技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種用于光源-掩膜優(yōu)化的圖形選擇方法。所述圖形選擇方法包括：計算多個特征圖形中每個特征圖形的功率譜密度；基于所計算的每個特征圖形的功率譜密度計算所述多個特征圖形中任意兩個特征圖形之間的差異度；以及在所述多個特征圖形中選擇彼此之間所述差異度大于或等于預(yù)定閾值的特征圖形作為測試圖形，以用于光源-掩膜優(yōu)化。本發(fā)明所提供的用于光源-掩膜優(yōu)化的圖形選擇方法可以高效快速地選擇用于光源-掩膜優(yōu)化的測試圖形，同時不會遺漏任何關(guān)鍵圖形，從而實現(xiàn)高效、高精確度的光源-掩膜優(yōu)化。

技術(shù)研發(fā)人員：裴金花
受保護的技術(shù)使用者：中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
文檔號碼：201510572327
技術(shù)研發(fā)日：2015.09.10
技術(shù)公布日：2017.03.22