本發(fā)明涉及半導體生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是涉及一種機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)及方法。

背景技術(shù)：

半導體機臺制程參數(shù)是指在半導體制程中表征生產(chǎn)設(shè)備性能的數(shù)據(jù)的集合，包括溫度、壓力、電流、濃度、時間等。這些參數(shù)的準確和穩(wěn)定與否決定了每道工序的質(zhì)量，如果在晶圓加工過程中某些參數(shù)出現(xiàn)異常，就有可能會影響到晶圓的最終良率。

目前我們的系統(tǒng)提供工程師給所有制程參數(shù)數(shù)據(jù)設(shè)定它們的可信區(qū)間，即當制程參數(shù)數(shù)值處于某個范圍之內(nèi)時，我們認為這個參數(shù)是可信任的，這樣設(shè)定以后，一旦發(fā)生數(shù)據(jù)異常(超出可信區(qū)間范圍)即可迅速采取預先設(shè)定好的動作，進行暫停產(chǎn)品的生產(chǎn)、機臺停止運行、發(fā)郵件或電話提醒相關(guān)工程師進行處理。

半導體機臺需要做定期維護(Plan Maintain，PM)，以確保設(shè)備在晶圓加工過程中表現(xiàn)良好。如圖1～圖2所示，經(jīng)過定期維護之后，機臺的部分關(guān)鍵制程參數(shù)會發(fā)生偏移，這種偏移是可預見的，屬于正?，F(xiàn)象，但是偏移量隨機。由偏移帶來的問題是這些具有偏移特性的制程參數(shù)的可信區(qū)間的設(shè)置非常困難，如何精準的設(shè)置這些具有偏移特性的關(guān)鍵制程參數(shù)的合理上下限，是當前我們需要解決的問題。

目前并無有效的途徑去得到這些隨定期維護而發(fā)生偏移的關(guān)鍵制程參數(shù)的可信區(qū)間。當前的處理方式大致如下：

假設(shè)所述機臺為蝕刻區(qū)機臺，具有定期維護偏移特性的制程參數(shù)為蝕刻液的濃度，如圖1所示，為了避免錯誤警報過多，設(shè)置一個相對寬松的可信區(qū)間(16，50)；但是由于該可信區(qū)間的范圍相對寬松，經(jīng)蝕刻后的產(chǎn)品質(zhì)量得不到保證，出現(xiàn)異常點也無法捕捉到，直到發(fā)生嚴重事故之后才會發(fā)現(xiàn)可信區(qū)間不合適，需縮緊該參數(shù)的可信區(qū)間。如圖2所示，重設(shè)一個相對緊的可信區(qū)間(24，46)，而相對緊的可信區(qū)間導致錯誤警報上升，進而分散工程師注意力。相對緊的可信區(qū)間不僅捕捉到了異常點，同時將正常數(shù)據(jù)誤認為是警報數(shù)據(jù)，導致報警增多，工程師需一一確認以排除警報，需要再適度放松該參數(shù)的可信區(qū)間，以降低錯誤警報。如此反復，每次調(diào)整取決于工程師經(jīng)驗，耗時耗力，而且都屬于事后諸葛，亡羊補牢。并且這些制程參數(shù)數(shù)據(jù)隨定期維護而發(fā)生偏移的特性導致不可能存在一個最終合理的可信區(qū)間，所以這種現(xiàn)象會一直持續(xù)下去。

因此，如何確定隨機臺定期維護而發(fā)生偏移的制程參數(shù)的可信區(qū)間已成為本領(lǐng)域技術(shù)人 員亟待解決的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)及方法，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中制程參數(shù)隨機臺定期維護而發(fā)生偏移導致的可信區(qū)間難以確定的問題。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明提供一種機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)，所述機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)至少包括：

生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊，用于對機臺生產(chǎn)過程中的制程參數(shù)進行監(jiān)控，并對超出所述制程參數(shù)可信區(qū)間的數(shù)據(jù)進行報警；

機臺維護管理模塊，用于提供所述機臺的維護周期信息；

制程參數(shù)分段模塊，連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊及所述機臺維護管理模塊，用于將具有偏移特性的制程參數(shù)按所述維護周期分段；

數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊，連接于所述制程參數(shù)分段模塊，用于根據(jù)所述制程參數(shù)分段模塊輸出的若干段按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)得到所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征；

可信區(qū)間產(chǎn)生模塊，連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊及所述數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊，從所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊獲取當前維護周期內(nèi)初期的多個制程參數(shù)數(shù)據(jù)，結(jié)合所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間，并將當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間輸出給所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊，以及時調(diào)整所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊中的所述可信區(qū)間。

優(yōu)選地，所述數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊根據(jù)不少于2段按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)得到所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征。

優(yōu)選地，所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊從所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊獲取當前維護周期內(nèi)初期的20～30個數(shù)據(jù)以結(jié)合所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間。

