本發(fā)明涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種觸控面板及其制作方法。

背景技術(shù)：

觸控面板應(yīng)用于個人移動通信設(shè)備和綜合信息終端，如平板電腦和智能手機、超級筆記本電腦等主要人機交互界面。電容式觸摸屏的制作過程中，觸控面板的邊框區(qū)域需鋪設(shè)黑色油墨作為光阻層，用以遮擋引線層及驅(qū)動芯片等觸控區(qū)域以外的部分。而在電容式觸摸屏的觸控區(qū)域鋪設(shè)有透明導(dǎo)電材料制成的觸控電極層。在現(xiàn)有技術(shù)中，在無背光條件下，觸控區(qū)域與邊框區(qū)域存在明顯視覺差別，不利于設(shè)備外型美觀，嚴重影響消費者的視覺享受。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明提供一種不損失觸控面板的視覺美觀、觸控區(qū)域以及邊框區(qū)域在無背光條件下呈現(xiàn)一體無色差視覺效果的觸控面板及其制作方法。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供的一種觸控面板，其至少包括：一基板，其至少具有一第一表面，第一表面至少包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，第二區(qū)域位于第一區(qū)域的至少一側(cè)；一光阻層，其形成于第一表面的第二區(qū)域；一光學(xué)功能層，其形成于第一表面上，光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；一觸控電極層，其形成于光學(xué)功能層中，第一表面的第一區(qū)域覆蓋觸控電極層相對于第一表面的投影；一引線層，其形成于光學(xué)功能層中，第一表面的第二區(qū)域覆蓋引線層相對于第一表面的投影；第一表面的第一區(qū)域與第一表面的第二區(qū)域的反射率差值不高于3。

優(yōu)選地，本發(fā)明提供的該觸控面板中的光學(xué)功能層至少包括第一光學(xué)功能 層、第二光學(xué)功能層以及第三光學(xué)功能層；第一光學(xué)功能層的反射率為9至11；第二光學(xué)功能層的反射率為11至13；第三光學(xué)功能層的反射率為5至7。

進一步的，本發(fā)明提供的該觸控面板中的觸控電極層的反射率為13至15。

進一步的，本發(fā)明提供的該觸控面板中的第一光學(xué)功能層形成于第一表面上，第一光學(xué)功能層至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；第二光學(xué)功能層形成于第一光學(xué)功能層上，第二光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；觸控電極層形成于第二光學(xué)功能層上；第三光學(xué)功能層形成于觸控電極層上，第三光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域。

進一步的，本發(fā)明提供的該觸控面板中的第一光學(xué)功能層形成于第一表面上，第一光學(xué)功能層至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；觸控電極層形成于第一光學(xué)功能層上；第二光學(xué)功能層形成于觸控電極層上，第二光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；第三光學(xué)功能層形成于第二光學(xué)功能層上，第三光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域。

優(yōu)選地，本發(fā)明提供的該觸控面板中的光阻層的反射率為4至6。

此外，本發(fā)明還有必要提供一種上述觸控面板的制作方法，其至少包括以下步驟：提供一基板，基板至少具有一第一表面，第一表面至少包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，第二區(qū)域位于第一區(qū)域的至少一側(cè)；提供一光阻層，光阻層形成于第一表面的第二區(qū)域；提供一光學(xué)功能層，其形成于第一表面上，光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；提供一觸控電極層，其形成于光學(xué)功能層中，第一表面的第一區(qū)域覆蓋觸控電極層相對于第一表面的投影；提供一引線層，其形成于光學(xué)功能層中，第一表面的第二區(qū)域覆蓋引線層相對于第一表面的投影；使第一表面的第一區(qū)域與第一表面的第二區(qū)域的反射率差值不高于3。

優(yōu)選地，本發(fā)明提供的該觸控面板的制作方法中，觸控電極層的反射率為13至15；光學(xué)功能層至少包括第一光學(xué)功能層，設(shè)置第一光學(xué)功能層的反射率為9至11；第二光學(xué)功能層，設(shè)置第二光學(xué)功能層的反射率為11至13；第 三光學(xué)功能層，設(shè)置第三光學(xué)功能層的反射率為5至7。

