專利名稱：一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及工藝數(shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中硅片優(yōu)化
調(diào)度的方法和裝置。
背景技術(shù)：
最好的質(zhì)量、最低的制造成本、快速響應(yīng)以及靈活性的特點(diǎn)，這些因素是左右半導(dǎo) 體制造企業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵因素。 生產(chǎn)計(jì)劃與調(diào)度系統(tǒng)能夠在一定程度上幫助半導(dǎo)體制造企業(yè)實(shí)現(xiàn)這些因素。調(diào)度 系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制造企業(yè)生產(chǎn)管理優(yōu)化的重要環(huán)節(jié)，是實(shí)現(xiàn)企業(yè)信息化不可或缺的重要 組成部分。本發(fā)明即是針對(duì)半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中加工工藝過程中的如果能夠最優(yōu)化的實(shí)現(xiàn)硅 片調(diào)度而提出的。 例如，在硅片(wafer)的生產(chǎn)過程中， 一個(gè)重要的環(huán)節(jié)就是硅片的刻蝕或者沉積 工藝。具體而言，等離子體處理設(shè)備是用來負(fù)責(zé)硅片的加工流程的設(shè)備，可能涉及以下不同 的工藝過程模塊(工藝模塊和輔助模塊) 1、 Cassette (裝載模塊)裝載硅片的容器，包含多個(gè)槽，每個(gè)槽都可以容納一片 硅片。
2、機(jī)械手負(fù)責(zé)在各個(gè)輔助模塊和/或工藝模塊之間傳送硅片的裝置，機(jī)械手可 以是雙臂機(jī)械手，可以同時(shí)容納2片硅片，但某一時(shí)刻只能處理一個(gè)硅片的傳輸。
3、 Aligner (定位器)是對(duì)硅片的位置進(jìn)行校準(zhǔn)的設(shè)備。 4、 Process Module (工藝模塊，PM)用于對(duì)硅片進(jìn)行工藝處理的裝置例如，刻蝕或 者沉積等。 在硅片進(jìn)入工藝模塊進(jìn)行加工處理之前，首先通過機(jī)械手將其從Cassette (裝載 模塊)中取出，根據(jù)工藝的需要放到工藝模塊(Process Module)中進(jìn)行加工( 一個(gè)硅片 可能訪問不同工藝模塊以完成所有的工藝)，當(dāng)所有的工藝處理完畢，機(jī)械手將其取出放到 Cassette中，則一個(gè)硅片的加工處理完畢。 在實(shí)際的加工過程中，由于每個(gè)硅片的工藝流程不同、模塊的處理能力不同，因此 為了獲得更高的投入回報(bào)，加工設(shè)備在進(jìn)行硅片的加工過程中，就需要考慮如何分配這些 工藝模塊給硅片，從而使加工設(shè)備的產(chǎn)能達(dá)到最大。 所以，在硅片加工設(shè)備的控制軟件系統(tǒng)中，一般都會(huì)有一個(gè)控制硅片傳輸路徑的 Scheduler (調(diào)度程序)模塊，這個(gè)子系統(tǒng)計(jì)算與任務(wù)(Job)相關(guān)的硅片優(yōu)化傳輸序列，各個(gè) 工藝模塊根據(jù)計(jì)算出的傳輸序列來傳輸硅片，完成工藝。所述Job是指按照指定的規(guī)則，將 源Cassette中的硅片傳入ProcessModule中并對(duì)其進(jìn)行工藝操作，完成后再將其送到目的 Cassette的流程。 但是，在通常情況下，Scheduler計(jì)算出來的傳輸序列的最小單位是設(shè)備內(nèi)部模 塊，即只給出傳輸?shù)脑茨K和目的模塊(如A- > B);在提高加工設(shè)備的產(chǎn)能方面仍然存在 令人不滿意的地方。
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總之，目前需要本領(lǐng)域技術(shù)人員迫切解決的一個(gè)技術(shù)問題就是如何使硅片傳輸 路徑進(jìn)一步優(yōu)化，進(jìn)一步提高產(chǎn)能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法，能夠提高工藝處理 過程中子任務(wù)執(zhí)行的并發(fā)度，進(jìn)一步優(yōu)化硅片傳輸路徑，提高產(chǎn)能。 為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實(shí)施例公開了一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法，可以包 括 步驟a、獲取宏觀傳輸序列； 步驟b、將所述宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 步驟c、在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)； 步驟d、依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，選取其中優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子
任務(wù)加以執(zhí)行； 步驟e、重復(fù)上述步驟c和步驟d，完成對(duì)硅片的傳輸和處理。 優(yōu)選的，在步驟b中可以將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；或者，
