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一種RFID標(biāo)簽芯片中的射頻調(diào)制電路的制作方法

文檔序號(hào):11808525閱讀:568來源:國(guó)知局
一種RFID標(biāo)簽芯片中的射頻調(diào)制電路的制作方法與工藝

本發(fā)明屬于電路領(lǐng)域,具體地涉及一種RFID標(biāo)簽芯片中的射頻調(diào)制電路。



背景技術(shù):

射頻識(shí)別(RFID:Radio Frequency Identification)技術(shù),是一種利用射頻信號(hào)和電磁耦合實(shí)現(xiàn)識(shí)別目標(biāo)的技術(shù)。同時(shí),該技術(shù)也利用電磁耦合實(shí)現(xiàn)基站和標(biāo)簽之間的數(shù)據(jù)傳輸。該技術(shù)具有不局限于視線,識(shí)別距離比光學(xué)系統(tǒng)遠(yuǎn),標(biāo)簽可讀寫、可攜帶大量數(shù)據(jù),同時(shí)具有難以偽造和智能性較高等優(yōu)點(diǎn)而得到社會(huì)各領(lǐng)域的廣泛使用。

RFID標(biāo)簽芯片上的射頻調(diào)制電路的理想電路(如圖1a)是一個(gè)理想開關(guān)S1,接在天線的兩端RFP、RFN,由調(diào)制信號(hào)VMOD控制,當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為低電平時(shí),開關(guān)S1開路。由于開關(guān)S1是理想開關(guān),天線兩端RFP、RFN看到一個(gè)無窮大的電阻,天線兩端電壓RFP-RFN即為接收到的射頻信號(hào);當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為高電平時(shí),開關(guān)S1閉合,理想開關(guān)的閉合阻抗為0,使得天線兩端短路,RFP-RFN為0,其波形如圖1b所示。

典型的實(shí)際的RFID標(biāo)簽芯片上的射頻調(diào)制電路如圖2a-所示,一個(gè)N型MOS管MN1作為開關(guān),調(diào)制信號(hào)VMOD通過一個(gè)驅(qū)動(dòng)緩沖級(jí)BUF1來控制N型MOS管MN1的開關(guān)。圖2b所示為N型MOS管MN1的等效電路,即為一個(gè)理想開關(guān)S1和N型MOS管MN1的導(dǎo)通電阻RN串聯(lián)后和一個(gè)寄生二極管DN1并聯(lián)組成。當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為高電平時(shí),N型MOS管MN1導(dǎo)通,天線兩端看到等效電阻RN,通常會(huì)設(shè)計(jì)該電阻RN具有一個(gè)很小的電阻值,使得天線兩端RFP和RFN近乎短路,即電壓RFP-RFN幾乎為0;當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為低電平(此處為0)時(shí),N型MOS管MN1關(guān)斷,天線兩端RFP、RFN期望看到的是一個(gè)開路,但是,當(dāng)天線上接收到的射頻輸入信號(hào)RFP-RFN在負(fù)半周期時(shí),且射頻輸入信號(hào)RFP-RFN的幅度比寄生二極管DN1的導(dǎo)通電壓高時(shí),即使調(diào)制信號(hào)VMOD為低電平,寄生二極管DN1也會(huì)導(dǎo)通,于是天線兩端看到的并不是一個(gè)開路,而且造成射頻輸入信號(hào)RFP-RFN被箝位和漏電,進(jìn)一步影響工作距離,特別是在高溫時(shí),其波形如圖2c所示。

為了解決寄生二極管DN1的箝位和漏電問題,可以增加一個(gè)互補(bǔ)的P型MOS管MP1,并把P型MOS管MP1的漏極連接到N型MOS管MN1的漏極,如圖3a所示。其等效電路如圖3b所示,當(dāng)射頻輸入信號(hào)RFP-RFN在負(fù)半周期時(shí),N型MOS管MN1的寄生體二極管DN1被P型MOS管MP1阻斷,不能導(dǎo)通,解決上述問題。但是,由于P型MOS管MP1需要一定的導(dǎo)通電壓VTH(MP1),相當(dāng)于在其等效電路中,增加了一個(gè)正向?qū)妷篤TH(MP1),導(dǎo)致在調(diào)制信號(hào)VMOD為高電平時(shí),天線兩端RFP、RFN不能短路相接,而是被箝位在VTH(MP1)處,如圖3c所示,從而引入了新問題,所以單增加一個(gè)互補(bǔ)的P型MOS管MP1不能有效解決上述問題。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明目的在于為解決上述問題而提供一種可以有效解決射頻信號(hào)位于負(fù)半周期時(shí),射頻信號(hào)被非正常箝位,從而影響工作距離的問題,且電路結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本低的RFID標(biāo)簽芯片中的射頻調(diào)制電路。

