技術(shù)編號(hào):12122133
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體而言涉及一種用于光源-掩膜優(yōu)化(source-maskoptimization,SMO)的圖形選擇方法。背景技術(shù)隨著集成電路的復(fù)雜度越來(lái)越高,特征尺寸也變得越來(lái)越小。當(dāng)集成電路的特征尺寸接近光刻機(jī)曝光的系統(tǒng)極限,即特征尺寸接近或小于光刻光源時(shí),硅片上制造出的版圖會(huì)出現(xiàn)明顯的畸變。為此光刻系統(tǒng)必須采用分辨率增強(qiáng)(RET)技術(shù),用以提高成像質(zhì)量。隨著技術(shù)往關(guān)鍵尺寸更小的方向發(fā)展,僅對(duì)掩膜實(shí)施優(yōu)化的常規(guī)光學(xué)鄰近修正(OpticalProximityCorrection,O...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。
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- 畢老師:機(jī)構(gòu)動(dòng)力學(xué)與控制
- 袁老師:1.計(jì)算機(jī)視覺(jué) 2.無(wú)線網(wǎng)絡(luò)及物聯(lián)網(wǎng)
- 王老師:1.計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)安全 2.計(jì)算機(jī)仿真技術(shù)
- 王老師:1.網(wǎng)絡(luò)安全;物聯(lián)網(wǎng)安全 、大數(shù)據(jù)安全 2.安全態(tài)勢(shì)感知、輿情分析和控制 3.區(qū)塊鏈及應(yīng)用
- 孫老師:1.機(jī)機(jī)器人技術(shù) 2.機(jī)器視覺(jué) 3.網(wǎng)絡(luò)控制系統(tǒng)
- 葛老師:1.機(jī)器人技術(shù) 2.計(jì)算機(jī)輔助技術(shù)
- 張老師:1.內(nèi)燃機(jī)燃燒及能效管理技術(shù) 2.計(jì)算機(jī)數(shù)據(jù)采集與智能算法 3.助航設(shè)備開(kāi)發(fā)