也可以將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變換為多個(gè)子任務(wù)序列。
優(yōu)選的，所述多個(gè)子任務(wù)序列可以包括以下5個(gè)子任務(wù)序列工藝處理子任務(wù)序 列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港口端放硅片子任務(wù)序 列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模 塊。 優(yōu)選的，所述預(yù)置規(guī)則可以包括 A、耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高； B、當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)， 優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從 港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)； 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目 時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù) >向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)。
依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，還公開了一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法，包括
步驟a、獲取宏觀傳輸序列； 步驟b、將所述宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 步驟C、在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)； 步驟d、依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，依據(jù)各個(gè)子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順序
創(chuàng)建子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列； 步驟e、依據(jù)子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，執(zhí)行各子任務(wù)。 優(yōu)選的，在步驟b中，可以將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；或 者，也可以將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變換為多個(gè)子任務(wù)序列。
優(yōu)選的，所述多個(gè)子任務(wù)序列可以包括以下5個(gè)子任務(wù)序列工藝處理子任務(wù)序 列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港口端放硅片子任務(wù)序列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模 塊。 優(yōu)選的，所述預(yù)置規(guī)則可以包括 A、耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高； B、當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)， 優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從 港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)； 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目 時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù) >向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)。
依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，還公開了一種硅片優(yōu)化調(diào)度的裝置，包括 變換單元，用于將所獲取的宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 子任務(wù)選取執(zhí)行單元，用于在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一
個(gè)子任務(wù)；并依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，選取其中優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)
加以執(zhí)行；通過子任務(wù)選取執(zhí)行單元的多次運(yùn)行，完成對(duì)硅片的傳輸和處理。 優(yōu)選的，所述變換單元可以用于將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序
