的?！吧稀?、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對(duì)位置關(guān)系，當(dāng)被描述對(duì)象的絕對(duì)位置改變后，則該相對(duì)位置關(guān)系也可能相應(yīng)地改變。

單層氧化銦錫(SITO)觸摸技術(shù)成本較低、能夠?qū)崿F(xiàn)多點(diǎn)觸控。所謂的單層ITO觸控傳感器是指在玻璃或塑料基板上鍍一層ITO，并將該ITO蝕刻成電極而形成觸控傳感器。在這種觸控傳感器中，ITO電極即可以作為驅(qū)動(dòng)電極，又可以作為感應(yīng)電極，無(wú)需其他膜層就可以實(shí)現(xiàn)觸控功能。然而，由于ITO和玻璃基板的折射率相差較大，導(dǎo)致蝕刻后的ITO圖案形成線路或電極后，有ITO的區(qū)域和無(wú)ITO的區(qū)域的反射率相差較大，使得蝕刻線路比較明顯，影響用戶的視覺(jué)感受。在小尺寸面板中，由于觀察者的眼睛距離面板較近，這種問(wèn)題更加明顯。為了增強(qiáng)消影效果，在一些觸摸面板中，在ITO層的兩側(cè)均形成消影層。圖1是一種觸摸面板的形成有觸摸電極層的基板的截面結(jié)構(gòu)示意圖。該基板包括依次形成在襯底基板100上的黑矩陣110、第一消影層120、觸摸電極層130以及第二消影層140。觸摸電極層130包括用于觸摸感應(yīng)的觸摸感應(yīng)電極131和位于基板的外圍區(qū)域(邊緣區(qū)域)的觸摸電極邦定區(qū)(Bonding area)132。在觸摸電極邦定區(qū)，觸摸電極層需要露出以能夠與其他部件(例如，導(dǎo)電線路)進(jìn)行連接。因此，形成于觸摸電極層130上的第二消影層140需要被刻蝕，以露出下面的觸摸電極邦定區(qū)。然而，在蝕刻第二消影層140時(shí)，不可避免地會(huì)對(duì)第一消影層120過(guò)刻，從而引起消影效果的降低。

為了解決上述問(wèn)題，提出了另外一種觸摸面板。圖2示出了另一種觸摸面板的形成有觸摸電極層的基板的截面結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2所示，該基板與圖1所示的基板的差別在于在觸摸電極層130與第一消影層120之間插入了一層保護(hù)層150。由于插入了保護(hù)層150，在對(duì)第二消影層140進(jìn)行刻蝕時(shí)，則不會(huì)對(duì)第一消影層120產(chǎn)生過(guò)刻。然而，該結(jié)構(gòu)需要額外制備保護(hù)層的工藝，從而提高了成本且降低了產(chǎn)能。

圖1和圖2所示的僅僅是觸摸面板的一個(gè)組成部分，也就是，形成有觸摸電極層的基板。在制備觸摸面板時(shí)，一般還需要一個(gè)蓋板(例如，蓋板玻璃)覆蓋在基板形成觸摸電極層等元件的一側(cè)，以保護(hù)形成在基板上的各種元件。本申請(qǐng)的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，通過(guò)將第二消影層的制備工藝轉(zhuǎn)移到蓋板上，也就是說(shuō)，第二消影層不形成在形成有觸摸電極層的基板上而是形成在蓋板上，可以避免因需要露出觸摸電極邦定區(qū)而蝕刻第二消影層。并且，在這種情況下，當(dāng)將蓋板與形成有觸摸電極層的基板結(jié)合之后，所形成的觸摸面板同樣也包括兩層消影層，一層消影層位于觸摸電極層的上側(cè)，一層消影層位于觸摸電極層的下側(cè)。這種結(jié)構(gòu)相對(duì)于第一消影層和第二消影層均形成在提供觸摸電極層的基板上的結(jié)構(gòu)來(lái)說(shuō)，消影效果沒(méi)有任何影響。此外，由于不需要對(duì)第二消影層進(jìn)行刻蝕，避免了對(duì)第一消影層的過(guò)刻，且還節(jié)省了蝕刻第二消影層的蝕刻工藝。

