離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好的離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置，設(shè)有密封扣合的上蓋（100）和下蓋（102），在上蓋（100）和下蓋（102）之間置有彈性緩沖膜（101），形成上蓋-膜氣體腔（400）和下蓋-膜氣體腔（401），與上蓋-膜氣體腔（400）相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口（200）和第一氣體出口（201），與下蓋-膜氣體腔（401）相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口（203）和第二氣體出口（202），第一氣體出口（201）與第二氣體入口（203）之間通過(guò)腔間連接管（204）相接。
【專(zhuān)利說(shuō)明】離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種氣體穩(wěn)壓裝置，尤其是一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好的離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]離子遷移譜主要用于常壓下檢測(cè)痕量氣態(tài)化學(xué)物質(zhì)，基本原理是先將被檢測(cè)的樣品蒸汽或微粒氣化，之后經(jīng)過(guò)膜及填充有活性炭、分子篩等過(guò)濾裝置濾除其中的煙霧、無(wú)機(jī)分子和水分子等雜質(zhì)，最后被載氣攜帶進(jìn)入漂移管的反應(yīng)區(qū)。在反應(yīng)區(qū)內(nèi)，樣品氣體首先經(jīng)射線電離而形成產(chǎn)物離子，在反應(yīng)區(qū)電場(chǎng)的作用下移向離子門(mén)?？刂齐x子門(mén)的開(kāi)關(guān)脈沖，形成周期性進(jìn)入漂移區(qū)的離子脈沖，并在漂移電場(chǎng)的作用下沿軸向向收集電極漂移。在已知漂移區(qū)長(zhǎng)度和漂移區(qū)內(nèi)電場(chǎng)條件下，測(cè)量出離子通過(guò)漂移區(qū)到達(dá)收集電極所用的時(shí)間，就可以計(jì)算出離子的遷移率(遷移率的定義是指在單位電場(chǎng)強(qiáng)度作用下離子的漂移速度)，從而可以辨識(shí)被檢測(cè)物種類(lèi)。
[0003]在整個(gè)檢測(cè)過(guò)程中，樣品氣體壓力穩(wěn)定程度直接影響檢測(cè)結(jié)果，對(duì)于高重現(xiàn)性的儀器其氣體壓力波動(dòng)值只允許幾帕斯卡到幾十帕斯卡。目前，一般儀器中都使用質(zhì)量流量計(jì)等，以實(shí)現(xiàn)高精度控制，但存在著價(jià)格昂貴的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好的離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)解決方案是:一種離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置，其特征在于:設(shè)有密封扣合的上蓋和下蓋，在上蓋和下蓋之間置有彈性緩沖膜，形成上蓋-膜氣體腔和下蓋-膜氣體腔，與上蓋-膜氣體腔相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口和第一氣體出口，與下蓋-膜氣體腔相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口和第二氣體出口，第一氣體出口與第二氣體入口之間通過(guò)腔間連接管相接。
[0006]本發(fā)明的樣品氣體經(jīng)第一氣體入口進(jìn)入后，先后流經(jīng)上蓋-膜氣體腔、腔間連接管和下蓋-膜氣體腔，自第二氣體出口流出，氣體的壓力波動(dòng)經(jīng)由膜的反饋、耦合作用，可被大大降低，同現(xiàn)有技術(shù)相比，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、體積小、成本低、穩(wěn)壓效果好等優(yōu)點(diǎn)。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0007]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的外觀圖。
[0008]圖2是本發(fā)明實(shí)施例的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面將結(jié)合【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】。如圖1、2所示:設(shè)有密封扣合的上蓋100和下蓋102，在上蓋100和下蓋102之間置有彈性緩沖膜101 (如硅橡膠膜)，形成上蓋-膜氣體腔400和下蓋-膜氣體腔401，上蓋100和下蓋102用螺栓301固定，實(shí)現(xiàn)密封。與上蓋-膜氣體腔400相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口 200和第一氣體出口 201，與下蓋-膜氣體腔401相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口 203和第二氣體出口 202，第一氣體出口201與第二氣體入口 203之間通過(guò)腔間連接管204相接。第一氣體入口 200、第一氣體出口201、二氣體入口 203和第二氣體出口 202與上蓋100和下蓋102之間均通過(guò)緊固螺母300相接，第一氣體出口 201、第二氣體入口 203與腔間連接管204也通過(guò)緊固螺母300相接。
【權(quán)利要求】
1.一種離子遷移譜用氣體穩(wěn)壓裝置，其特征在于:設(shè)有密封扣合的上蓋(100)和下蓋(102)，在上蓋(100)和下蓋(102)之間置有彈性緩沖膜(101)，形成上蓋-膜氣體腔(400)和下蓋-膜氣體腔(401)，與上蓋-膜氣體腔(400 )相通有同軸設(shè)置的第一氣體入口( 200 )和第一氣體出口(201)，與下蓋-膜氣體腔(401)相通有同軸設(shè)置的第二氣體入口(203)和第二氣體出口(202)，第一氣體出口(201)與第二氣體入口(203)之間通過(guò)腔間連接管(204)相接。
【文檔編號(hào)】G05D16/00GK103699145SQ201310659373
【公開(kāi)日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月10日
【發(fā)明者】杜永齋, 史喜成, 張?bào)J, 高曉強(qiáng), 王麗, 康健, 白雪蓮 申請(qǐng)人:大連金瑞威達(dá)科技有限公司, 中國(guó)人民解放軍63971部隊(duì)