列；或者，所述變換單元也可以用于將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變
換為多個(gè)子任務(wù)序列。 優(yōu)選的，所述多個(gè)子任務(wù)序列可以包括以下5個(gè)子任務(wù)序列工藝處理子任務(wù)序 列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港口端放硅片子任務(wù)序 列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模 塊。
優(yōu)選的，所述預(yù)置規(guī)則可以包括 A、耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高； B、當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)， 優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從 港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)； 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目 時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù) >向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)。
依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，還公開了一種硅片優(yōu)化調(diào)度的裝置，包括 變換單元，用于將所獲取的宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 調(diào)度隊(duì)列單元，用于在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任
務(wù)；以及依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，依據(jù)各個(gè)子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順序創(chuàng)建子任
務(wù)調(diào)度隊(duì)列； 執(zhí)行單元，用于依據(jù)子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，執(zhí)行各子任務(wù)。 優(yōu)選的，所述變換單元可以用于將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序 列；或者，所述變換單元也可以用于將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變 換為多個(gè)子任務(wù)序列。
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優(yōu)選的，所述多個(gè)子任務(wù)序列可以包括以下5個(gè)子任務(wù)序列工藝處理子任務(wù)序 列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港口端放硅片子任務(wù)序 列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模 塊。 優(yōu)選的，所述預(yù)置規(guī)則可以包括 A、耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高； B、當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)， 優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從 港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)； 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目 時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù) >向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn) 本發(fā)明將現(xiàn)有的Scheduler計(jì)算出來的傳輸序列(在本文中稱為宏觀傳輸序列) 作了進(jìn)一步的細(xì)分(在本文中稱為微觀傳輸序列)，例如，將現(xiàn)有的A模塊-> B模塊的執(zhí) 行步驟進(jìn)一步細(xì)分為更多的子任務(wù)。 在現(xiàn)有技術(shù)中，由于沒有關(guān)注更為細(xì)化的各個(gè)子任務(wù)， 一般的對(duì)于A模塊_ > B模 塊中的各個(gè)子任務(wù)都是直接采取順序選擇的策略執(zhí)行的。而在實(shí)際執(zhí)行過程中，由于各個(gè) 子任務(wù)執(zhí)行所需的時(shí)間存在很大的差別，有些任務(wù)所耗費(fèi)的時(shí)間要遠(yuǎn)大于其它的任務(wù)，采 用順序選擇策略，可能會(huì)出現(xiàn)耗費(fèi)時(shí)間長(zhǎng)的子任務(wù)得不到優(yōu)先處理的情況，使得子任務(wù)執(zhí) 行的并發(fā)度不高，進(jìn)而降低了 Job的執(zhí)行效率。 本發(fā)明在Scheduler模塊計(jì)算得到的宏觀傳輸序列基礎(chǔ)上，對(duì)更底層的微觀傳輸 序列執(zhí)行策略進(jìn)行了優(yōu)化，提高子任務(wù)執(zhí)行的并發(fā)度，提高了 Job的執(zhí)行效率，進(jìn)而提高了 機(jī)臺(tái)的產(chǎn)率。


