1.一種實(shí)時(shí)渲染次表面散射的方法，其特征在于，包括：
在實(shí)時(shí)渲染過(guò)程中，獲取虛擬物體對(duì)應(yīng)的三維模型的表面紋理；所述表面紋理包括所述三維模型表面上的像素點(diǎn)的次表面散射紋理信息，所述次表面散射紋理信息包括所述像素點(diǎn)作為光線出射點(diǎn)時(shí)對(duì)應(yīng)的M個(gè)光線入射點(diǎn)的空間信息，以及，每一光線入射點(diǎn)與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離；所述光線入射點(diǎn)位于所述三維模型的表面，所述M個(gè)光線入射點(diǎn)基于散射原理確定；M為大于1的正整數(shù)；
根據(jù)所述光線入射點(diǎn)的空間信息，計(jì)算得到所述每一光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息；
根據(jù)每一光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息以及其與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離進(jìn)行光線衰減，得到每一光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的衰減結(jié)果；
對(duì)各光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的衰減結(jié)果求和，得到所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息；
使用所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息，對(duì)所述虛擬物體的表面上相應(yīng)像素點(diǎn)進(jìn)行渲染。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在獲取所述表面紋理之前，還包括：生成所述表面紋理。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述生成所述表面紋理包括：
基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行遞歸光線追蹤，得到光線追蹤結(jié)果，所述光線追蹤結(jié)果包括所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的多個(gè)表面散射點(diǎn)，所述多個(gè)表面散射點(diǎn)均位于所述三維模型表面上；
從所述多個(gè)表面散射點(diǎn)中確定出M個(gè)光線入射點(diǎn)；
存儲(chǔ)每一光線入射點(diǎn)的空間信息，以及，每一光線入射點(diǎn)與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離。
4.如權(quán)利要求2或3所述的方法，其特征在于，在所述基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行遞歸光線追蹤之前，還包括：
構(gòu)建可完全包圍所述三維模型的包圍盒；
使用由多個(gè)切割面構(gòu)成的網(wǎng)格對(duì)所述包圍盒進(jìn)行劃分。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，在所述基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行遞歸光線追蹤之前，還包括：
獲取光線追蹤參數(shù)；所述光線追蹤參數(shù)包括：散射方向個(gè)數(shù)m和矢量，m為大于1的正整數(shù)。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行的第i次遞歸光線追蹤包括：
使用所述光線追蹤參數(shù)生成m條散射光線，所述m條散射光線相交于目標(biāo)點(diǎn)；
確定所述m條散射光線中第j條散射光線在本次遞歸光線追蹤中對(duì)應(yīng)的散射點(diǎn)；
若所述散射點(diǎn)不位于所述三維模型表面上，將所述散射點(diǎn)作為下一遞歸光線追蹤中的目標(biāo)點(diǎn)；
若所述散射點(diǎn)位于所述三維模型表面上，將所述散射點(diǎn)作為表面散射點(diǎn)；
其中，i為小于N的整數(shù)，所述N為最大遞歸次數(shù)；j為小于m的整數(shù)；
第0次遞歸光線追蹤中的目標(biāo)點(diǎn)為所述三維模型表面上的像素點(diǎn)。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述確定第j條散射光線在本次遞歸光線追蹤中對(duì)應(yīng)的散射點(diǎn)包括：
確定所述第j條散射光線與目標(biāo)切割面的第一交點(diǎn)，以及所述第j條散射光線和所述三維模型表面的第二交點(diǎn)；所述目標(biāo)切割面為與所述目標(biāo)點(diǎn)的法向夾角最大的切割面集合中、離所述目標(biāo)點(diǎn)最近的切割面；
將所述第一交點(diǎn)和第二交點(diǎn)中更接近所述目標(biāo)點(diǎn)的交點(diǎn)作為所述第j條散射光線對(duì)應(yīng)的散射點(diǎn)。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述從所述多個(gè)表面散射點(diǎn)中確定出M個(gè)光線入射點(diǎn)包括：
獲取各表面散射點(diǎn)與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離；
按光線傳播距離由小到大對(duì)所述多個(gè)表面散射點(diǎn)進(jìn)行排序；
選擇前M個(gè)表面散射點(diǎn)作為所述M個(gè)光線入射點(diǎn)。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述空間信息包括位置信息和法線。