進一步的，本發(fā)明提供的該觸控面板的制作方法中，第一光學(xué)功能層形成于第一表面上，第一光學(xué)功能層至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；第二光學(xué)功能層形成于第一光學(xué)功能層上，第二光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；觸控電極層形成于第二光學(xué)功能層上；第三光學(xué)功能層形成于觸控電極層上，第三光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域。

進一步的，本發(fā)明提供的該觸控面板的制作方法中，第一光學(xué)功能層形成于第一表面上，第一光學(xué)功能層至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；觸控電極層形成于第一光學(xué)功能層上；第二光學(xué)功能層形成于觸控電極層上，第二光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域；第三光學(xué)功能層形成于第二光學(xué)功能層上，第三光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域。

本發(fā)明提供的觸控面板及其制作方法中，由于觸控面板的第一區(qū)域鋪設(shè)透明導(dǎo)電材料制成的觸控電極層，用以遮擋引線層的第二區(qū)域鋪設(shè)黑色油墨作為光阻層，在觸控面板的第一表面至少覆蓋第一區(qū)域疊構(gòu)設(shè)置光學(xué)功能層，使第一表面的第一區(qū)域與第二區(qū)域的視覺效果無差別，不損失觸控面板的視覺美觀，在無背光條件下，該觸控面板呈現(xiàn)一體無色差的視覺效果。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明作進一步說明，附圖中：

圖1為本發(fā)明提供的一較佳實施例的觸控面板的示意圖；

圖2為本發(fā)明提供的另一較佳實施例的觸控面板的示意圖

圖3為本發(fā)明提供的另一較佳實施例的觸控面板的示意圖；

圖4為圖1所述觸控面板的制作方法的流程示意圖。

具體實施方式

為說明本發(fā)明提供的觸控面板及其制作方法所要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方 案及有益效果更加清楚、明白，以下結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

參考圖1，圖1為本發(fā)明提供的一較佳實施例的觸控面板的示意圖。本發(fā)明提供的觸控面板至少包括一基板10，該基板10可選透明材料如玻璃、樹脂制成，其至少具有一第一表面100，該第一表面100為一連續(xù)且光滑的平面或者曲面，第一表面100至少包括第一區(qū)域110和第二區(qū)域120，第二區(qū)域120位于第一區(qū)域110的至少一側(cè)，上述基板10對應(yīng)第一區(qū)域110的部分用于觸控操作，基板10對應(yīng)第二區(qū)域120的部分設(shè)置為電容屏的邊框區(qū)域，用于遮擋引線層160以及驅(qū)動芯片(圖中未示出)等。一光阻層130，其形成于第一表面100的第二區(qū)域120；一光學(xué)功能層140，其形成于第一表面100上，光學(xué)功能層140相對于第一表面100的投影至少覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110；一觸控電極層150，其形成于光學(xué)功能層140中，第一表面100的第一區(qū)域110覆蓋觸控電極層150相對于第一表面100的投影，在本實施例中，觸控電極層150的材料可為透明導(dǎo)電材料，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物或其他透明導(dǎo)電材料，但不以此為限。一引線層160，其形成于光學(xué)功能層140中，第一表面100的第二區(qū)域120覆蓋引線層160相對于第一表面100的投影，在本實施例中，引線層160的材料可為不透明導(dǎo)電材料，例如單一金屬、復(fù)合金屬或合金，但不以此為限，亦可為透明導(dǎo)電材料，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物或其他透明導(dǎo)電材料，但不以此為限。第一表面100的第一區(qū)域110與第一表面100的第二區(qū)域120的反射率差值不高于3。達到一體無色差的視覺效果。光學(xué)功能層140可由氮化硅、氧化硅、氮氧化硅中任意一種或其化合物構(gòu)成。