圖3為根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的觸摸面板的截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的觸摸面板的平面結(jié)構(gòu)示意圖。為了使得圖示更加清楚，圖4中僅僅示出了基板以及基板上的觸摸電極層。如圖3所示，該觸摸面板包括彼此相對(duì)設(shè)置的第一基板100和第二基板200；形成在第一基板100上的第一消影層120；形成在第一消影層120上的觸摸電極層130；以及形成在第二基板200上的第二消影層210，其中第一基板100的形成有第一消影層120和觸摸電極層130的一側(cè)面對(duì)第二基板200的形成有第二消影層210的一側(cè)。

例如，第一基板100和第二基板200的每個(gè)例如可以為透明玻璃基板基板。第一基板100和第二基板200可以采用本領(lǐng)域常用的基板材料，本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制。

在第一基板100上，形成有第一消影層120，在第一消影層120上形成有觸摸電極層130。對(duì)于第一消影層120，其可以根據(jù)第一基板100的反射率等物理參數(shù)而選取。第一消影層120的設(shè)置可以降低觸摸電極層(電極圖案)存在的位置以及觸摸電極層(電極圖案)不存在的位置之間的反射率差異，從而可以避免人眼能夠容易識(shí)別觸摸電極圖案。例如，第一消影層120在可見(jiàn)光區(qū)的反射率與形成觸摸電極層后的反射率接近，使得在存在觸摸電極層的區(qū)域與觸摸電極層被蝕刻的區(qū)域的色差減小，從而達(dá)到消影的效果。

第一消影層120可以為單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)，可以由單一材料形成，也可以由包括多種材料的復(fù)合材料形成。例如，第一消影層120可以包括二氧化硅(SiO₂)和五氧化二鈮(Nb₂O₅)的疊層結(jié)構(gòu)。例如，第一消影層120中二氧化硅層的厚度可以是5-15nm，五氧化二鈮的厚度可以是10-40nm。在另外一些示例中，可以使用氮化硅(SiNx，“x”代表元素Si和N可以有不同的化學(xué)計(jì)量比)形成第一消影層120。例如，第一消影層120的材料和厚度還可以根據(jù)其上形成的觸摸電極層130(例如，ITO層)的厚度的不同進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整，以達(dá)到良好的消影效果。然而，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例并不限于上述由二氧化硅和五氧化二鈮的疊層形成的消影層或者由氮化硅形成的消影層，只要能夠在形成有觸摸電極層的基板上達(dá)到消影的效果，均可以用于本實(shí)用新型實(shí)施例的第一消影層。此外，消影層的材料、結(jié)構(gòu)以及厚度還可以根據(jù)基板以及基板上觸摸電極的材料進(jìn)行具體選擇，本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此也沒(méi)有具體限制。

對(duì)于觸摸電極層130，例如由導(dǎo)電薄膜經(jīng)過(guò)圖案化工藝而形成。例如，該導(dǎo)電薄膜可以為透明導(dǎo)電薄膜。例如，該透明導(dǎo)電薄膜可以是透明金屬氧化物，例如，氧化銦錫(ITO)、氧化鋁鋅(AZO)、氧化銦鋅(IZO)等。例如，觸摸電極層的厚度可以為20-30nm，但根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制。

圖4示意性地示出了形成在第一基板100上的觸摸電極層130的平面結(jié)構(gòu)。如上所述，為了更清楚地示出透明電極層的結(jié)構(gòu)，圖4中省略了其他元件，但圖3例如是在圖4中AB線位置處對(duì)觸摸面板截取的截面圖。例如，透明電極層130包括沿圖4中的橫向延伸的多個(gè)第一電極和沿圖4中的縱向延伸的多個(gè)第二電極。第一電極和第二電極之間可以形成電容結(jié)構(gòu)，從而形成觸摸感應(yīng)器件。例如，第一電極和第二電極之一可以用于觸摸感應(yīng)的驅(qū)動(dòng)電極，另一個(gè)可以用于觸摸感應(yīng)的感應(yīng)電極，但本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制。