10.一種實(shí)時(shí)渲染裝置，其特征在于，包括獲取單元和渲染單元，其中：
所述獲取單元用于在實(shí)時(shí)渲染過(guò)程中，獲取虛擬物體對(duì)應(yīng)的三維模型的表面紋理；所述表面紋理包括所述三維模型表面上的像素點(diǎn)的次表面散射紋理信息，所述次表面散射紋理信息包括所述像素點(diǎn)作為光線出射點(diǎn)時(shí)對(duì)應(yīng)的M個(gè)光線入射點(diǎn)的空間信息，以及，每一光線入射點(diǎn)與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離；所述光線入射點(diǎn)位于所述三維模型的表面，所述M個(gè)光線入射點(diǎn)基于散射原理確定；M為大于1的正整數(shù)；
所述渲染單元用于：
根據(jù)所述光線入射點(diǎn)的空間信息，計(jì)算得到所述每一光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息；
根據(jù)每一光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息以及其與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離進(jìn)行光線衰減，得到每一光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的衰減結(jié)果；
對(duì)各光線入射點(diǎn)對(duì)應(yīng)的衰減結(jié)果求和，得到所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息；
使用所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)信息，對(duì)所述虛擬物體的表面上相應(yīng)像素點(diǎn)進(jìn)行渲染。
11.如權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于，還包括：
生成單元，用于生成所述表面紋理。
12.如權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述生成單元具體用于：
基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行遞歸光線追蹤，得到光線追蹤結(jié)果，所述光線追蹤結(jié)果包括所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的多個(gè)表面散射點(diǎn)，所述多個(gè)表面散射點(diǎn)均位于所述三維模型表面上；
從所述多個(gè)表面散射點(diǎn)中確定出M個(gè)光線入射點(diǎn)；
存儲(chǔ)每一光線入射點(diǎn)的空間信息，以及，每一光線入射點(diǎn)與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離。
13.如權(quán)利要求11或12所述的裝置，其特征在于，在所述基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行遞歸光線追蹤之前，所述生成單元還用于：
構(gòu)建可完全包圍所述三維模型的包圍盒；
使用由多個(gè)切割面構(gòu)成的網(wǎng)格對(duì)所述包圍盒進(jìn)行劃分。
14.如權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，在所述基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行遞歸光線追蹤之前，所述生成單元還用于：
獲取光線追蹤參數(shù)；所述光線追蹤參數(shù)包括：散射方向個(gè)數(shù)m和矢量，m為大于1的正整數(shù)。
15.如權(quán)利要求14所述的裝置，其特征在于，在基于所述三維模型表面上的像素點(diǎn)進(jìn)行的第i次遞歸光線追蹤方面，所述生成單元具體用于：
使用所述光線追蹤參數(shù)生成m條散射光線，所述m條散射光線相交于目標(biāo)點(diǎn)；
確定所述m條散射光線中第j條散射光線在本次遞歸光線追蹤中對(duì)應(yīng)的散射點(diǎn)；
若所述散射點(diǎn)不位于所述三維模型表面上，將所述散射點(diǎn)作為下一遞歸光線追蹤中的目標(biāo)點(diǎn)；
若所述散射點(diǎn)位于所述三維模型表面上，將所述散射點(diǎn)作為表面散射點(diǎn)；
其中，i為小于N的整數(shù)，所述N為最大遞歸次數(shù)；j為小于m的整數(shù)；
第0次遞歸光線追蹤中的目標(biāo)點(diǎn)為所述三維模型表面上的像素點(diǎn)。
16.如權(quán)利要求15所述的裝置，其特征在于，在所述確定第j條散射光線在本次遞歸光線追蹤中對(duì)應(yīng)的散射點(diǎn)方面，所述生成單元具體用于：
確定所述第j條散射光線與目標(biāo)切割面的第一交點(diǎn)，以及所述第j條散射光線和所述三維模型表面的第二交點(diǎn)；所述目標(biāo)切割面為與所述目標(biāo)點(diǎn)的法向夾角最大的切割面集合中、離所述目標(biāo)點(diǎn)最近的切割面；
將所述第一交點(diǎn)和第二交點(diǎn)中更接近所述目標(biāo)點(diǎn)的交點(diǎn)作為所述第j條散射光線對(duì)應(yīng)的散射點(diǎn)。
17.如權(quán)利要求16所述的裝置，其特征在于，在所述從所述多個(gè)表面散射點(diǎn)中確定出M個(gè)光線入射點(diǎn)方面，所述生成單元具體用于：
獲取各表面散射點(diǎn)與所述像素點(diǎn)之間的光線傳播距離；
按光線傳播距離由小到大對(duì)所述多個(gè)表面散射點(diǎn)進(jìn)行排序；
選擇前M個(gè)表面散射點(diǎn)作為所述M個(gè)光線入射點(diǎn)。
18.一種終端，其特征在于，包括如權(quán)利要求10至17所述的實(shí)時(shí)渲染裝置。