更佳的，光學(xué)功能層140至少包括第一光學(xué)功能層141、第二光學(xué)功能層142以及第三光學(xué)功能層143。第一光學(xué)功能層141形成于第一表面100上，第一光學(xué)功能層141覆蓋整個第一表面100的第一區(qū)域110以及第二區(qū)域120，第一光學(xué)功能層141在本實施例中可選用氮化硅制得。第二光學(xué)功能層142形成于第一光學(xué)功能層141上，第二光學(xué)功能層142相對于第一表面100的投 影覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110以及第二區(qū)域120，第二光學(xué)功能層142在本實施例中可選用氧化硅制得。觸控電極層150形成于第二光學(xué)功能層142上。第三光學(xué)功能層143形成于觸控電極層150上，第三光學(xué)功能層143相對于第一表面100的投影至少覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110以及第二區(qū)域120，第三光學(xué)功能層143在本實施例中可選用氮氧化硅制得。第一光學(xué)功能層141的反射率9至11，其亮度為37至39；第二光學(xué)功能層142的反射率為11至13，其亮度為40至42；第三光學(xué)功能層143的反射率為5至7，其亮度為28至31。觸控電極層150的反射率為13至15，其亮度為43至45。

處于第二區(qū)域120的光阻層130的反射率為4至6，其亮度為26至30。因此第一區(qū)域110的反射率控制在7至9，與第二區(qū)域120的反射率相匹配，并可將第一區(qū)域110的亮度控制在不高于31。第一表面100的第一區(qū)域110因光學(xué)功能層140以及觸控電極層150疊構(gòu)，第一光學(xué)功能層141、第二光學(xué)功能層142以及觸控電極層150的反射率較低，而第三光學(xué)功能層143的反射率小于一體視覺效果所要求的反射率，因此第一區(qū)域110與第一表面100的第二區(qū)域120的反射率差值不高于3。在基板10的第一表面100至少覆蓋第一區(qū)域110疊構(gòu)設(shè)置的光學(xué)功能層140，使第一表面100的第一區(qū)域110與第二區(qū)域120的視覺效果無差別，不損失觸控面板的視覺美觀，在無背光條件下，該觸控面板呈現(xiàn)一體無色差的視覺效果。參考圖2，圖2為本發(fā)明提供的另一較佳實施例的觸控面板的示意圖。作為本發(fā)明提供的優(yōu)選實施例，光學(xué)功能層140至少包括第一光學(xué)功能層141、第二光學(xué)功能層142以及第三光學(xué)功能層143。第一光學(xué)功能層141形成于第一表面100上，第一光學(xué)功能層141覆蓋整個第一表面100的第一區(qū)域110以及第二區(qū)域120。第二光學(xué)功能層142形成于第一光學(xué)功能層141上，第二光學(xué)功能層142相對于第一表面100的投影僅覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110。觸控電極層150形成于第二光學(xué)功能層142上。第三光學(xué)功能層143形成于觸控電極層150上，第三光學(xué)功能層143相對于第一表面100的投影至少覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110以及第二區(qū)域120。第一光學(xué)功能層141的反射率9至11，其亮度為37至39；第二光學(xué)功能層142的反射率為11至13，其亮度為40至42；第三光學(xué)功能層143的 反射率為5至7，其亮度為28至31。觸控電極層150的反射率為13至15，其亮度為43至45。

處于第二區(qū)域120的光阻層130的反射率為4至6，其亮度為26至30。第二區(qū)域120因光阻層130的設(shè)置不受第二光學(xué)功能層142是否覆蓋第二區(qū)域120而影響第二區(qū)域120反射率的大小，同理也不影響其亮度的數(shù)值。因此第一區(qū)域110的反射率控制在7至9，與第二區(qū)域120的反射率相匹配，并可將第一區(qū)域110的亮度控制在不高于31。第一表面100的第一區(qū)域110因光學(xué)功能層140以及觸控電極層150疊構(gòu)，第一光學(xué)功能層141、第二光學(xué)功能層142以及觸控電極層150的反射率較低，而第三光學(xué)功能層143的反射率小于一體視覺效果所要求的反射率，因此第一區(qū)域110與第一表面100的第二區(qū)域120的反射率差值不高于3。在基板10的第一表面100至少覆蓋第一區(qū)域110疊構(gòu)設(shè)置的光學(xué)功能層140，使第一表面100的第一區(qū)域110與第二區(qū)域120的視覺效果無差別，不損失觸控面板的視覺美觀，在無背光條件下，該觸控面板呈現(xiàn)一體無色差的視覺效果。