例如，每個(gè)第一電極或每個(gè)第二電極的端部包括觸摸電極邦定區(qū)132，以及與觸摸電極邦定區(qū)132電連接的觸摸電極圖案131。例如，觸摸電極圖案131是用于檢測(cè)觸摸動(dòng)作的電極圖案；觸摸電極圖案131的輸入和輸出信號(hào)通過(guò)觸摸電極邦定區(qū)132進(jìn)行傳輸。例如，如圖4所示，沿橫向延伸的觸摸電極圖案131的觸摸電極邦定區(qū)132位于觸摸電極圖案的左端，沿縱向延伸的觸摸電極圖案131的觸摸電極邦定區(qū)132位于觸摸電極圖案的上端。圖4中以不同的陰影圖案對(duì)觸摸電極圖案和觸摸電極邦定區(qū)進(jìn)行了區(qū)分。圖4中僅僅示出了根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板中的觸摸電極層的示意性結(jié)構(gòu)，根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例并不限于圖中所示的觸摸電極圖案131與觸摸電極邦定區(qū)132的具體位置關(guān)系，例如，觸摸電極邦定區(qū)還可以設(shè)置在觸摸電極圖案的下側(cè)或右側(cè)，也可以在觸摸電極圖案的上側(cè)、下側(cè)、左側(cè)和右側(cè)均有設(shè)置。例如，觸摸電極圖案可以設(shè)置在觸摸面板的中心區(qū)域(有效區(qū)域)，觸摸電極邦定區(qū)可以設(shè)置在觸摸面板的圍繞中心區(qū)域的外圍區(qū)域。例如，觸摸面板的有效區(qū)域占據(jù)觸摸面板的大部分平面面積。

觸摸電極圖案需要感測(cè)目標(biāo)靠近或接觸帶來(lái)的電容或其他物理參數(shù)的變化。例如，第一電極和第二電極的每個(gè)包括多個(gè)菱形的圖案。沿同一行或同一列排列的圖案彼此電連接，以形成沿橫向和縱向延伸的第一電極和第二電極。例如，如圖4所示，第一電極和第二電極的多個(gè)菱形圖案形成在同一層，沿縱向延伸的第二電極的菱形圖案通過(guò)與電極圖案一體形成的條狀結(jié)構(gòu)連接，沿橫向延伸的第一電極的菱形圖案通過(guò)與菱形圖案不同層的導(dǎo)電條(搭橋電極)連接。例如，該導(dǎo)電條和上述與菱形圖案一體形成的條狀結(jié)構(gòu)之間可以通過(guò)絕緣層彼此隔離，以避免二者的短路。例如，該導(dǎo)電條也可以由透明導(dǎo)電材料形成。圖4所示的圖案為菱形結(jié)構(gòu)，然而，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制，上述圖案可以為條形或其他任意合適的形狀。圖4僅僅示意性地示出了每個(gè)第一電極和每個(gè)第二電極包括四個(gè)菱形電極圖案，但本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制，每個(gè)第一電極和每個(gè)第二電極可以包括更少或更多個(gè)電極圖案。

觸摸電極圖案131的驅(qū)動(dòng)信號(hào)需要輸入或者感測(cè)信號(hào)需要輸出。例如，觸摸電極圖案131的驅(qū)動(dòng)信號(hào)或者感測(cè)信號(hào)通過(guò)觸摸電極邦定區(qū)輸入或輸出。觸摸電極邦定區(qū)132可以與引線連接，用于外界信號(hào)的輸入或感測(cè)信號(hào)的輸出。雖然圖3和圖4中使用不同的陰影圖案示出了觸摸電極邦定區(qū)132和觸摸電極圖案131，但觸摸電極邦定區(qū)132與觸摸電極圖案131可以設(shè)置在同一層，并且由相同的材料形成；或者也可以由同一圖案化工藝形成。觸摸電極邦定區(qū)132與觸摸電極圖案131電連接以用于信號(hào)的傳輸。在一些示例中，觸摸電極層130由ITO形成，例如，該觸摸電極層包括ITO感應(yīng)電極131和ITO邦定區(qū)132。例如，觸摸電極邦定區(qū)132形成在觸摸面板的外圍區(qū)域。

