1.一種厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其包括：
厚膜圖案涂層，其具有圖案寬度；以及
順序地堆疊在所述厚膜圖案涂層上的多個(gè)厚膜圖案涂層，以在厚膜圖案涂層的邊緣區(qū)域處具有逐漸減小的圖案寬度，
其中厚膜圖案涂層提供具有階梯形狀的厚膜圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其中，在厚膜圖案涂層的邊緣區(qū)域處逐漸減小的圖案寬度的減小尺寸是相同的或者根據(jù)所述層的堆疊順序而逐漸減小或增大。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其中，所述厚膜圖案涂層具有相同的厚度或者根據(jù)其堆疊順序而逐漸減小或增大的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其中，通過改變厚膜圖案涂層的逐漸減小的圖案寬度的減小尺寸并且改變厚膜圖案涂層的厚度來形成厚膜圖案。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其中，由厚膜涂層組成的厚膜圖案在其邊緣區(qū)域處具有5°至10°的錐角。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其中，由厚膜涂層組成的厚膜圖案具有30μm至35μm的總厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其中，所述厚膜圖案中的階梯形狀的部分設(shè)置在觸摸傳感器的邊框區(qū)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的厚膜圖案結(jié)構(gòu)，其中，所述厚膜圖案為用于屏蔽來自背光的光的屏蔽層、用于保護(hù)下部圖案的保護(hù)層和用于與上部電極線絕緣的絕緣層中的任一種。
9.一種形成厚膜圖案的方法，其包括：
使用具有圖案寬度的掩模涂布厚膜圖案形成材料；以及
通過順序地使用提供逐漸減小的圖案寬度的掩模來反復(fù)地涂覆厚膜圖案形成材料，以形成在其邊緣區(qū)域具有階梯形狀的厚膜圖案。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的形成厚膜圖案的方法，其中，形成具有階梯形狀的厚膜圖案的掩模的逐漸減小的圖案寬度的減小尺寸為相同或不同。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的形成厚膜圖案的方法，其中，進(jìn)行厚膜圖案形成材料的涂布，使得每個(gè)涂層具有相同或不同的厚度。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的形成厚膜圖案的方法，其中，逐漸減小的圖案寬度在由反復(fù)涂布厚膜圖案形成材料獲得的整個(gè)厚膜圖案的邊緣區(qū)域處形成5°至10°的錐角。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的形成厚膜圖案的方法，其中，所述厚膜圖案的總厚度為30μm至35μm。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的形成厚膜圖案的方法，其中，所述厚膜圖案形成材料為用于屏蔽光的屏蔽層形成材料、用于保護(hù)下部圖案的保護(hù)層形成材料和用于與電極線絕緣的絕緣材料中的任一種。