專利名稱:一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置和方法
技術(shù)領域:
本發(fā)明涉及工藝過程自動化控制技術(shù)領域,特別是涉及 一 種工藝過 程參數(shù)的可視化裝置和方法。
背景技術(shù):
隨著單個工藝技術(shù)以及工藝過程的越來越復雜,系統(tǒng)化程度越來越 高,工藝過程自動化控制技術(shù)也應用得更加廣泛。
例如,為了全程監(jiān)控工藝過程中的過程參數(shù),分析出現(xiàn)硬件故障或 不合格產(chǎn)品的原因,現(xiàn)有技術(shù)提出了分布式的數(shù)據(jù)采集分析架構(gòu)。通過 設置在具體生產(chǎn)加工設備上的數(shù)據(jù)采集器件,從工藝制造過程的各個設 備上采集各種所需的過程參數(shù),通過通訊卡等器件傳輸至工控機,在工 控機端向技術(shù)人員進行相應過程參數(shù)的圖像展示以便分析查看,也稱之 為可視化技術(shù)。
相比于傳統(tǒng)的參數(shù)數(shù)值展示,圖像分析方法比較直觀、便捷,在分 析采集到的過程數(shù)據(jù)時,能夠展示過程參數(shù)的變化范圍和變化趨勢,便 于技術(shù)人員發(fā)現(xiàn)工藝過程中各個參數(shù)出現(xiàn)的問題,進而對工藝過程或者 設備進行準確控制或預警。圖像分析方法還可以實現(xiàn)針對歷史數(shù)據(jù)的圖 像展示和分析,也可以實現(xiàn)對實時數(shù)據(jù)的圖像監(jiān)控。
但是對于很多生產(chǎn)工藝而言(例如,半導體生產(chǎn)工藝或大型化工產(chǎn) 品生產(chǎn)工藝等等),其制造過程都非常復雜,需要采集的過程參數(shù)種類繁
多,例如,可能包括腔室壓力、溫度、濕度、電壓、氣體流量、OES譜 線(Optical Emission Spectroscopy,光學發(fā)射光譜)或者IEP探測譜線 (Interferometry End Point)等等。并且各個參數(shù)量綱不同、取值范圍不 同,還可能存在需要對多個參數(shù)曲線進行對比分析的情況,而現(xiàn)有數(shù)據(jù) 采集展示系統(tǒng)中的圖像顯示功能,其顯示和控制功能單一,無法適應多 條參數(shù)曲線的展示和控制,不便于技術(shù)人員進行數(shù)據(jù)的圖像分析。
6總之,目前迫切需要本領域技術(shù)人員解決的一個技術(shù)問題就是如
何能夠改進現(xiàn)有的工藝過程參數(shù)的可視化裝置,以便更好的顯示和控制 參數(shù)曲線,進而提高數(shù)據(jù)圖像分析的效率和精度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置 和方法,能夠適應多種不同量綱、取值范圍相差較大的過程參數(shù)的可視 化展示和控制,能夠提高數(shù)據(jù)圖像分析的效率和精度。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實施例公開了 一種工藝過程參數(shù)的 可視化裝置,用于展示多種工藝過程參數(shù)隨時間的變化情況,該裝置可
以包括
時間軸動態(tài)調(diào)整模塊,用于依據(jù)一過程參數(shù)的目標樣本點的時間值, 對展示該過程參數(shù)的時間軸的最大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;
數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊,用于依據(jù) 一過程參數(shù)在當前時間軸范圍內(nèi)的 樣本點的最大參數(shù)值和/或最'J、參數(shù)值,對展示該過程參數(shù)的數(shù)值軸的最 大值和/或最小值進行動態(tài)調(diào)整;
展示模塊,用于采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸范圍,對 相應的過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
優(yōu)選的,時間軸動態(tài)調(diào)整模塊所采用的調(diào)整規(guī)則可以為所迷時間 軸的最大值和最小值之差為一 固定閾值;所述目標樣本點為最新樣本點, 所述時間軸的最大值為最新樣本點的時間值與預設時間間隔值之和。
或者,時間軸動態(tài)調(diào)整4莫塊所采用的調(diào)整M^則也可以為所述目標 樣本點為最新樣本點,當曲線最新樣本點的時間值與時間軸當前最大值 的差小于預設閾值時,對當前時間軸的最大值和最小值都增加 一 個預設 的時間間隔7匿。
優(yōu)選的,數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊所采用的調(diào)整規(guī)則可以為所述數(shù)值 軸的最大值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔 值之和;和/或,所述數(shù)值軸的最小值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最 小參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之差?;蛘撸瑪?shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊所采用的調(diào)整規(guī)則也可以為當樣本點