在上述圖3和圖4所示的觸摸面板的示例中，觸摸電極層的觸摸電極圖案(除搭橋電極外)均形成在一層，然而，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例并不限于此，不同的電極圖案也可以形成在不同層。例如，沿橫向延伸的第一電極和沿縱向延伸的第二電極可以形成在不同的層。由于沿不同方向的電極形成在不同的層，從而可以不必在電極交叉的位置再額外設(shè)計(jì)搭橋電極。例如，在不同層的觸摸電極層之間還需要形成絕緣層以避免二者之間形成短路。

對(duì)于在第二基板200上形成的第二消影層210，例如可以由于第一消影層120相同的材料形成，也可以由與第一消影層120不同的材料形成。另外，第二消影層210的厚度可以與第一消影層120相同，也可以與第一消影層120不同。例如，第二消影層210可以包括二氧化硅(SiO₂)和五氧化二鈮(Nb₂O₅)的疊層結(jié)構(gòu)。例如，第二消影層210中二氧化硅層的厚度可以是5-15nm，五氧化二鈮的厚度可以是10-40nm。第二基板200例如為蓋板玻璃，其被貼附到第一基板100的形成有觸摸電極層130的一側(cè)，從而保護(hù)第一基板100上形成的各種元件。

例如，第二基板200的形成有第二消影層210的一側(cè)可以通過(guò)膠層300貼附到第一基板100的形成有透明電極層130和第一消影層110的一側(cè)。本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)將第一基板和第二基板相結(jié)合的膠層沒(méi)有特別限制，只要能夠滿足觸摸面板所需的粘結(jié)、光學(xué)性能即可。例如，上述貼合工藝采用全貼合方式，也就是說(shuō)，在第一基板或第二基板的整個(gè)待貼合表面上涂覆光學(xué)膠，并將第一基板和第二基板通過(guò)膠層彼此結(jié)合。在這種情況下，膠層會(huì)存在于第一基板100和第二基板200之間的整個(gè)平面區(qū)域。例如，如圖3所示的觸摸面板是采用全貼合方式，膠層300存在于第二消影層210和第一消影層120之間以及第二消影層210和透明電極層131之間。

在根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板中，第一消影層120形成在第一基板100上，而第二消影層210形成在第二基板200上，透明電極層130夾設(shè)在第一消影層120和第二消影層210之間。第一消影層120、透明電極層130和第二消影層210形成了三明治的結(jié)構(gòu)。該三明治的結(jié)構(gòu)又夾設(shè)在第一基板100和第二基板200之間。由于在透明電極層(觸摸電極層)兩側(cè)均形成有消影層，即形成了兩個(gè)消影層，因此，能夠提高消影效果。即使在需要近距離觀察的觸摸產(chǎn)品中，也不會(huì)明顯看到觸摸電極層的電極圖案。此外，由于第二消影層210形成在第二基板200上，而不是形成在第一基板100上的透明電極層上，因此，在制備過(guò)程中，不需要蝕刻第二消影層210以露出觸摸電極邦定區(qū)，因此，能夠避免在蝕刻第二消影層210時(shí)對(duì)第一消影層120的過(guò)刻，從而避免由過(guò)刻引起的消影效果降低。此外，由于不需要對(duì)第二消影層210進(jìn)行蝕刻，還減少了蝕刻工藝，降低了生產(chǎn)成本。

另外，從圖3中可以看到，在第一基板100上還形成有黑矩陣層110。例如，黑矩陣110形成在觸摸面板，也就是，第一基板100的外圍區(qū)域，以避免觸摸面板的周圍漏光。另外，黑矩陣層110并不是必要的結(jié)構(gòu)，也可以視具體產(chǎn)品的需要而增加或減少。雖然在圖3所示的觸摸面板中黑矩陣形成在了第一基板100上且在第一消影層120的下側(cè)，但本實(shí)用新型的實(shí)施例不限于此，也可以形成在消影層的上側(cè)，也就是第一消影層120遠(yuǎn)離第一基板100的一側(cè)。另外，例如，黑矩陣層110也可以形成在其他層之間或者可以形成在第二基板200上，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制。

