離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種結(jié)構(gòu)簡單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好的離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置，設(shè)有密封扣合的上蓋（100）和下蓋（102），在上蓋（100）和下蓋（102）之間置有彈性緩沖膜（101），形成上蓋-膜氣體腔（400）和下蓋-膜氣體腔（401），與上蓋-膜氣體腔（400）相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口（200）和第一氣體出口（201），與下蓋-膜氣體腔（401）相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口（203）和第二氣體出口（202），第一氣體出口（201）與第二氣體入口（203）之間通過腔間連接管（204）相接。
【專利說明】離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種氣體穩(wěn)壓裝置，尤其是一種結(jié)構(gòu)簡單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好的離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]離子遷移譜主要用于常壓下檢測痕量氣態(tài)化學(xué)物質(zhì)，基本原理是先將被檢測的樣品蒸汽或微粒氣化，之后經(jīng)過膜及填充有活性炭、分子篩等過濾裝置濾除其中的煙霧、無機分子和水分子等雜質(zhì)，最后被載氣攜帶進(jìn)入漂移管的反應(yīng)區(qū)。在反應(yīng)區(qū)內(nèi)，樣品氣體首先經(jīng)射線電離而形成產(chǎn)物離子，在反應(yīng)區(qū)電場的作用下移向離子門。控制離子門的開關(guān)脈沖，形成周期性進(jìn)入漂移區(qū)的離子脈沖，并在漂移電場的作用下沿軸向向收集電極漂移。在已知漂移區(qū)長度和漂移區(qū)內(nèi)電場條件下，測量出離子通過漂移區(qū)到達(dá)收集電極所用的時間，就可以計算出離子的遷移率(遷移率的定義是指在單位電場強度作用下離子的漂移速度)，從而可以辨識被檢測物種類。
[0003]在整個檢測過程中，樣品氣體壓力穩(wěn)定程度直接影響檢測結(jié)果，對于高重現(xiàn)性的儀器其氣體壓力波動值只允許幾帕斯卡到幾十帕斯卡。目前，一般儀器中都使用質(zhì)量流量計等，以實現(xiàn)高精度控制，但存在著價格昂貴的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實用新型是為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的上述技術(shù)問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好的離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置。
[0005]本實用新型的技術(shù)解決方案是:一種離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置，其特征在于:設(shè)有密封扣合的上蓋和下蓋，在上蓋和下蓋之間置有彈性緩沖膜，形成上蓋-膜氣體腔和下蓋-膜氣體腔，與上蓋-膜氣體腔相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口和第一氣體出口，與下蓋-膜氣體腔相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口和第二氣體出口，第一氣體出口與第二氣體入口之間通過腔間連接管相接。
[0006]本實用新型的樣品氣體經(jīng)第一氣體入口進(jìn)入后，先后流經(jīng)上蓋-膜氣體腔、腔間連接管和下蓋-膜氣體腔，自第二氣體出口流出，氣體的壓力波動經(jīng)由膜的反饋、耦合作用，可被大大降低，同現(xiàn)有技術(shù)相比，具有結(jié)構(gòu)簡單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好等優(yōu)點。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型實施例的外觀圖。
[0008]圖2是本實用新型實施例的剖視圖。
【具體實施方式】
[0009]下面將結(jié)合【專利附圖】

【附圖說明】本實用新型的【具體實施方式】。如圖1、2所示:設(shè)有密封扣合的上蓋100和下蓋102，在上蓋100和下蓋102之間置有彈性緩沖膜101 (如硅橡膠膜)，形成上蓋-膜氣體腔400和下蓋-膜氣體腔401，上蓋100和下蓋102用螺栓301固定，實現(xiàn)密封。與上蓋-膜氣體腔400相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口 200和第一氣體出口 201，與下蓋-膜氣體腔401相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口 203和第二氣體出口 202，第一氣體出口 201與第二氣體入口 203之間通過腔間連接管204相接。第一氣體入口 200、第一氣體出口 201、二氣體入口 203和第二氣體出口 202與上蓋100和下蓋102之間均通過緊固螺母300相接，第一氣體出口 201、第二氣體入口 203與腔間連接管204也通過緊固螺母300相接。
【權(quán)利要求】
1.一種離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置，其特征在于:設(shè)有密封扣合的上蓋(100)和下蓋(102)，在上蓋(100)和下蓋(102)之間置有彈性緩沖膜(101)，形成上蓋-膜氣體腔(400)和下蓋-膜氣體腔(401)，與上蓋-膜氣體腔(400 )相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口( 200 )和第一氣體出口(201)，與下蓋-膜氣體腔(401)相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口(203)和第二氣體出口(202)，第一氣體出口(201)與第二氣體入口(203)之間通過腔間連接管(204)相接。
【文檔編號】G05D16/00GK203689172SQ201320802907
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2013年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月10日
【發(fā)明者】杜永齋, 史喜成, 張驤, 高曉強, 王麗, 康健, 白雪蓮 申請人:大連金瑞威達(dá)科技有限公司, 中國人民解放軍63971部隊