為此,本發(fā)明公開了一種RFID標(biāo)簽芯片中的射頻調(diào)制電路,包括P型MOS管MP1、N型MOS管MN1、反相電路、電容C1和單向開關(guān),所述P型MOS管MP1和N型MOS管MN1的漏極相連,所述P型MOS管MP1和N型MOS管MN1的源極分別接天線的兩端,所述N型MOS管MN1的源極同時(shí)接地,所述P型MOS管MP1的襯底與漏極連接,調(diào)制信號(hào)接所述N型MOS管MN1的柵極,同時(shí)經(jīng)反相電路接所述電容C1的第一端,所述電容C1的第二端接P型MOS管MP1的柵極,同時(shí)連接單向開關(guān)接地,所述單向開關(guān)的電流導(dǎo)通方向指向地。

進(jìn)一步的,所述反相電路由反相器INV1組成,調(diào)制信號(hào)接所述反相器INV1的輸入端,所述反相器INV1的輸出端接電容C1的第一端。

進(jìn)一步的,所述單向開關(guān)為二極管D1,所述二極管D1的正端接電容C1的第二端,所述二極管D1的負(fù)端接地。

進(jìn)一步的,所述單向開關(guān)為P型MOS管MP2,所述P型MOS管MP2的源極接電容C1的第二端,所述P型MOS管MP2的漏極接地,所述調(diào)制信號(hào)接P型MOS管MP2的柵極,所述P型MOS管MP2的襯底與漏極連接。

進(jìn)一步的,所述單向開關(guān)為NPN三極管Q1,所述NPN三極管Q1的發(fā)射極接電容C1的第二端,所述NPN三極管Q1的集電極接地,所述調(diào)制信號(hào)接NPN三極管Q1的的基極。

本發(fā)明的有益技術(shù)效果:

本發(fā)明通過采用互補(bǔ)的MOS管組成開關(guān)并通過電容和單向開關(guān)組成自舉電路將P型MOS管的柵極電壓下拉到負(fù),使得天線兩端RFP和RFN近乎短路,從而有效解決了射頻信號(hào)位于負(fù)半周期時(shí),射頻信號(hào)被非正常箝位,從而影響工作距離的問題,且電路結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本低。

附圖說明

圖1a為理想的射頻調(diào)制電路原理圖;

圖1b為圖1a的射頻輸入信號(hào)波形圖;

圖2a為典型的實(shí)際的RFID標(biāo)簽芯片上的射頻調(diào)制電路原理圖;

圖2b為圖2a的等效電路圖;

圖2c為圖2a的射頻輸入信號(hào)波形圖;

圖3a為增加一個(gè)P型MOS管的射頻調(diào)制電路原理圖;

圖3b為圖3a的等效電路圖;

圖3c為圖3a的射頻輸入信號(hào)波形圖;

圖4a為本發(fā)明實(shí)施例一的電路原理圖;

圖4b為圖4a的若干節(jié)點(diǎn)的電壓波形圖;

圖5為本發(fā)明實(shí)施例二的電路原理圖;

圖6為本發(fā)明實(shí)施例三的電路原理圖。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。

實(shí)施例一:

如圖4a和4b所示,一種RFID標(biāo)簽芯片中的射頻調(diào)制電路,包括P型MOS管MP1、N型MOS管MN1、反相電路、電容C1和單向開關(guān),本實(shí)施例中,反相電路由反相器INV1組成,當(dāng)然,在其它實(shí)施例中,也可以是由其它元器件如三極管組成的反相電路,所示單向開關(guān)為二極管D1,所述P型MOS管MP1和N型MOS管MN1的漏極相連,所述P型MOS管MP1和N型MOS管MN1的源極分別接天線的兩端RFP和RFN,N型MOS管MN1的源極同時(shí)接地,即天線的RFN端接地,所述P型MOS管MP1的襯底與漏極連接,調(diào)制信號(hào)VMOD通過緩沖器BUF1接N型MOS管MN1的柵極,所述電容C1的第一端接反相器INV1的輸出端,反相器INV1的輸入端接緩沖器BUF1的輸出端,所述電容C1的第二端接P型MOS管MP1的柵極,同時(shí)連接二極管D1接地,所述二極管D1的正端接電容C1的第二端,所述二極管D1的負(fù)端接地,圖中的二極管DP1和DN1分別表示P型MOS管MP1和N型MOS管MN1的寄生電容。