最大參數(shù)值超過當前數(shù)值軸最大值時,對數(shù)值軸進行調(diào)整,調(diào)整后的數(shù)
值軸最大值為所述樣本點最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之和;當樣本點 最大參數(shù)值小于當前數(shù)值軸最大值,并且差距大于預設的條件閾值時, 對數(shù)值軸進行調(diào)整,調(diào)整后的數(shù)值軸最大值為所述樣本點最大參數(shù)值與 預設數(shù)值間隔值之和。
優(yōu)選的,該裝置還可以包括圖像控制模塊,用于針對一過程參數(shù), 依據(jù)所接收的用戶輸入信息,控制展示模塊所展示的相應圖像的顯示或 隱藏;和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像的顏色;和/或,控制展示 模塊所展示的相應圖像的線寬;和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像 的線型。
優(yōu)選的,該裝置還可以包括放大模塊,用于針對一展示圖像,獲取 用戶選擇的矩形區(qū)域,將矩形區(qū)域頂點的像素坐標轉(zhuǎn)換為坐標軸取值, 然后通知展示才莫塊以新的坐標軸取值范圍,對該過程參數(shù)隨時間的變化 情況進行展示。
優(yōu)選的,該裝置還可以包括拖拽模塊,用于針對一展示圖像,接收 用戶基于像素坐標的拖拽偏移量;將基于像素坐標的拖拽偏移量變換為 坐標軸偏移量,獲取新的坐標軸取值范圍;然后通知展示模塊以新的坐 標軸取值范圍,對該過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
優(yōu)選的,該裝置還可以包括樣本點信息顯示模塊,用于針對用戶所 選擇的樣本點,在預置區(qū)域顯示相關的樣本點信息,所述樣本點信息包 括該樣本點的具體參數(shù)值。
優(yōu)選的,該裝置還可以包括樣本點捕捉模塊,用于判斷用戶當前的 鼠標點是否位于某個樣本點區(qū)域內(nèi),如果是,則確定該樣本點就是用戶 所選擇的樣本點;所述樣本點區(qū)域為以該樣本點為中心、具有預設半徑 的圓形區(qū)域。
優(yōu)選的,該裝置還可以包括樣本點信息管理模塊,用于控制樣本點 信息顯示模塊的開啟或關閉。
優(yōu)選的,所述工藝過程參數(shù)的可視化裝置用于半導體沉積工藝或者刻蝕工藝中的過程參數(shù)采集和分析。
依據(jù)本發(fā)明的另 一實施例,還公開了 一種工藝過程參數(shù)的可視化方
法,用于展示多種工藝過程參數(shù)隨時間的變化情況,包括以下步驟接 收一過程參數(shù)的樣本點數(shù)據(jù),所述樣本點數(shù)據(jù)包括時間值和參數(shù)值;依 據(jù)該過程參數(shù)的目標樣本點的時間值,對展示該過程參數(shù)的時間軸的最 大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;依據(jù)該過程參數(shù)在當前時間軸范圍內(nèi)的樣 本點的最大參數(shù)值和/或最小參數(shù)值,對展示該過程參數(shù)的數(shù)值軸的最大 值和/或最小值進行動態(tài)調(diào)整;采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸 范圍,對該過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
其中,優(yōu)選的,可以采用以下身見則對時間軸進4亍動態(tài)調(diào)整所述時 間軸的最大值和最小值之差為 一 固定閾值;所述目標樣本點為最新樣本 點,所述時間軸的最大值為最新樣本點的時間值與預設時間間隔值之和。
或者,也可以采用以下規(guī)則對時間軸進行動態(tài)調(diào)整所述目標樣本 點為最新樣本點,當曲線最新樣本點的時間值與時間軸當前最大值的差 小于預設閾值時,對當前時間軸的最大值和最小值都增加一個預設的時 間間隔值。
優(yōu)選的,可以采用以下規(guī)則對數(shù)值軸進行動態(tài)調(diào)整所述數(shù)值軸的 最大值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之 和;和/或,所述數(shù)值軸的最小值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最小參 數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之差。