圖3中雖然僅僅示出了觸摸面板的第一基板100、黑矩陣110、第一消影層120、觸摸電極層130、光學(xué)膠層300、第二消影層210和第二基板200，然而，根據(jù)本實(shí)用新型的觸摸面板還可以包括其他任何合適的元件或構(gòu)件、層結(jié)構(gòu)、電極引線等。例如，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例的觸摸面板還包括用于與觸摸電極層的觸摸邦定區(qū)電連接的引線結(jié)構(gòu)(圖未示)、以及上述觸摸電極層的搭橋電極與下層透明電極層之間的絕緣層等。因此，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例可以在上述圖3和圖4所示結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上增加或減少個(gè)別元件或?qū)咏Y(jié)構(gòu)。

此外，雖然圖4中示意性地畫(huà)出了觸摸電極層130的每個(gè)電極包括四個(gè)菱形圖案，但根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例不限于此，而是可以根據(jù)具體情況而任意設(shè)定。雖然在圖3的截面圖中示意性地示出各個(gè)電極圖案為彼此隔離的結(jié)構(gòu)，然而，在平面圖(如圖4)中看，成排或成列排布的菱形圖案可以是相互電連接的，以形成縱橫交叉的多條觸摸電極(如圖4所示)。雖然圖3的截面圖中示出觸摸電極層邦定區(qū)132與觸摸電極圖案131是彼此隔離的，但實(shí)際上觸摸電極邦定區(qū)132是與觸摸電極圖案131是電連接的(如圖4所示)，從而可以通過(guò)觸摸電極邦定區(qū)132為觸摸電極層提供驅(qū)動(dòng)或者輸出信號(hào)。

圖5為根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例的觸摸面板的截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖5所示的觸摸面板的結(jié)構(gòu)與圖3所示的觸摸面板的結(jié)構(gòu)不同之處在于第一基板和第二基板之間的結(jié)合方式不同。圖5中兩個(gè)基板之間的結(jié)構(gòu)通過(guò)框貼方式來(lái)結(jié)合，也就是說(shuō)，光學(xué)膠層300僅僅設(shè)置在基板的周邊區(qū)域，而周邊區(qū)域圍繞的中心區(qū)域沒(méi)有涂覆光學(xué)膠層。因此，在圖5所示的觸摸面板中，第二消影層210與透明電極層130或者第一消影層120之間具有間隙層301。圖5所示的觸摸面板的其他結(jié)構(gòu)可以與圖3所示的觸摸面板相同或相似，并且也能夠起到圖3所示的觸摸面板的技術(shù)效果，這里不再贅述。

綜合圖3和圖5所示的結(jié)構(gòu)來(lái)看，由于本實(shí)用新型實(shí)施例中的第一消影層120和第二消影層210分別形成在第一基板100和第二基板200上，因此，在兩個(gè)基板彼此結(jié)合后，第一消影層120和第二消影層210之間具有膠層300或者間隔層至少之一。

在上述觸摸面板結(jié)構(gòu)中，由于在制作觸摸面板時(shí)分別將第一消影層和第二消影層制作在不同的基板，因此，能夠避免第二消影層在透明電極層的觸摸電極邦定區(qū)的蝕刻工藝，并避免了由此帶來(lái)的不良影響。根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例還提供了一種制作這些觸摸面板的方法。

根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板的制作方法，如圖6所示，包括：在第一基板上形成第一消影層；在第一消影層上形成觸摸電極層；在第二基板上形成第二消影層；以及將第一基板和第二基板對(duì)盒，并且第一基板形成有第一消影層和觸摸電極層的一側(cè)面對(duì)第二基板形成有第二消影層的一側(cè)。

在根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板的制作方法中，除了能夠?qū)崿F(xiàn)上述結(jié)合觸摸面板的結(jié)構(gòu)描述的技術(shù)效果之外，由于僅僅使第二消影層的形成位置進(jìn)行了改變，并不會(huì)增加額外的工藝流程。另外，雖然第二消影層在形成過(guò)程中的形成位置發(fā)生了改變，但由于第一基板和第二基板上形成各種層結(jié)構(gòu)或元件之后會(huì)彼此結(jié)合，因此，依然是在觸摸電極層的兩側(cè)各設(shè)置有一層消影層，因此，依然能夠達(dá)到或近似達(dá)到與圖1或圖2所示的觸摸面板的消影效果。

