本發(fā)明涉及觸控技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種觸控屏，還涉及一種觸控模組。

背景技術(shù)：

目前，越來越多的用戶需要在觸控顯示模組中同時(shí)具有減反射、延遲、偏光、防眩光以及防指紋的功能，現(xiàn)有技術(shù)中，通過在觸摸屏粘貼防眩光、減反射、以及防指紋集合為一體的膜或者鍍膜，以及一張延遲膜和用于防太陽眼鏡功能的延遲膜，導(dǎo)致了觸控顯示模組厚度增加，成本增加，工藝繁瑣。

因此，如何在實(shí)現(xiàn)減反射、防眩光、防太陽眼鏡以及觸控功能的同時(shí)，減少觸摸屏的厚度和成本，簡(jiǎn)化工藝流程是本領(lǐng)域技術(shù)人員需要解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種觸摸屏，在實(shí)現(xiàn)減反射、防眩光、防指紋、防太陽眼鏡以及觸控功能的同時(shí)，減少觸摸屏的厚度和成本，簡(jiǎn)化工藝流程。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種觸摸屏，包括：

偏光層；

分別制備于所述偏光層上表面以及下表面的具有觸控功能的上延遲基材以及下延遲基材，所述上延遲基材以及所述下延遲基材均包括延遲層以及觸控層；

制備于所述上延遲層上方的防眩光層、防反射層以及防指紋層。

優(yōu)選的，在上述觸摸屏中，所述上延遲基材的觸控層制作于所述上延遲基材的延遲層的下表面，所述下延遲基材的觸控層制作于所述下延遲基材的延遲層的上表面或者下表面。

優(yōu)選的，在上述觸摸屏中，所述上延遲基材和/或所述下延遲基材還包括：

制備于所述延遲層與所述觸控層之間的所述消影層。

優(yōu)選的，在上述觸摸屏中，所述觸控層為ito、石墨烯、銀納米線或者金屬網(wǎng)格。

優(yōu)選的，在上述觸摸屏中，所述防指紋層的厚度范圍為1nm-10nm。

優(yōu)選的，在上述觸摸屏中，所述防反射層的厚度范圍為200nm-300nm。

優(yōu)選的，在上述觸摸屏中，所述防眩光層的厚度范圍為3μm-5μm。

本發(fā)明還提供一種觸控模組，包括如上述任一項(xiàng)所述的觸摸屏，所述觸摸屏制備于顯示屏上表面。

本發(fā)明所提供的觸摸屏，包括：偏光層；分別制備于所述偏光層上表面以及下表面的具有觸控功能的上延遲基材以及下延遲基材，所述上延遲基材以及所述下延遲基材均包括延遲層以及觸控層；制備于所述上延遲層上方的防眩光層、防反射層以及防指紋層。本發(fā)明將防眩光層、防反射層、防指紋、防太陽眼鏡以及觸控功能的基材制備于偏光片表面，集成于同一張膜中，實(shí)現(xiàn)防反射、防眩光、防指紋、防太陽鏡以及觸控功能的同時(shí)，減少觸摸屏的厚度和成本，簡(jiǎn)化工藝流程。

本發(fā)明還提供了一種觸控模組，具有上述效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例所提供的觸摸屏結(jié)構(gòu)圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例所提供的另一種觸摸屏結(jié)構(gòu)圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例所提供的另一種觸摸屏結(jié)構(gòu)圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例所提供的觸摸屏光路圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例所提供的觸控模組示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參考圖1，圖1為本發(fā)明實(shí)施例所提供的觸摸屏結(jié)構(gòu)圖。

在一種具體的實(shí)施方式中，提供了一種觸摸屏，包括：偏光層02；分別制備于所述偏光層02上表面以及下表面的具有觸控功能的上延遲基材03以及下延遲基材01，所述上延遲基材03以及所述下延遲基材01均包括延遲層以及觸控層；制備于所述上延遲層上方的防眩光層04、防反射層05以及防指紋層06。

其中，偏光片的基本結(jié)構(gòu)為上下兩層基材和中間的偏光層02，偏光層02可以為碘系的pva聚醋酸乙烯酯層，偏光層02可以將自然光轉(zhuǎn)化為線偏振光，由于太陽眼鏡具有偏振作用，當(dāng)顯示模組通過偏光片發(fā)出的光為線偏振光時(shí)，戴著太陽眼鏡在一些角度看顯示屏08為全黑，當(dāng)顯示模組發(fā)出的光經(jīng)過最上層上延遲基材03出射后，變?yōu)閳A偏振光或者橢圓偏振光后，戴太陽鏡可以從各個(gè)角度看到顯示屏08，達(dá)到防太陽眼鏡的效果。