或者,也可以采用以下規(guī)則對數(shù)值軸進行動態(tài)調(diào)整當樣本點最大 參數(shù)值超過當前數(shù)值軸最大值時,對數(shù)值軸進行調(diào)整,調(diào)整后的數(shù)值軸 最大值為所述樣本點最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之和;當樣本點最大 參數(shù)值小于當前數(shù)值軸最大值,并且差距大于預設的條件閾值時,對數(shù) 值軸進行調(diào)整,調(diào)整后的數(shù)值軸最大值為所述樣本點最大參數(shù)值與預設 數(shù)值間隔值之和。
與現(xiàn)有4支術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點
首先,本發(fā)明針對某個過程參數(shù)曲線展示的圖像區(qū)(展示窗口 ),其坐標軸取值范圍可以隨著該過程參數(shù)樣本點數(shù)值的變化而自動調(diào)整,以使該過 程參數(shù)的曲線能夠在圖像區(qū)有一個最佳的顯示比例,便于技術(shù)人員觀察分
析。本發(fā)明可以避免過程參數(shù)樣本值較小,而圖像區(qū)坐標軸取值較大,所 展現(xiàn)的參數(shù)曲線的局部特征變化不能清晰顯示;同時,也可以避免過程參 數(shù)樣本值較大,而圖像區(qū)坐標軸取值較小,無法展示全部的參數(shù)曲線,不能 體現(xiàn)出參數(shù)曲線的整體變化趨勢。
其次,本發(fā)明還可以抓取用戶對參數(shù)曲線的操作信息,例如,劃定區(qū)域, 對當前展示參數(shù)曲線的拖拽等等,進而將這些操作信息所對應的像素值轉(zhuǎn)換 為坐標軸的邏輯值,然后再以新的坐標軸范圍對該參數(shù)曲線進行展示。上述 改進可以更好的幫助技術(shù)人員觀察和分析參數(shù)曲線,可以提高數(shù)據(jù)圖像分 析的效率和精度。
圖1是本發(fā)明的一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置的實施例1的結(jié)構(gòu) 框圖2是本發(fā)明一種工藝過程參數(shù)的可視化方法的實施例的步驟流程
圖3是本發(fā)明的一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置的實施例2的結(jié)構(gòu) 框圖4是本發(fā)明的一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置的實施例3的結(jié)構(gòu) 框圖。
具體實施例方式
為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合 附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進一步詳細的說明。
本發(fā)明可以應用在各種復雜工藝的自動控制技術(shù)中,通過設置在具 體生產(chǎn)加工設備上的數(shù)據(jù)采集器件,從制造過程的各個設備上采集各種 所需的過程參數(shù),通過通訊卡等器件傳輸至本發(fā)明的可視化裝置,向技 術(shù)人員進行圖像展示以便分析查看。優(yōu)選的,本發(fā)明的可視化裝置可以 計算機應用程序的方式設置在工控機端。為了簡便起見,在本發(fā)明的具體實施例中均采用半導體制程為具體 應用環(huán)境進行介紹,但其并不應作為本發(fā)明的應用限制,實際上,本發(fā) 明可以應用在各種復雜工藝的自動控制技術(shù)中,例如,大型化工產(chǎn)品的 生產(chǎn)工藝等等。
參考圖1,示出了本發(fā)明的一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置的實施例
1,具體可以包4舌以下部1牛
時間軸動態(tài)調(diào)整模塊101,用于依據(jù)一過程參數(shù)的目標樣本點的時間 值,對展示該過程參數(shù)的時間軸的最大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;
數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊102,用于依據(jù)一過程參數(shù)在當前時間軸的最小 值至最大值范圍內(nèi)的樣本點的最大參數(shù)值和/或最'J、參數(shù)值,對展示該過 程參數(shù)的數(shù)值軸的最大值和/或最小值進行動態(tài)調(diào)整;
展示模塊103,用于采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸范圍, 對相應的過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
例如,對于半導體等離子增強化學氣相沉積(PECVD)工藝,為了監(jiān) 控PECVD設備的整體運行情況,所采集的參數(shù)可能包括腔室壓力、溫度、 電壓、氣體流量等等。再例如,對于半導體硅片刻蝕工藝,為了監(jiān)控刻 蝕過程,實現(xiàn)終點控制,所采集的參數(shù)可能包括OES譜線(Optical Emission Spectroscopy,光學發(fā)射光譜)或者IEP探測i普線(Interferometry End Point)等等。