圖1是本發(fā)明的一種硅片優(yōu)化調(diào)度方法的實(shí)施例1的步驟流程圖
圖2是本發(fā)明的一種硅片優(yōu)化調(diào)度方法的實(shí)施例2的步驟流程圖
圖3是本發(fā)明的一種硅片優(yōu)化調(diào)度的裝置實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)框圖；
圖4是本發(fā)明的一種硅片優(yōu)化調(diào)度的裝置實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)框圖。
具體實(shí)施例方式
為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實(shí) 施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。 本發(fā)明實(shí)施例的核心構(gòu)思之一在于在Scheduler模塊計(jì)算得到的宏觀傳輸序列 基礎(chǔ)上，對(duì)更底層的微觀傳輸序列執(zhí)行策略進(jìn)行了優(yōu)化，提高了 Job的執(zhí)行效率，進(jìn)而提高 了機(jī)臺(tái)的產(chǎn)率。 本發(fā)明的調(diào)度過程可以指向一個(gè)工藝設(shè)備或者多個(gè)工藝設(shè)備組合，為了簡(jiǎn)單起 見，本發(fā)明的實(shí)施例均以包括有工藝模塊和輔助模塊的刻蝕機(jī)設(shè)備為例進(jìn)行說明，但需要指出的是，本發(fā)明的應(yīng)用并不局限于刻蝕機(jī)設(shè)備，同樣可以適用于包括有工藝模塊和輔助 模塊的其他半導(dǎo)體工藝加工設(shè)備，例如，薄膜沉積設(shè)備等。 參考圖l，示出了本發(fā)明的一種硅片優(yōu)化調(diào)度方法的實(shí)施例l，具體可以包括以下 步驟 步驟101、獲取宏觀傳輸序列(宏觀傳輸序列)； 步驟102、將所述宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列(或者稱為多種子任務(wù)序 列)； 由于具體到設(shè)備中，一個(gè)最簡(jiǎn)單的傳送動(dòng)作也是由傳送相關(guān)模塊共同完成的，所 以可以對(duì)宏觀傳輸序列中的執(zhí)行動(dòng)作做進(jìn)一步的細(xì)分。例如，一個(gè)傳送動(dòng)作可以分為取片 和放片兩個(gè)子任務(wù)。 在本發(fā)明中，對(duì)于Scheduler模塊計(jì)算出來的宏觀傳輸序列，根據(jù)各個(gè)模塊的執(zhí) 行動(dòng)作，進(jìn)一步細(xì)分為更小的子任務(wù)序列，最終執(zhí)行的是這一系列的子任務(wù)序列。在本發(fā)明 中，把Scheduler模塊計(jì)算出來的傳輸序列稱之為宏觀傳輸序列，而把在其基礎(chǔ)上進(jìn)一步 細(xì)分的子任務(wù)序列稱之為微觀傳輸序列。對(duì)于宏觀的傳輸序列，已經(jīng)有了很多的計(jì)算方法， 因此對(duì)于如何得到宏觀傳輸序列，本發(fā)明在此不再贅述。 在步驟102中，如果系統(tǒng)計(jì)算能力允許的話，可以將Scheduler模塊計(jì)算得到的整 個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列。 一般情況下，由于整個(gè)宏觀傳輸序列涉及的數(shù)據(jù) 量可能比較龐大，所以可以僅僅將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變換為 多個(gè)子任務(wù)序列即可。 當(dāng)然，需要說明的是，在復(fù)雜的實(shí)際應(yīng)用中，由于系統(tǒng)中的硅片數(shù)量較多，傳輸序 列的分支較多，而系統(tǒng)計(jì)算能力有限，所以在Scheduler模塊計(jì)算過程中，所得到的宏觀傳 輸序列也可以為僅包括一定步數(shù)范圍內(nèi)的工藝步驟序列集合；而不包括各硅片加工完畢所
需的所有工藝步驟。 在本發(fā)明的一個(gè)針對(duì)刻蝕設(shè)備的實(shí)施例中，步驟102中變換得到的多個(gè)子任務(wù)序
列可以包括以下5個(gè)子任務(wù)序列 工藝處理子任務(wù)序列；Sub (Process) 從港口端取硅片子任務(wù)序列；SUb(PiCkft。mP。rt) 從工藝端取硅片子任務(wù)序列；Sub (Pickf，pM) 向港口端放硅片子任務(wù)序列；Sub (Placet。 P。rt) 向工藝端放硅片子任務(wù)序列；Sub (Placet。 PM) 其中，所述港口端(Port端)可以是刻蝕設(shè)備的裝載模塊Cassette或者定位器 Aligner等。