參考圖3，圖3為本發(fā)明提供的另一較佳實施例的觸控面板的示意圖。作為本發(fā)明提供的優(yōu)選實施例，光學(xué)功能層140至少包括第一光學(xué)功能層141、第二光學(xué)功能層142以及第三光學(xué)功能層143。第一光學(xué)功能層141形成于第一表面100上，第一光學(xué)功能層141僅覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110。觸控電極層150形成于第一光學(xué)功能層141上。第二光學(xué)功能層142形成于觸控電極層150上，第二光學(xué)功能層142相對于第一表面100的投影僅覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110。第三光學(xué)功能層143形成于觸控電極層150上，第三光學(xué)功能層143相對于第一表面100的投影至少覆蓋第一表面100的第一區(qū)域110。第一光學(xué)功能層141的反射率9至11，其亮度為37至39；第二光學(xué)功能層142的反射率為11至13，其亮度為40至42；第三光學(xué)功能層143的反射率為5至7，其亮度為28至31。觸控電極層150的反射率為13至15，其亮度為43至45。

處于第二區(qū)域120的光阻層130的反射率為4至6，其亮度為26至30。第二區(qū)域120因光阻層130的設(shè)置不受第一光學(xué)功能層141、第二光學(xué)功能層 142是否覆蓋第二區(qū)域120而影響第二區(qū)域120反射率的大小，同理也不影響其亮度的數(shù)值。而觸控電極層150可設(shè)置與第二光學(xué)功能層142與第三光學(xué)功能層143之間也可設(shè)置于第二光學(xué)功能層142與第一光學(xué)功能層141之間。因此第一區(qū)域110的反射率控制在7至9，與第二區(qū)域120的反射率相匹配，并可將第一區(qū)域110的亮度控制在不高于31。第一表面100的第一區(qū)域110因光學(xué)功能層140以及觸控電極層150疊構(gòu)，第一光學(xué)功能層141、第二光學(xué)功能層142以及觸控電極層150的反射率較低，而第三光學(xué)功能層143的反射率小于一體視覺效果所要求的反射率，因此第一區(qū)域110與第一表面100的第二區(qū)域120的反射率差值不高于3。在基板10的第一表面100至少覆蓋第一區(qū)域110疊構(gòu)設(shè)置的光學(xué)功能層140，使第一表面100的第一區(qū)域110與第二區(qū)域120的視覺效果無差別，不損失觸控面板的視覺美觀，在無背光條件下，該觸控面板呈現(xiàn)一體無色差的視覺效果。

通過上述光學(xué)膜層疊構(gòu)設(shè)計，使第一區(qū)域110的反射率與第二區(qū)域120的反射率之間的差值不高于3，光阻層130常選用黑色油墨作為光阻劑，生產(chǎn)一體黑的視覺效果；光阻層130也可以選用其他顏色的油墨作為光阻劑，除一體黑的視覺效果，還可以按照上述方法進行匹配及應(yīng)用，形成“一體灰”、“一體藍”等視覺效果的觸控面板。

參考圖4，圖4為圖1所述觸控面板的制作方法的流程示意圖。本實施例為上述觸控面板的制作方法，其具體實現(xiàn)步驟為：

S01：提供一基板，基板至少具有一第一表面，第一表面至少包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，第二區(qū)域位于第一區(qū)域的至少一側(cè)。

該基板可選透明材料如玻璃、樹脂制成。第一表面為一連續(xù)且光滑的平面或者曲面，上述基板對應(yīng)第一區(qū)域的部分用于觸控操作，基板對應(yīng)第二區(qū)域的部分設(shè)置為電容屏的邊框區(qū)域，用于遮擋引線層以及驅(qū)動芯片等。

S02：提供一光阻層，光阻層形成于第一表面的第二區(qū)域。

光阻層由黑色油墨作為黑色光阻劑制成，其也可以選用其他顏色的油墨作為光阻劑，反射率數(shù)據(jù)在4.0-6.0之間，亮度數(shù)據(jù)在26-31之間，用以遮擋引線層以及驅(qū)動芯片等。

S03：提供一光學(xué)功能層，其中包括第一光學(xué)功能層形成于第一表面上，第一光學(xué)功能層至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域。

第一光學(xué)功能層可由氮化硅、氧化硅、氮氧化硅中任意一種或其化合物構(gòu)成。設(shè)置第一光學(xué)功能層的反射率為9至11，其亮度為37至39。第一光學(xué)功能層選用上述不同材料制得，根據(jù)組成物不同設(shè)置第一光學(xué)功能層的膜厚。