由于為了監(jiān)控一個工藝工程所采集的參數(shù)種類繁多,因此,在本發(fā) 明的可視化裝置中,也需要對多種參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。例 如,在同一個展示窗口中,同時或者非同時的展示多種參數(shù)圖像;其中, 同時展示主要用于對各個參數(shù)的比對分析。需要說明的是,所展示的參 數(shù)圖像可以有多種形式,在本發(fā)明的實施例中以最常用的曲線圖為例進 行說明。
本發(fā)明可以針對不同的過程參數(shù)分別動態(tài)調(diào)整相應的坐標軸刻度 (即取值范圍),即使在同一展示窗口中,也能夠很好的兼顧各種參數(shù)的 特點,實現(xiàn)最佳的展示;即每種參數(shù)都采用最適合自己的坐標軸范圍進 行展示。例如,對于數(shù)值軸的調(diào)整,可以保證所展示曲線有一個最佳的顯示比例;對于時間軸的調(diào)整,可以保證在展示窗口中顯示的始終是最 新的一段數(shù)據(jù),同時又不會因為顯示全部時間段內(nèi)的數(shù)據(jù)而導致圖像顯 示過小,無法XC測曲線局部的情況。
下面對圖1所示實施例可能采用的具體調(diào)整失見則加以il明。 在本發(fā)明的 一 個優(yōu)選實施例中,時間軸動態(tài)調(diào)整模塊所采用的調(diào)整 規(guī)則可以為所述時間軸的最大值和最小值之差為一固定閾值;所述目 標樣本點為最新樣本點,所述時間軸的最大值為最新樣本點的時間值與 預設時間間隔值之和。即每獲得一個新的樣本點,就重新計算一次時間 軸的最大值,然后根據(jù)固定閾值計算得到新的最小值。通常時間軸在參 數(shù)曲線的展示中為X軸,下面以此為例進行說明;當然時間軸作為Y軸 也是可行的,本發(fā)明對此并不需要加以限制。上面的規(guī)則用公式表示如 下
X軸最大值==最新樣本點的時間值+預設時間間隔值
x軸最小值-x軸最大值-固定閾值
上述規(guī)則,可以保證在展示窗口中顯示的始終是最新的一段數(shù)據(jù),
并且所展示的時間段也可以是固定的(例如,1分鐘或5分鐘等)。即整 個展示窗口的坐標軸可以隨著時間的推移以及實時參數(shù)的采集而自動調(diào) 整。優(yōu)選的,對于多個參數(shù)的曲線展示,可以采用相同的時間軸調(diào)整結(jié) 果,因為對于大多數(shù)參數(shù)而言,其時間軸可以是一致的,這樣也便于對 同 一 時刻的過程參數(shù)情況進行比對分析。
基于相同的思想,在本發(fā)明的另一實施例中,也可以針對時間軸動 態(tài)調(diào)整模塊設置不同的調(diào)整規(guī)則,例如當曲線最新樣本點的時間值與X 軸(時間軸)當前最大值的差小于預設閾值時,對X軸的最大值和最小 值進行調(diào)整,具體算法可以為對于當前的X軸的最大值和最小值都增 加一個預設的時間間隔值。優(yōu)選的,所述預設的時間間隔值就等于前述 判斷提交中的預設閾值。上述規(guī)則用公式表示如下
x軸新的最大值=當前x軸最大值+預設時間間隔值x軸新的最小值=當前x軸最小值+預設時間間隔值
可以看出,上述的調(diào)整規(guī)則,雖然在具體的調(diào)整細節(jié)上有所不同, 但是也可以得到同樣的效果。并且,可以在最新樣本點的時間值沒有逼
近當前x軸的最大值時,不對坐標軸進行調(diào)整,以減少調(diào)整次數(shù),提高效率。
在本發(fā)明的 一 個優(yōu)選實施例中,數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊所采用的調(diào)整
規(guī)則可以為所述數(shù)值軸(Y軸)的最大值為樣本點在當前時間軸范圍 內(nèi)的最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之和;和/或,所述數(shù)值軸的最小值為 樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最小參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之差。上述 的調(diào)整規(guī)則是每獲得一個新的樣本點,就對坐標軸進行一次調(diào)整。用公 式表示i口下
X軸新的最大值=樣本點最大參數(shù)值+預設數(shù)值間隔值 X軸新的最小值=樣本點最小參數(shù)值-預設數(shù)值間隔值
需要說明的是,在參數(shù)曲線的展示中,數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊可以只 調(diào)整Y軸最大值而不調(diào)整Y軸最小值,也可以二者都調(diào)整。
基于相同的思想,在本發(fā)明的另一實施例中,也可以針對數(shù)值軸動 態(tài)調(diào)整模塊設置其他的調(diào)整規(guī)則,例如
當樣本點最大參數(shù)值超過當前Y軸最大值時,Y軸最大值調(diào)整到新 值,計算公式為
Y軸最大值=樣本點最大參數(shù)值+偏移量
當曲線最大值比當前Y軸最大值小很多時(滿足預設條件時),Y軸 最大值調(diào)整到新值,計算公式為