在發(fā)明人對(duì)刻蝕設(shè)備的仔細(xì)分析研究中，發(fā)現(xiàn)其具有兩個(gè)特性 1、刻蝕機(jī)的控制系統(tǒng)是分布式系統(tǒng)，刻蝕機(jī)控制系統(tǒng)的各個(gè)工藝模塊、輔助模塊 之間的耦合性??； 2、在刻蝕機(jī)上進(jìn)行工藝的耗時(shí)往往要遠(yuǎn)大于單獨(dú)的傳送耗時(shí)。 基于上面的原因，可以想到，如果能夠在硅片進(jìn)行耗時(shí)較長(zhǎng)的工藝時(shí)執(zhí)行更多的 子任務(wù)，那么微觀傳輸序列的執(zhí)行效率就會(huì)更高。因此，關(guān)注的重點(diǎn)可以集中在硅片傳入 PM前后的傳輸序列。所以優(yōu)選的，把硅片傳入PM前可能停留的最后一個(gè)模塊如Cassette、Aligner等統(tǒng)稱為Port端，在后面的描述中也以此為例進(jìn)行說明。 步驟103、在任務(wù)(Job)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)； 例如，從上述5個(gè)子任務(wù)序列中分別選取排名第一位的子任務(wù)，即從每個(gè)子任務(wù)序列僅僅 選取一個(gè)子任務(wù)，共選取5個(gè)子任務(wù)。 步驟104、依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，選取其中優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè) 子任務(wù)加以執(zhí)行。 —般的，保證能夠順暢執(zhí)行，就是判斷如果執(zhí)行該子任務(wù)，是否會(huì)發(fā)生后續(xù)步驟的
死鎖或互鎖，如果不會(huì)引起死鎖或互鎖，就認(rèn)為滿足了能夠順暢執(zhí)行的前提。 步驟105、重復(fù)上述步驟103和步驟104，依次執(zhí)行各個(gè)子任務(wù)，完成對(duì)硅片的傳輸
和處理。 步驟104完成了一個(gè)子任務(wù)，然后返回至步驟103，再次選取子任務(wù)和優(yōu)先級(jí)排 序，獲得此時(shí)優(yōu)先級(jí)最高的子任務(wù)進(jìn)行執(zhí)行；循環(huán)多次，即可完成對(duì)硅片的傳輸和處理。
下面對(duì)用于子任務(wù)優(yōu)先級(jí)排序的預(yù)置規(guī)則進(jìn)行詳細(xì)說明。 因?yàn)楸景l(fā)明的核心構(gòu)思之一在于提高子任務(wù)的并發(fā)度，從而提高整個(gè)Job任務(wù)的 執(zhí)行效率的，因此，在子任務(wù)排序過程中，第一個(gè)原則就是耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí) 最高(例如，工藝處理子任務(wù)Sub (Process))，這樣可以保證在該子任務(wù)的執(zhí)行期間，可以 并發(fā)執(zhí)行其他子任務(wù)，從而提高效率。 而當(dāng)需要排序中的子任務(wù)中沒有Sub (Process)，或者執(zhí)行Sub (Process)會(huì)引起 死鎖或互鎖時(shí)，則優(yōu)先級(jí)排序規(guī)則如下 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)(slot)數(shù)目大于工藝端(PM端)可用的工 藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序?yàn)楣に囂幚碜尤蝿?wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅 片子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)。由于可用的slot數(shù)目大于 可用PM的數(shù)目，此時(shí)的PM為處理瓶頸，所以和PM相關(guān)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)就會(huì)高一些。其 中，刻蝕設(shè)備中的一個(gè)模塊可能包括多個(gè)slot,例如，Cassette可以包括2個(gè)slot,即可以 容納兩個(gè)硅片。 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)(slot)數(shù)目小于等于工藝端(PM端)可用 的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序?yàn)楣に囂幚碜尤蝿?wù)>從港口端取硅片子任務(wù)> 向港口端 放硅片子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)。由于可用的slot數(shù)目 小于等于可用PM的數(shù)目，此時(shí)的slot為處理瓶頸，所以和slot相關(guān)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)就
會(huì)高一些。 需要說明的是，當(dāng)可用的slot數(shù)目等于PM時(shí)，也可以采用前述的第一個(gè)優(yōu)先級(jí)順序。 下面給出一個(gè)簡(jiǎn)單的例子，對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明。 假設(shè)刻蝕設(shè)備包括一個(gè)Cassette (LA)， 一個(gè)兩臂機(jī)械手和兩個(gè)PM ;Cassette中包 括10個(gè)slot，PM僅僅包括一個(gè)刻蝕腔室。Cassette里已經(jīng)有10個(gè)wafer (分別為wafer 1， wafer2等)，wafer的route recipe (路由信息或者工藝順序信息)定義wafer的訪問順序 是(Cassette- > PM- > Cassette)。假設(shè)PM的處理時(shí)間(執(zhí)行Process recipe的時(shí)間) 為10秒，其它時(shí)間如TM(傳輸模塊，transport module)取片、放片等時(shí)間均為2秒。