工作原理如下:當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為低電平時(shí),反相器INV1輸出高電平,對(duì)電容C1進(jìn)行充電,P型MOS管MP1的柵極電壓VGP被二極管D1箝位在二極管D1的壓降VD,通常約為0.5-0.7V,電容C1兩端的電壓為調(diào)制信號(hào)VMOD的電源電壓VDD減去二極管D1的壓降VD,即VDD-VD。當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為高電平時(shí),反相器INV1輸出低電平,即0V,由于電容C1具有保持電荷的特性,P型MOS管MP1的柵極電壓VGP變?yōu)樨?fù)電壓,即-(VDD-VD)。調(diào)制信號(hào)VMOD、N型MOS管MN1的柵極電壓VGN和P型MOS管MP1的柵極電壓VGP的波形如圖4b所示。只要設(shè)計(jì)VDD-VD大于P型MOS管MP1的開啟電壓VTH(MP1),即可以使得P型MOS管MP1可以很好的導(dǎo)通,可把天線RFP端的電壓拉低到RFN端的電壓,近乎短接,即可解決圖3a所示的調(diào)制電路在調(diào)制信號(hào)VMOD為高電平時(shí),天線兩端RFP、RFN不能短路相接,而是被箝位在VTH(MP1)處的問題,從而有效解決了射頻信號(hào)位于負(fù)半周期時(shí),射頻信號(hào)被非正常箝位,從而影響工作距離的問題。

實(shí)施例二:

如圖5所示,本實(shí)施例與實(shí)施例一的區(qū)別在于:?jiǎn)蜗蜷_關(guān)為P型MOS管MP2,P型MOS管MP2的源極接電容C1的第二端,P型MOS管MP2的漏極接地,P型MOS管MP2的源極的柵極接緩沖器BUF1的輸出端,所述P型MOS管MP2的襯底與漏極連接,圖中二極管DP2表示P型MOS管MP2的寄生電容。

工作原理:當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為低時(shí),P型MOS管MP2開啟,對(duì)電容C1進(jìn)行充電,P型MOS管MP1的柵極電壓VGP被P型MOS管MP2箝位在P型MOS管MP2的開啟電壓VTH(MP2),電容C1兩端的電壓為調(diào)制信號(hào)VMOD的電源電壓VDD減去P型MOS管MP2的開啟電壓VTH(MP2),即VDD-VTH(MP2);當(dāng)調(diào)制信號(hào)VMOD為高時(shí),P型MOS管MP2關(guān)斷,P型MOS管MP1的柵極電壓VGP為-(VDD-VTH(MP2))。只要設(shè)計(jì)VDD-VTH(MP2)大于P型MOS管MP1的開啟電壓VTH(MP1),即可以使得P型MOS管MP1可以很好的導(dǎo)通,可把天線RFP端的電壓拉低到RFN端的電壓,近乎短接,即可解決圖3a所示的調(diào)制電路在調(diào)制信號(hào)VMOD為高電平時(shí),天線兩端RFP、RFN不能短路相接,而是被箝位在VTH(MP1)處的問題,從而有效解決了射頻信號(hào)位于負(fù)半周期時(shí),射頻信號(hào)被非正常箝位,從而影響工作距離的問題。

實(shí)施例三:

如圖6所示,本實(shí)施例與實(shí)施例二的區(qū)別在于:所述單向開關(guān)為NPN三極管Q1,NPN三極管Q1的發(fā)射極接電容C1的第二端,所述NPN三極管Q1的集電極接地,所述NPN三極管Q1的的基極接緩沖器BUF1的輸出端。其工作原理可以參照實(shí)施例二,此不再細(xì)說。

當(dāng)然,在其它實(shí)施例中,單向開關(guān)也可以是其它類型的開關(guān),采用其它開關(guān)來實(shí)現(xiàn)上述單向開關(guān)的功能是本領(lǐng)域技術(shù)人員可以實(shí)現(xiàn)的,此不再細(xì)說。

盡管結(jié)合優(yōu)選實(shí)施方案具體展示和介紹了本發(fā)明,但所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明白,在不脫離所附權(quán)利要求書所限定的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),在形式上和細(xì)節(jié)上可以對(duì)本發(fā)明做出各種變化,均為本發(fā)明的保護(hù)范圍。

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