Y軸最大值=樣本點最大參數(shù)值+偏移量
定條件時,才對坐標軸進行調(diào)整,以減少調(diào)整次數(shù)。
需要說明的是,基于本發(fā)明動態(tài)調(diào)整的思想,還有很多可行的具體 調(diào)整規(guī)則,本發(fā)明無法在此——詳述。參照圖2,示出了本發(fā)明一種工藝過程參數(shù)的可視化方法的實施例, 該實施例可以用于展示多種工藝過程參數(shù)隨時間的變化情況,具體的可
以包括以下步驟
步驟201、接收一過程參數(shù)的樣本點數(shù)據(jù),所述樣本點數(shù)據(jù)包括時間 值和參數(shù)值;
步驟202、依據(jù)該過程參數(shù)的目標樣本點的時間值,對展示該過程參 數(shù)的時間軸的最大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;
步驟203、依據(jù)該過程參數(shù)在當前時間軸范圍內(nèi)的樣本點的最大參數(shù) 值和/或最小參數(shù)值,對展示該過程參數(shù)的數(shù)值軸的最大值和/或最小值進 行動態(tài)調(diào)整;
步驟204、采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸范圍,對該過程 參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
圖2所示的實施例與圖1所示實施例的核心構(gòu)思相同,對于時間軸 和數(shù)值軸的具體調(diào)整規(guī)則等相關信息,在對圖1所示實施例的相關描述 中也已經(jīng)詳細介紹了,所以在此不再贅述。
需要說明的是,為了簡單描述,將上述方法實施例表述為一系列的動 作順序組合,但是本領域技術(shù)人員應該知悉,本發(fā)明并不受所描述的動作順 序的限制,因為依據(jù)本發(fā)明,某些步驟可以采用其他順序或者同時進行。例 如,該實施例中的步驟202和203還可以同時進行,也可以顛倒順序進行。
參照圖3,本發(fā)明的一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置的實施例2,實 施例2比實施例1更為優(yōu)化,增加了一些優(yōu)化的^t塊,具體可以包括以 下部件
時間軸動態(tài)調(diào)整模塊301,用于依據(jù)一過程參數(shù)的目標樣本點的時間 值,對展示該過程參數(shù)的時間軸的最大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;
數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊302,用于依據(jù)一過程參數(shù)在當前時間軸的最小 值至最大值范圍內(nèi)的樣本點的最大參數(shù)值和/或最小參數(shù)值,對展示該過 程參數(shù)的數(shù)值軸的最大值和/或最小值進行動態(tài)調(diào)整;展示模塊303 ,用于采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸范圍,
對相應的過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示;
圖像控制模塊304,用于針對一過程參數(shù),依據(jù)所接收的用戶輸入信 息,對展示模塊303所展示的參數(shù)曲線執(zhí)行各種控制操作。例如
控制展示模塊所展示的相應圖像的顯示或隱藏;以在有比對需要時 展示該曲線,在不需要時隱藏該曲線,以便用戶查看其他參數(shù)曲線。
和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像的顏色。
和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像的線寬。
和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像的線型。
通過 對各個參數(shù)曲線設置不同的顏色、線寬、線型等,就可以在同 一展示窗口中把多個參數(shù)曲線清晰的區(qū)別開來,以提高分析的效率和精 度。
優(yōu)選的,圖像控制模塊304還可以用于依據(jù)用戶輸入的數(shù)值,控制 展示模塊所展示的相應圖像的縮放比例。
優(yōu)選的,圖3所示的實施例,還可以包括放大模塊305,用于針對一 展示的參數(shù)曲線,接收用戶所選擇的矩形區(qū)域,將矩形區(qū)域的頂點的像 素坐標轉(zhuǎn)換為坐標軸取值,然后通知展示模塊303以新的坐標軸取值范 圍,對該過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
例如,用戶在所展示的參數(shù)曲線圖像上,按下鼠標左鍵并向右上方 或右下方滑動畫出一塊矩形區(qū)域,進而可以通過》文大才莫塊305對該區(qū)域 進行放大或者縮小。以放大為例,具體的放大計算公式可以如下
X軸新最小值=矩形開始點的X坐標
x軸新最大值=矩形結(jié)束點的x坐標
Y軸新最小值=矩形開始點的Y坐標 Y軸新最大值=矩形結(jié)束點的Y坐標