優(yōu)選地，還包括可信區(qū)間觸發(fā)模塊，連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊及所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊，用于在當前維護周期內(nèi)采集到的數(shù)據(jù)量達到第一設(shè)定量后觸發(fā)所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊產(chǎn)生所述可信區(qū)間并應用于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊。

更優(yōu)選地，所述第一設(shè)定量為20～30。

優(yōu)選地，還包括調(diào)整模塊，連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊、所述數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊及所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊，用于根據(jù)所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊的反饋調(diào)整所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征及所述可信區(qū)間。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明還提供一種機臺制程參數(shù)偏移的管控方法，所述機臺制程參數(shù)偏移的管控方法至少包括：

基于制程參數(shù)分段模塊從生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊及機臺維護模塊分別獲取機臺的制程參數(shù)及所述機臺的維護周期信息，將所述機臺的制程參數(shù)按所述機臺的維護周期分段；

基于數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊根據(jù)若干段按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)得到所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征；

基于可信區(qū)間產(chǎn)生模塊利用所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征及當前維護周期內(nèi)的多個所述制程參數(shù)數(shù)據(jù)得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間；

所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊應用當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間，對發(fā)生偏移的當前維護周期內(nèi)的制程參數(shù)進行監(jiān)控。

優(yōu)選地，所述制程參數(shù)包括溫度、壓力、電流、濃度或時間。

優(yōu)選地，所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征需不少于2段按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)獲得。

優(yōu)選地，所述可信區(qū)間需所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征及20～30個當前維護周期內(nèi)的制程參數(shù)數(shù)據(jù)獲得。

優(yōu)選地，在當前維護周期內(nèi)采集到的數(shù)據(jù)量達到第二設(shè)定量后自動觸發(fā)所述可信區(qū)間的產(chǎn)生和生效。

優(yōu)選地，所述第二設(shè)定量為20～30。

如上所述，本發(fā)明的機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)及方法，具有以下有益效果：

本發(fā)明的機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)及方法從機臺維護管理模塊獲取機臺的維護周期起始時間點及終止時間點，從而對具有維護周期偏移特性的制程參數(shù)按維護周期分段，經(jīng)程序化計算后得到該參數(shù)的數(shù)據(jù)特征，并根據(jù)當前維護周期內(nèi)的少量數(shù)據(jù)得到該維護周期內(nèi)的可信區(qū)間，通過不同維護周期內(nèi)的可信區(qū)間的分別設(shè)定，避免具有維護周期偏移特性的制程參數(shù)的可信區(qū)間設(shè)定不當導致的生產(chǎn)和管理問題，大大提高半導體生產(chǎn)中的質(zhì)量和效率問題。

附圖說明

圖1顯示為現(xiàn)有技術(shù)中的寬可信區(qū)間的生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控示意圖。

圖2顯示為現(xiàn)有技術(shù)中的窄可信區(qū)間的生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控示意圖。

圖3顯示為本發(fā)明中的機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)示意圖。

圖4顯示為本發(fā)明中的機臺制程參數(shù)偏移的管控方法流程示意圖。

圖5顯示為本發(fā)明中的分段可信區(qū)間的生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控示意圖。

元件標號說明

1 機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)

11 生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊

12 機臺維護管理模塊

13 制程參數(shù)分段模塊

14 數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊

15 可信區(qū)間產(chǎn)生模塊

16 可信區(qū)間觸發(fā)模塊

17 調(diào)整模塊

具體實施方式

以下通過特定的具體實例說明本發(fā)明的實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點與功效。本發(fā)明還可以通過另外不同的具體實施方式加以實施或應用，本說明書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點與應用，在沒有背離本發(fā)明的精神下進行各種修飾或改變。

請參閱圖3～圖5。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本發(fā)明的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本發(fā)明中有關(guān)的組件而非按照實際實施時的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復雜。

如圖3所示，本發(fā)明提供一種機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)1，所述機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)1至少包括：

生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11、機臺維護管理模塊12、制程參數(shù)分段模塊13、數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊14、可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15、可信區(qū)間觸發(fā)模塊16及調(diào)整模塊17。

所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11連接于所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15，所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11中提供機臺的實時生產(chǎn)數(shù)據(jù)，包括各制程參數(shù)，具體地，包括溫度、壓力、電流、濃度或時間。所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11根據(jù)所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15提供的可信區(qū)間，監(jiān)控所述機臺的制程參數(shù)，對超出所述制程參數(shù)可信區(qū)間的數(shù)據(jù)采取暫停產(chǎn)品生產(chǎn)、停止機臺運行、發(fā)郵件或電話提醒相關(guān)工程師等報警措施，以實現(xiàn)安全生產(chǎn)。