上下兩層的基材可以為pc聚碳酸酯、tac三醋酸纖維素等材料，用于支撐和保護(hù)中間的偏光層02，將上基材以及下基材制作具有延遲功能，即將pc聚碳酸酯材料或者tac三醋酸纖維素材料制備為具有延遲功能的延遲層作為上基材以及下基材，具有延遲功能的基材可以將線偏振光轉(zhuǎn)化為橢圓或者圓偏振光，同時(shí)，在所述上延遲基材03以及所述下延遲基材01均包括延遲層以及觸控層，使得基材具有延遲和觸控功能。

制備于所述上延遲層上方的防眩光層04以及防反射層05，防眩光層04與硬涂層為一體，硬涂層提高表面硬度，可以達(dá)到7h以上，光線經(jīng)過防眩光層04后反射向各個(gè)方向，具有防眩光效果。防反射層05有效降低反射率，使得觸控顯示模組達(dá)到增透和一體黑的效果。采用涂布或者其它方式涂布一層防反射層05，通過鍍膜的方式鍍7到8層高低折射率材料，厚度為200到300nm，通過光的干涉來達(dá)到減少反射率的目的。

如圖4所示，圖4為本發(fā)明實(shí)施例所提供的觸摸屏光路圖。由于入射光1是自然光，1光透過時(shí)經(jīng)過偏光層02發(fā)生反射時(shí)，由于偏光片的吸收作用，可以減少反射光8，使反射率下降，又由于延遲層的作用將線偏光轉(zhuǎn)化為橢圓或者圓偏光，反射光9經(jīng)過偏光層02后，由于吸收作用，可以進(jìn)一步的減少反射光。

將防指紋層06、防眩光層04、防反射層05、延遲層即防太陽眼鏡層以及觸控功能的基材制備于偏光片表面，集成于同一張膜中，實(shí)現(xiàn)防指紋、防反射、防眩光、防太陽眼鏡以及觸控功能的同時(shí)，減少觸摸屏的厚度和成本，簡(jiǎn)化工藝流程。

在上述觸摸屏的基礎(chǔ)上，如圖2所示，圖2為本發(fā)明實(shí)施例所提供的另一種觸摸屏結(jié)構(gòu)圖。

所述上延遲基材的觸控層32制作于所述上延遲基材的延遲層31的下表面，所述下延遲基材的觸控層12制作于所述下延遲基材的延遲層11的上表面或者下表面。

其中，下延遲基材01中的觸控層以及延遲層的設(shè)置順序并不做具體限定，觸控層或者延遲層均可以與偏光層02黏貼，均在保護(hù)范圍內(nèi)。

在上述觸摸屏的基礎(chǔ)上，如圖3所示，圖3為本發(fā)明實(shí)施例所提供的另一種觸摸屏結(jié)構(gòu)圖。所述上延遲基材03和/或所述下延遲基材01還包括：制備于所述延遲層與所述觸控層之間的消影層07。

由于延遲層和觸控層之間的界面反射率較高，因此，在二者之間增加消影層07能夠進(jìn)一步降低反射率。

優(yōu)選的，在上述觸摸屏中，所述觸控層為ito、石墨烯、銀納米線或者金屬網(wǎng)格。需要指出的是，觸控層包括但不限于上述幾種材料制備，還可以為其他材料進(jìn)行制備，均在保護(hù)范圍內(nèi)。

在上述觸摸屏的基礎(chǔ)上，所述防指紋層06的厚度范圍為1nm-10nm。

在上述觸摸屏的基礎(chǔ)上，所述防反射層05的厚度范圍為200nm-300nm。

在上述觸摸屏的基礎(chǔ)上，所述防眩光層04的厚度范圍為3μm-5μm。

當(dāng)然，偏光層02、防反射層05以及防眩光層04的厚度范圍包括但不限于上述范圍，根據(jù)需求進(jìn)行設(shè)置。

本發(fā)明將防眩光層04、防反射層05、防指紋層06、偏光層02以及觸控功能的基材制備于偏光片表面，集成于同一張膜中，實(shí)現(xiàn)減反射、防眩光、防太陽鏡以及觸控功能的同時(shí)，減少觸摸屏的厚度和成本，簡(jiǎn)化工藝流程。

說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。對(duì)于實(shí)施例公開的裝置而言，由于其與實(shí)施例公開的方法相對(duì)應(yīng)，所以描述的比較簡(jiǎn)單，相關(guān)之處參見方法部分說明即可。

本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，這些改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。