首先從用戶鼠標行為所獲取的是像素坐標,進而依據(jù)像素和坐標軸 的關系,將其轉(zhuǎn)換為矩形頂點的X坐標和Y坐標,然后再依據(jù)上述公式 就可以計算出新的坐標軸范圍。當依據(jù)該新的坐標軸范圍對該參數(shù)曲線 進行展示時,就相當于對原參數(shù)曲線上的矩形區(qū)域進行了放大。優(yōu)選的,圖3所示的實施例還可以包括拖拽才莫塊306,用于針對一展 示的參數(shù)曲線,接收用戶基于像素坐標的拖拽偏移量;將基于像素坐標 的拖拽偏移量變換為坐標軸偏移量,獲取新的坐標軸取值范圍;然后通 知展示模塊303以新的坐標軸取值范圍,對該過程參數(shù)隨時間的變化情 況進〗于展示。
例如,在展示窗口中,同時按下"Ctrl"鍵和鼠標左鍵或按下鼠標中 鍵可拖動展示窗口中的參數(shù)曲線做上下左右移動,移動距離的計算公式 可以如下
X軸新最小值-X軸舊最小值+鼠標X坐標偏移量
x軸新最大值-x軸舊最大值+鼠標x坐標偏移量
Y軸新最小值-Y軸舊最小值+鼠標Y坐標偏移量 Y軸新最大值-Y軸舊最大值+鼠標Y坐標偏移量 鼠標X坐標偏移量=鼠標新X坐標-鼠標舊X坐標 鼠標Y坐標偏移量=鼠標新Y坐標-鼠標舊Y坐標
首先從用戶鼠標行為所獲取的是像素坐標,進而依據(jù)像素和坐標軸 的關系,可以獲得上述計算公式中的鼠標X坐標和Y坐標。通過拖拽模 塊306,用戶可以方i"更查看展示窗口中當前最小時間點以前的曲線。
參照圖4,本發(fā)明的一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置的實施例3,實 施例3比實施例2更為優(yōu)化,進一步增加了一些優(yōu)化的模塊,具體可以 包括以下部件
時間軸動態(tài)調(diào)整模塊401;
數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊402;
展示模塊403;
圖像控制模塊404;
放大模塊405;
拖拽模塊406;
由于以上部件在實施例2中已經(jīng)詳細,所以在此不再贅述。 圖4所示的實施例還可以包括樣本點捕捉模塊407,用于判斷用戶當前的鼠標點是否位于某個樣本
點區(qū)域內(nèi),如果是,則確定該樣本點就是用戶所選擇的樣本點;所述樣 本點區(qū)域為以該樣本點為中心、具有預設半徑的圓形區(qū)域。
由于所采集的參數(shù)樣本點可能具有一定的時間間隔,因此,采用上 面的樣本點捕捉方法可以很好的確定用戶所選擇的樣本點,而不必要求 用戶的鼠標點必須嚴格對應到樣本點本身的坐標上去。因為 一個樣本點 的實際坐標是很難被用戶通過鼠標直接捕捉得到,而樣本點捕捉模塊407 可以將其擴展為一個圓形區(qū)域,以便用戶捕捉。
樣本點信息顯示模塊408,用于針對用戶所選擇的樣本點,在預置區(qū) 域(例如,參數(shù)樣本點附近等)顯示相關的樣本點信息,所述樣本點信 息包括該樣本點的具體參數(shù)值。
實際上,當用戶鼠標移動到某個樣本點區(qū)域時,就可以觸發(fā)顯示該 樣本點相關的各種信息,最常用的就是其具體的參數(shù)值,以便分析用。 當然,本實施例中的樣本點捕捉模塊407捕捉樣本點的功能并不是僅僅 用于樣本點信息顯示的,還可以用于其他操作中。
但是在實際應用中,有的時候技術(shù)人員移動鼠標,是為了準確看到 樣本點的具體參數(shù)值,而有的時候移動鼠標,并不是為了查看該樣本點 的具體參數(shù)值,而是其他用意(例如,用戶習慣等)。因此,圖3所示的 實施例,還可以包括樣本點信息管理模塊409,以用于控制樣本點信息顯 示模塊408的開啟或關閉。例如, 一種簡單的實現(xiàn)方式是,在鼠標右鍵 菜單中標記是否開啟樣本點信息顯示模塊408,如果開啟,則隨著鼠標的 移動選擇而顯示樣本點的具體參數(shù)信息,如果沒有開啟,則就不必啟動 樣本點信息顯示模塊408,以避免對技術(shù)人員的影響。優(yōu)選的,在鼠標右 鍵菜單中還可以增加一些操作的快捷指令,例如,還原縮放、撤銷上一 步操作、顯示圖例等等。
本說明書中的各個實施例均采用遞進的方式描述,每個實施例重點說明 的都是與其他實施例的不同之處,各個實施例之間相同相似的部分互相參見 即可。另外,需要說明的是,本發(fā)明可以在由計算機執(zhí)行的計算機可執(zhí)行指
17令的一般上下文中描述,例如程序模塊。
一般地,程序模塊可以包括執(zhí)行特 定任務或?qū)崿F(xiàn)特定抽象數(shù)據(jù)類型的例程、程序、對象、組件、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等等。 以上對本發(fā)明所提供的 一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置和方法進行
闡述,以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的核心思想;同時,
對于本領域的一般技術(shù)人員,依據(jù)本發(fā)明的思想,在具體實施方式
及應 用范圍上均會有改變之處,綜上所述,本說明書內(nèi)容不應理解為對本發(fā) 明的限制。
權(quán)利要求