所述機臺維護管理模塊12，用于提供所述機臺的維護信息，包括維護周期的開始和結(jié)束 的時間點。所述機臺的維護周期與其本身的損耗有關(guān)，不同機臺的維護周期各不相同，即使是同一機臺，操作不同其維護周期也不相同，維護周期根據(jù)具體情況做具體設(shè)定，不限定具體時間。

所述制程參數(shù)分段模塊13連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11及所述機臺維護管理模塊12，所述制程參數(shù)分段模塊13從所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11獲取機臺的制程參數(shù)數(shù)據(jù)，所述制程參數(shù)具有維護周期偏移特性，即在機臺維護后會發(fā)生偏移，該偏移量隨機；所述制程參數(shù)分段模塊13從所述機臺維護管理模塊12獲取機臺各維護周期的開始和結(jié)束的時間點。所述制程參數(shù)分段模塊13將所述制程參數(shù)按所述維護周期分段。

所述數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊14連接于所述制程參數(shù)分段模塊13，從所述制程參數(shù)分段模塊13獲取若干段按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)，經(jīng)過程序化計算得到所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征。在本實施例中，按所述維護周期分段的制程參數(shù)的段數(shù)不少于2段，段數(shù)越多，所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征越精確。在本實施例中，通過對各維護周期內(nèi)的所述制程參數(shù)的統(tǒng)計分析得到所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征。

所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11及所述數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊14，從所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11獲取當前維護周期初期的多個制程參數(shù)數(shù)據(jù)，獲取的數(shù)據(jù)量越多，設(shè)定的所述可信區(qū)間越精準，但是同時也比較費時，因此，獲取數(shù)據(jù)量一般設(shè)定為20～30個，在本實施例中，獲取的當前維護周期內(nèi)的制程參數(shù)數(shù)據(jù)量設(shè)定為20個。結(jié)合所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間，并將當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間輸出給所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11，以及時調(diào)整所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11中的所述可信區(qū)間，對各維護周期內(nèi)的制程參數(shù)進行更精確的管控。

所述可信區(qū)間觸發(fā)模塊16連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11及所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15，在所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11中當前維護周期內(nèi)采集到的數(shù)據(jù)量達到第一設(shè)定量后觸發(fā)所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15產(chǎn)生所述可信區(qū)間并應用于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11。所述第一設(shè)定量為20～30，當前維護周期內(nèi)采集到的數(shù)據(jù)量達到20～30個時，得出的所述可信區(qū)間可滿足生產(chǎn)要求，在本實施例中，所述第一設(shè)定量為20。

所述調(diào)整模塊17連接于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11、所述數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊14及所述可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15，根據(jù)所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11的反饋可及時調(diào)整所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征及所述可信區(qū)間。

與現(xiàn)有技術(shù)中的可信區(qū)間有效期長(常?？缭蕉鄠€維護周期)相比，本發(fā)明的機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)對各不同維護周期內(nèi)的可信區(qū)間的分別進行設(shè)定，一舉解決可信區(qū)間的 準確性及誤報警兼顧的問題。

如圖3～圖5所示，本發(fā)明提供一種機臺制程參數(shù)偏移的管控方法，所述機臺制程參數(shù)偏移的管控方法包括：

如圖3～圖4所示，基于制程參數(shù)分段模塊13從生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11及機臺維護模塊12分別獲取機臺的制程參數(shù)及所述機臺的維護周期信息，將所述機臺的制程參數(shù)按所述機臺的維護周期分段。

具體地，本方法適用于半導體生產(chǎn)中的任意機臺，在本實施例中，以蝕刻區(qū)機臺為例。所述制程參數(shù)包括溫度、壓力、電流、濃度或時間中的一種，

具體地，在本實施例中，具有定期維護偏移特性的制程參數(shù)為蝕刻液的濃度，隨著所述蝕刻區(qū)機臺的定期維護，所述蝕刻液的濃度會發(fā)生周期性偏移，且偏移量隨機。

具體地，在本實施例中，所述蝕刻區(qū)機臺的維護周期設(shè)定為一周，起始時間為每周一的0點，終止時間為每周日的24點。則將所述蝕刻液濃度的歷史數(shù)據(jù)以每周一的0點到每周日的24點為一個周期劃分為多段，各維護周期中的所述蝕刻液濃度數(shù)據(jù)周期性發(fā)生偏移，且偏移量不定。

如圖3～圖4所示，基于數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊14根據(jù)若干段按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)得到所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征。

具體地，獲取若干段按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)，其中，按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)不少于2段，段數(shù)越多，數(shù)據(jù)越全面，得到的所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征越精準，在本實施例中，以2段按所述維護周期分段的所述蝕刻液濃度數(shù)據(jù)進行計算得到所述蝕刻液濃度的數(shù)據(jù)特征。

