1.一種觸控面板，其至少包括：
一基板，其至少具有一第一表面，所述第一表面至少包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第二區(qū)域位于所述第一區(qū)域的至少一側；
一光阻層，其形成于所述第一表面的所述第二區(qū)域；
一光學功能層，其形成于所述第一表面上，所述光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
一觸控電極層，其形成于所述光學功能層中，所述第一表面的所述第一區(qū)域覆蓋所述觸控電極層相對于所述第一表面的投影；
一引線層，其形成于所述光學功能層中，所述第一表面的所述第二區(qū)域覆蓋所述引線層相對于所述第一表面的投影；
所述第一表面的所述第一區(qū)域與所述第一表面的第二區(qū)域的反射率差值不高于3。
2.如權利要求1所述的觸控面板，其特征在于，所述光學功能層至少包括第一光學功能層、第二光學功能層以及第三光學功能層；
所述第一光學功能層的反射率為9至11；
所述第二光學功能層的反射率為11至13；
所述第三光學功能層的反射率為5至7。
3.如權利要求2所述的觸控面板，其特征在于，所述觸控電極層的反射率為13至15。
4.如權利要求3所述的觸控面板，其特征在于，所述第一光學功能層形成于所述第一表面上，所述第一光學功能層至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
所述第二光學功能層形成于所述第一光學功能層上，所述第二光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；所述觸控電極層形成于所述第二光學功能層上；
所述第三光學功能層形成于所述觸控電極層上，所述第三光學功能層相對 于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域。
5.如權利要求3所述的觸控面板，其特征在于，
所述第一光學功能層形成于所述第一表面上，所述第一光學功能層至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
所述觸控電極層形成于所述第一光學功能層上；
所述第二光學功能層形成于所述觸控電極層上，所述第二光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
所述第三光學功能層形成于所述第二光學功能層上，所述第三光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域。
6.如權利要求1至5任一項所述的觸控面板，其特征在于，所述光阻層的反射率為4至6。
7.一種觸控面板制作方法，其特征在于，其至少包括以下步驟：
提供一基板，所述基板至少具有一第一表面，所述第一表面至少包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第二區(qū)域位于所述第一區(qū)域的至少一側；
提供一光阻層，所述光阻層形成于所述第一表面的所述第二區(qū)域；
提供一光學功能層，其形成于所述第一表面上，所述光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
提供一觸控電極層，其形成于所述光學功能層中，所述第一表面的所述第一區(qū)域覆蓋所述觸控電極層相對于所述第一表面的投影；
提供一引線層，其形成于所述光學功能層中，所述第一表面的所述第二區(qū)域覆蓋所述引線層相對于所述第一表面的投影；
使所述第一表面的所述第一區(qū)域與所述第一表面的第二區(qū)域的反射率差值不高于3。
8.如權利要求7所述的觸控面板制作方法，其特征在于，所述觸控電極層的反射率為13至15；
所述光學功能層至少包括第一光學功能層，設置所述第一光學功能層的反射率為9至11；
第二光學功能層，設置所述第二光學功能層的反射率為11至13；
第三光學功能層，設置所述第三光學功能層的反射率為5至7。
9.如權利要求8所述的觸控面板制作方法，其特征在于，所述第一光學功能層形成于所述第一表面上，所述第一光學功能層至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
所述第二光學功能層形成于所述第一光學功能層上，所述第二光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
所述觸控電極層形成于所述第二光學功能層上；
所述第三光學功能層形成于所述觸控電極層上，所述第三光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域。
10.如權利要求8所述的觸控面板制作方法，其特征在于，所述第一光學功能層形成于所述第一表面上，所述第一光學功能層至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
所述觸控電極層形成于所述第一光學功能層上；
所述第二光學功能層形成于所述觸控電極層上，所述第二光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域；
所述第三光學功能層形成于所述第二光學功能層上，所述第三光學功能層相對于所述第一表面的投影至少覆蓋所述第一表面的所述第一區(qū)域。