1、一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置,其特征在于,用于展示多種工藝過程參數(shù)隨時間的變化情況,該裝置包括時間軸動態(tài)調(diào)整模塊,用于依據(jù)一過程參數(shù)的目標樣本點的時間值,對展示該過程參數(shù)的時間軸的最大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊,用于依據(jù)一過程參數(shù)在當前時間軸范圍內(nèi)的樣本點的最大參數(shù)值和/或最小參數(shù)值,對展示該過程參數(shù)的數(shù)值軸的最大值和/或最小值進行動態(tài)調(diào)整;展示模塊,用于采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸范圍,對相應的過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
2、 如權(quán)利要求l所述的裝置,其特征在于,時間軸動態(tài)調(diào)整模塊所 采用的調(diào)整規(guī)則為所述時間軸的最大值和最小值之差為一固定閾值; 所述目標樣本點為最新樣本點,所述時間軸的最大值為最新樣本點 的時間值與預i殳時間間隔4直之和。
3、 如權(quán)利要求l所述的裝置,其特征在于,時間軸動態(tài)調(diào)整模塊所 采用的調(diào)整^L則為所述目標樣本點為最新樣本點,當曲線最新樣本點的時間值與時間 軸當前最大值的差小于預設閾值時,對當前時間軸的最大值和最小值都 增加 一個預i殳的時間間隔值。
4、 如權(quán)利要求l所述的裝置,其特征在于,數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊所 采用的調(diào)整規(guī)則為所述數(shù)值軸的最大值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最大參數(shù)值與 預設數(shù)值間隔值之和;和/或,所述數(shù)值軸的最小值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最小參 數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之差。
5、 如權(quán)利要求l所述的裝置,其特征在于,數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊所 采用的調(diào)整規(guī)則為當樣本點最大參數(shù)值超過當前數(shù)值軸最大值時,對數(shù)值軸進行調(diào)整, 調(diào)整后的數(shù)值軸最大值為所述樣本點最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之和;當樣本點最大參數(shù)值小于當前數(shù)值軸最大值,并且差距大于預設的 條件閾值時,對數(shù)值軸進行調(diào)整,調(diào)整后的數(shù)值軸最大值為所述樣本點 最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之和。
6、 如權(quán)利要求l所述的裝置,其特征在于,還包括圖像控制模塊, 用于針對一過程參數(shù),依據(jù)所接收的用戶輸入信息,控制展示模塊所展示的相應圖像的顯示或隱藏; 和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像的顏色; 和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像的線寬; 和/或,控制展示模塊所展示的相應圖像的線型。
7、 如權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,還包括放大模塊,用于針對一展示圖像,獲取用戶選擇的矩形區(qū)域,將矩 形區(qū)域頂點的像素坐標轉(zhuǎn)換為坐標軸取值,然后通知展示模塊以新的坐 標軸取值范圍,對該過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
8、 如權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,還包括拖拽模塊,用于針對一展示圖像,接收用戶基于像素坐標的拖拽偏 移量;將基于像素坐標的拖拽偏移量變換為坐標軸偏移量,獲取新的坐 標軸取值范圍;然后通知展示模塊以新的坐標軸取值范圍,對該過程參 數(shù)隨時間的變化情況進行展示。
9、 如權(quán)利要求8所述的裝置,其特征在于,還包括 樣本點信息顯示模塊,用于針對用戶所選擇的樣本點,在預置區(qū)域顯示相關的樣本點信息,所述樣本點信息包括該樣本點的具體參數(shù)值。
10、 如權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于,還包括 樣本點捕捉模塊,用于判斷用戶當前的鼠標點是否位于某個樣本點區(qū)域內(nèi),如果是,則確定該樣本點就是用戶所選擇的樣本點;所述樣本 點區(qū)域為以該樣本點為中心、具有預-沒半徑的圓形區(qū)域。