具體地，在本實施例中，所述蝕刻液濃度的數(shù)據(jù)特征的計算方法具體為：對2段按所述維護周期分段的所述蝕刻液濃度數(shù)據(jù)進行統(tǒng)計分析，以確定所述蝕刻液濃度在各維護周期中正常數(shù)據(jù)的分布范圍，進一步得到各分布范圍跨度的均值，所述分布范圍跨度的均值即為所述蝕刻液濃度的數(shù)據(jù)特征。其他可得出所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征的統(tǒng)計分析方法也適用于本發(fā)明，在此不一一贅述。

如圖3～圖4所示，基于可信區(qū)間產(chǎn)生模塊15利用所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征及當前維護周期內(nèi)的多個所述制程參數(shù)數(shù)據(jù)得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間。

具體地，讀取當前維護周期內(nèi)初期的多個所述蝕刻液濃度數(shù)據(jù)，數(shù)據(jù)量一般設(shè)定為20～30個，在本實施例中，讀取當前維護周期內(nèi)的20個數(shù)據(jù)。當讀取當前維護周期內(nèi)的所述蝕刻液濃度數(shù)據(jù)量達到第二設(shè)定量后，自動觸發(fā)所述可信區(qū)間的計算，所述第二設(shè)定量設(shè)定為20～30 個，此時計算得到的可信區(qū)間符合生產(chǎn)要求，在本實施例中，所述第二設(shè)定量設(shè)定為20個。

具體地，計算得到上述20個數(shù)據(jù)的均值，將所述數(shù)據(jù)特征與該20個數(shù)據(jù)的均值結(jié)合計算得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間。在本實施例中，將所述分布范圍跨度的均值對稱分布于該20個數(shù)據(jù)的均值兩側(cè)，由此得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間。

如圖3～圖4所示，所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11應用當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間，對發(fā)生偏移的當前維護周期內(nèi)的制程參數(shù)進行監(jiān)控。

具體地，當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間應用于所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11，對當前維護周期內(nèi)的制程參數(shù)進行監(jiān)控，當制程參數(shù)超出當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間時，系統(tǒng)發(fā)出報警信號。調(diào)整模塊17根據(jù)所述生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊11的反饋可對所述數(shù)據(jù)特征及所述可信區(qū)間進行調(diào)整，以實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)整。

如圖5所示，在本實施例中，僅顯示兩個維護周期變換處的數(shù)據(jù)。本發(fā)明的機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)及方法對第一維護周期及第二維護周期分別進行可信區(qū)間的設(shè)定，由圖可知，第一可信區(qū)間設(shè)定為(18，38)，第二可信區(qū)間設(shè)定為(28，48)。所述第二維護周期的初期(在本實施例中，為讀取20個數(shù)據(jù)的時間)為所述第二可信區(qū)間的計算時間。由于所述第一維護周期與所述第二維護周期內(nèi)的數(shù)據(jù)存在明顯的偏移，在分別設(shè)定可信區(qū)間后可有效避免可信區(qū)間的設(shè)定過寬或過窄的問題，大大提高半導體生產(chǎn)的安全性及產(chǎn)品的質(zhì)量。

綜上所述，本發(fā)明的機臺制程參數(shù)偏移的管控系統(tǒng)，包括提供制程參數(shù)的生產(chǎn)數(shù)據(jù)監(jiān)控模塊；提供機臺維護周期的機臺維護管理模塊；將具有偏移特性的制程參數(shù)按所述維護周期分段的制程參數(shù)分段模塊；根據(jù)若干按所述維護周期分段的制程參數(shù)數(shù)據(jù)得到所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征的數(shù)據(jù)特征產(chǎn)生模塊；根據(jù)當前維護周期內(nèi)制程參數(shù)初期的多個數(shù)據(jù)及所述制程參數(shù)的數(shù)據(jù)特征得到當前維護周期內(nèi)的可信區(qū)間的可信區(qū)間產(chǎn)生模塊。本發(fā)明機臺制程參數(shù)偏移的管控方法對具有維護周期偏移特性的制程參數(shù)按維護周期分段，經(jīng)程序化計算后得到該參數(shù)的數(shù)據(jù)特征，并根據(jù)當前維護周期內(nèi)的少量數(shù)據(jù)得到該維護周期內(nèi)的可信區(qū)間，通過不同維護周期內(nèi)的可信區(qū)間的分別設(shè)定，避免具有維護周期偏移特性的制程參數(shù)的可信區(qū)間設(shè)定不當導致的生產(chǎn)和管理問題，大大提高半導體生產(chǎn)中的質(zhì)量和效率問題。所以，本發(fā)明有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。

上述實施例僅例示性說明本發(fā)明的原理及其功效，而非用于限制本發(fā)明。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者在未脫離本發(fā)明所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本發(fā)明的權(quán)利要求所涵蓋。