例如，在第一基板100上形成第一消影層120可以包括在第一基板100上形成二氧化硅和五氧化二釩的疊層結(jié)構(gòu)。在一些實(shí)施例中，可以采用磁控濺射的方式在第一基板100上形成五氧化二釩和二氧化硅的疊層，如圖7所示。

在一些示例中，在形成第一消影層之前，還可以在第一基板100上形成黑矩陣層110。例如，黑矩陣層110可以以邊框的形式形成在第一基板的外圍區(qū)域。黑矩陣層110可以采用黑色油墨、金屬鉻或者黑色樹(shù)脂等形成。然而，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例也并不限于在形成第一消影層120之前形成黑矩陣層110，也可以在形成第一消影層120之后再形成黑矩陣層110，也就是說(shuō)，黑矩陣層形成在第一消影層120上。

在形成第一消影層120之后，如圖8所示，在第一消影層120形成觸摸電極層130。例如，通過(guò)低溫(例如，200℃-250℃)制作工藝在第一消影層120上利用真空濺射形成一層透明導(dǎo)電膜。例如，該透明導(dǎo)電膜可以是ITO、AZO、IZO等透明導(dǎo)電膜，本實(shí)用新型的實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制。在形成透明導(dǎo)電膜之后，可以采用涂覆光刻膠、曝光、顯影、以及蝕刻等工藝將透明導(dǎo)電膜圖案化。然而，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例并不限于上述圖案化方式。經(jīng)過(guò)圖案化的透明導(dǎo)電膜形成觸摸電極層。例如，可以參照?qǐng)D4，觸摸電極層130可以包括沿橫向延伸的第一電極和沿縱向延伸的第二電極。第一電極和第二電極的每個(gè)包括多個(gè)菱形的圖案。沿同一行或同一列排列的圖案彼此電連接，以形成沿橫向和縱向延伸的第一電極和第二電極。例如，第一電極和第二電極的多個(gè)電極圖案(圖中的菱形圖案)形成在同一層。因此，這些電極圖案可以通過(guò)同一層導(dǎo)電薄膜(例如，透明導(dǎo)電薄膜)圖案化而形成。沿縱向延伸的第二電極的多個(gè)電極圖案通過(guò)與電極圖案一體形成的條狀結(jié)構(gòu)連接，沿橫向延伸的第一電極的電極圖案通過(guò)與電極圖案不同層的導(dǎo)電條(搭橋電極)連接。例如，此時(shí)的搭橋電極需要在另一次圖案化工藝中形成。該導(dǎo)電條和上述與電極圖案一體形成的條狀結(jié)構(gòu)之間還需要形成絕緣層以將二者彼此隔離。例如，該導(dǎo)電條也可以由透明導(dǎo)電材料形成。上述步驟僅僅為形成觸摸導(dǎo)電層的一個(gè)示例，也可以通過(guò)其他任意合適的步驟形成觸摸導(dǎo)電層。

如圖9所示，在第二基板200上形成第二消影層210。例如，可以包括在第二基板200上形成二氧化硅和五氧化二釩的疊層結(jié)構(gòu)。在一些實(shí)施例中，可以采用磁控濺射的方式在第二基板200上形成五氧化二釩和二氧化硅的疊層。第二消影層210例如可以由于第一消影層120相同的材料形成，也可以由與第一消影層120不同的材料形成。另外，第二消影層210的厚度可以與第一消影層120相同，也可以與第一消影層120不同。