11、 如權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于,還包括 樣本點信息管理模塊,用于控制樣本點信息顯示模塊的開啟或關閉。
12、 如權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于,所述工藝過程參數(shù)的 可視化裝置用于半導體沉積工藝或者刻蝕工藝中的過程參數(shù)采集和》 析。
13、 一種工藝過程參數(shù)的可視化方法,其特征在于,用于展示多種 工藝過程參數(shù)隨時間的變化情況,包括以下步驟接收一過程參數(shù)的樣本點數(shù)據(jù),所述樣本點數(shù)據(jù)包括時間值和參數(shù)值;依據(jù)該過程參數(shù)的目標樣本點的時間值,對展示該過程參數(shù)的時間 軸的最大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;依據(jù)該過程參數(shù)在當前時間軸范圍內(nèi)的樣本點的最大參數(shù)值和/或最 小參數(shù)值,對展示該過程參數(shù)的數(shù)值軸的最大值和/或最小值進行動態(tài)調(diào) 整;采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸范圍,對該過程參數(shù)隨時 間的變化情況進行展示。
14、 如權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于,采用以下規(guī)則對時間 軸進行動態(tài)調(diào)整所述時間軸的最大值和最小值之差為一固定閾值; 所述目標樣本點為最新樣本點,所述時間軸的最大值為最新樣本點 的時間值與預設時間間隔值之和。
15、 如權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于,采用以下規(guī)則對時間 軸進行動態(tài)調(diào)整所述目標樣本點為最新樣本點,當曲線最新樣本點的時間值與時間 軸當前最大值的差小于預設閾值時,對當前時間軸的最大值和最小值都 增加 一 個預:沒的時間間隔^直。
16、 如權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于,采用以下規(guī)則對數(shù)值 軸進行動態(tài)調(diào)整所述數(shù)值軸的最大值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最大參數(shù)值與 預設數(shù)值間隔值之和;和/或,所述數(shù)值軸的最小值為樣本點在當前時間軸范圍內(nèi)的最小參 數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之差。
17、如權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于,采用以下規(guī)則對數(shù)值 軸進行動態(tài)調(diào)整當樣本點最大參數(shù)值超過當前數(shù)值軸最大值時,對數(shù)值軸進行調(diào)整, 調(diào)整后的數(shù)值軸最大值為所述樣本點最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之 和;當樣本點最大參數(shù)值小于當前數(shù)值軸最大值,并且差距大于預設的 條件閾值時,對數(shù)值軸進行調(diào)整,調(diào)整后的數(shù)值軸最大值為所述樣本點 最大參數(shù)值與預設數(shù)值間隔值之和。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種工藝過程參數(shù)的可視化裝置,用于展示多種工藝過程參數(shù)隨時間的變化情況,該裝置包括時間軸動態(tài)調(diào)整模塊,用于依據(jù)一過程參數(shù)的目標樣本點的時間值,對展示該過程參數(shù)的時間軸的最大值和最小值進行動態(tài)調(diào)整;數(shù)值軸動態(tài)調(diào)整模塊,用于依據(jù)一過程參數(shù)在當前時間軸范圍內(nèi)的樣本點的最大參數(shù)值和/或最小參數(shù)值,對展示該過程參數(shù)的數(shù)值軸的最大值和/或最小值進行動態(tài)調(diào)整;展示模塊,用于采用動態(tài)調(diào)整得到的時間軸范圍和數(shù)值軸范圍,對相應的過程參數(shù)隨時間的變化情況進行展示。本發(fā)明的坐標軸取值范圍可以隨著該過程參數(shù)樣本點數(shù)值的變化而自動調(diào)整,以使其能夠在圖像區(qū)有一個最佳的顯示比例,便于技術(shù)人員觀察分析。
文檔編號G05B19/048GK101441458SQ20081024009
公開日2009年5月27日 申請日期2008年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月18日
發(fā)明者凱 謝 申請人:北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司