S04：提供一光學(xué)功能層，其中包括第二光學(xué)功能層形成于第一光學(xué)功能層上，第二光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域。

第二光學(xué)功能層可由氮化硅、氧化硅、氮氧化硅中任意一種或其化合物構(gòu)成。設(shè)置二光學(xué)功能層的反射率為11至13，其亮度為40至42。第二光學(xué)功能層選用上述不同材料制得，根據(jù)組成物不同設(shè)置第二光學(xué)功能層的膜厚。

S05：提供一觸控電極層形成于第二光學(xué)功能層上，第一表面的第一區(qū)域覆蓋觸控電極層相對于第一表面的投影。

設(shè)置觸控電極層的反射率為13至15，其亮度為43至45。在本實施例中，觸控電極層的材料可為透明導(dǎo)電材料，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物或其他透明導(dǎo)電材料，但不以此為限。

S06：提供一光學(xué)功能層，其中包括第三光學(xué)功能層形成于觸控電極層上，第二光學(xué)功能層相對于第一表面的投影至少覆蓋第一表面的第一區(qū)域。

第三光學(xué)功能層可由氮化硅、氧化硅、氮氧化硅中任意一種或其化合物構(gòu)成。設(shè)置第三光學(xué)功能層的反射率為5至7，其亮度為28至31。第三光學(xué)功能層選用上述不同材料制得，根據(jù)組成物不同設(shè)置第二光學(xué)功能層的膜厚。

S07：提供一引線層，其形成于光學(xué)功能層中，第一表面的第二區(qū)域覆蓋引線層相對于第一表面的投影。

引線層的材料可為不透明導(dǎo)電材料，例如單一金屬、復(fù)合金屬或合金，但不以此為限，亦可為透明導(dǎo)電材料，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物或其他透明導(dǎo)電材料，但不以此為限。

S08：使第一表面的第一區(qū)域與第一表面的第二區(qū)域的反射率差值不高于3。

處于第二區(qū)域的光阻層的反射率為4至6，其亮度為26至30。第二區(qū)域 因光阻層的設(shè)置不受第二光學(xué)功能層是否覆蓋第二區(qū)域而影響第二區(qū)域反射率的大小，同理也不影響其亮度的數(shù)值。因此第一區(qū)域的反射率控制在7至9，與第二區(qū)域的反射率相匹配，并可將第一區(qū)域的亮度控制在不高于31。第一表面的第一區(qū)域因光學(xué)功能層以及觸控電極層疊構(gòu)，第一光學(xué)功能層、第二光學(xué)功能層以及觸控電極層的反射率較低，而第三光學(xué)功能層的反射率小于一體視覺效果所要求的反射率，因此第一區(qū)域與第一表面的第二區(qū)域的反射率差值不高于3。

在觸控面板的第一表面至少覆蓋第一區(qū)域疊構(gòu)設(shè)置的光學(xué)功能層，使第一表面的第一區(qū)域與第二區(qū)域的視覺效果無差別，不損失觸控面板的視覺美觀，在無背光條件下，該觸控面板呈現(xiàn)一體無色差的視覺效果。

本發(fā)明提供的觸控面板及其制作方法中，由于觸控面板的第一區(qū)域鋪設(shè)透明導(dǎo)電材料制成的觸控電極層，用以遮擋引線層的第二區(qū)域鋪設(shè)黑色油墨作為光阻層，在觸控面板的第一表面至少覆蓋第一區(qū)域疊構(gòu)設(shè)置光學(xué)功能層，使第一表面的第一區(qū)域與第二區(qū)域的視覺效果無差別，不損失觸控面板的視覺美觀，在無背光條件下，該觸控面板呈現(xiàn)一體無色差的視覺效果。

以上為本發(fā)明提供的觸控面板及其制作方法的較佳實施方式，并不能理解為對本發(fā)明權(quán)利保護范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該知曉，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可做多種改進或替換，所有的該等改進或替換都應(yīng)該在本發(fā)明的權(quán)利保護范圍內(nèi)，即本發(fā)明的權(quán)利保護范圍應(yīng)以權(quán)利要求為準。