如上所述，在第一基板100和第二基板200上形成了各種層結(jié)構(gòu)。第二基板200一般為蓋板玻璃，可以保護(hù)第一基板100上的各種元器件。例如，如圖10所示，可以將第二基板200的形成有第二消影層210一側(cè)面對(duì)第一基板100形成有觸摸電極層130以及第一消影層120的一側(cè)。例如，可以在第一基板100和第二基板200其中任何之一上涂覆光學(xué)膠，然后將第一基板100和第二基板200彼此結(jié)合。在圖10所示的示例中，光學(xué)膠300涂覆在了第一基板100上，但根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例不限于此。例如，第一基板和第二基板結(jié)合的方式可以包括全貼和框貼方式。在一個(gè)采用方式的示例中(附圖10所示)，在第一基板的形成有消影層的整個(gè)表面上涂覆光學(xué)膠，將第二基板貼合到第一基板上以將二者彼此結(jié)合。在這種全貼方式下形成的觸摸面板結(jié)構(gòu)可以參照?qǐng)D3，光學(xué)膠層分布在觸摸面板的整個(gè)平面范圍內(nèi)。利用框貼方式結(jié)合所形成的觸摸面板結(jié)構(gòu)可以參照?qǐng)D5，膠層300只分布在觸摸面板的周邊部分，以在周邊部分圍繞的中心區(qū)域形成間隙層301。

根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例還提供一種觸摸顯示裝置，該觸摸顯示裝置包括如上述所述的觸摸面板以及顯示面板，觸摸面板位于顯示面板的顯示表面?zhèn)?。例如，顯示面板例如可以包括液晶顯示面板、有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板或者電子墨水顯示面板等。例如，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例的觸摸顯示面板可以是將上述觸摸面板直接貼合在顯示面板的顯示表面?zhèn)?，然而，根?jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例不限于此。例如，根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸顯示面板也可以是On-cell形式的觸摸顯示面板，也就是說(shuō)，顯示面板和觸摸面板可以共用一個(gè)襯底基板。圖11示出了一個(gè)On-cell形式的觸摸顯示面板的截面結(jié)構(gòu)示意圖。該觸摸顯示面板包括觸摸面板01和顯示面板02，觸摸面板01可以是上述任一實(shí)施例的觸摸面板。例如，顯示面板02可以包括陣列基板400和對(duì)置基板100。也就是說(shuō)，顯示面板02的對(duì)置基板100和觸摸面板的第一基板100彼此共用，形成在第一基板100上的各種元件層結(jié)構(gòu)可以形成在顯示面板02的對(duì)置基板上。例如，陣列基板400上可以包括形成陣列形式的薄膜晶體管元件以及其他陣列元件，以及控制顯示介質(zhì)的各種電路元件等。例如，在液晶顯示面板的情況下，陣列基板400和對(duì)置基板100之間可以包括液晶層；在有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的情況下，陣列基板400和對(duì)置基板100之間可以包括發(fā)光二極管元件；在電子墨水顯示面板的情況下，陣列基板400和對(duì)置基板100之間可以包括電子墨水，這些元件沒(méi)有在圖11中詳細(xì)示出。在圖11所示的觸摸顯示面板中，顯示面板02的對(duì)置基板100和觸摸面板第一基板100可以彼此共用，因此，可以降低觸摸顯示裝置的總體厚度。

上述觸摸面板的制備方法可以用于制備上述任一實(shí)施例的觸摸面板，因此，以上關(guān)于觸摸面板所描述的結(jié)構(gòu)或其他特征也適用于本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板的制備方法。

對(duì)于本實(shí)用新型實(shí)施例的觸摸面板及其制備方法，可以應(yīng)用于小尺寸產(chǎn)品上，以適應(yīng)此類產(chǎn)品的高的消影等級(jí)。然而，本實(shí)用新型實(shí)施例對(duì)此沒(méi)有特別限制，而是也可以應(yīng)用于大尺寸產(chǎn)品上。另外，上述實(shí)施例中主要結(jié)合單層導(dǎo)電薄膜形成的觸摸電極圖案進(jìn)行了描述，然而，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例也可以包括兩層或更多層導(dǎo)電薄膜形成的觸摸電極圖案。兩層消影層設(shè)置在這些觸摸電極圖案的兩側(cè)，也可以達(dá)到良好的消影效果。

以上所述僅是本實(shí)用新型的示范性實(shí)施方式，而非用于限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求確定。