假設(shè)截取Scheduler模塊計(jì)算得到的一段宏觀傳輸序列如下，此時(shí)機(jī)械手A手上有一片未處理的wafer」，B手上有一片已處理的wafeiv兩個(gè)PM中都沒有wafer。 st印l. waferj.place(TM. A- > PM1)， st印2. waf erjProcess (PM1)， st印3. wafe，lace (TM. B_ > LA. 4)， st印4. waferkpick(LA. 6_ > TM. A)， st印5. waferkplace (TM. A- > PM2)， st印6. waf erkProcess (PM2)。 將上述子任務(wù)隊(duì)列順序執(zhí)行一遍所需的時(shí)間為 2禾少+10禾少+2禾少+2禾少+2禾少+10禾少=28禾少 應(yīng)用本發(fā)明后，前述的宏觀傳輸序列轉(zhuǎn)換為下面的5個(gè)子任務(wù)序列 表l
Sub (Process)Sub (PickfromPort)Sub (PickfromPM)Sub (PlacetoPort)Sub (PlacetoPM)
step2 (Process)st印4 (PickfromPort)st印3 (PlacetoPort)st印l (PlacetoPM)
step6 (Process)skp5(PlacetopM) 下面對(duì)本發(fā)明的執(zhí)行過程進(jìn)行詳細(xì)說明 因?yàn)樵贑assette (LA)中有10個(gè)slot,而PM只有兩個(gè)，港口端中可用的單個(gè)硅片 的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目，因此我們采用的優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處 理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)> 向港口端放硅片子任務(wù) 1、從上述的5個(gè)子任務(wù)序列中取出4個(gè)子任務(wù)，如下
step2 (Process)st印4 (Pickfr。mPort)st印3 (PlacetoPort)st印l (PlacetoPM) 此時(shí)可用的slot數(shù)目為0， PM為l，即slot小于PM，則依據(jù)前述規(guī)則得出優(yōu)先級(jí) 最高的一個(gè)子任務(wù)應(yīng)該是st印2 (Process)，但是由于還沒有硅片被放入PM，所以該子任務(wù) 不能執(zhí)行，會(huì)引起死鎖；所以選擇優(yōu)先級(jí)次之的st印l(Placet。
)，執(zhí)行該子任務(wù)。該子任 務(wù)執(zhí)行后，其所在子任務(wù)序列Sub (Pickf， P。rt)的后續(xù)子任務(wù)st印5 (PlaCet。 PM)在該序列中 的位置就自動(dòng)前移。 2、從上述的5個(gè)子任務(wù)序列中取出未執(zhí)行的4個(gè)子任務(wù)，如下
step2 (Process)st印4 (PickfromPort)st印3 (PlacetoPort)step5 (PlacetoPM) 依據(jù)前述規(guī)則得出優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)是st印2 (Process)，執(zhí)行該子任務(wù)。 3、從上述的5個(gè)子任務(wù)序列中取出未執(zhí)行的子任務(wù)step6(Process)st印4 (Pickfr。mPort)step3 (PlacetoPort)st印5 (PlacetoPM) 依據(jù)前述規(guī)則得出優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)是st印4(Pickf，p。J，執(zhí)行該子任 務(wù)。 4、從上述的5個(gè)子任務(wù)序列中取出未執(zhí)行的子任務(wù)，如下
step6 (Process)st印3 (PlacetoPort)step5 (PlacetoPM) 依據(jù)前述規(guī)則得出優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)是st印5 (Placet。 P
5、從上述的5個(gè)子任務(wù)序列中取出未執(zhí)行的子任務(wù)，如下
》，執(zhí)行該子任務(wù)。
step6(Process)st印3 (PlacetoPort) 依據(jù)前述規(guī)則得出優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)是st印6 (Process)，執(zhí)行該子任務(wù)。
6、從上述的5個(gè)子任務(wù)序列中取出未執(zhí)行的子任務(wù)，如下
st印3 (PlacetoPort) 依據(jù)前述規(guī)則得出優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)是st印3(Placet。 p。J，執(zhí)行該子任 務(wù)。 總結(jié)上述步驟，可以得出，本發(fā)明所執(zhí)行的子任務(wù)序列為 st印l. waferj.place(TM. A- > PM1)， st印2. waf erjProcess (PM 1)， st印4. waf erkpick (LA. 6- > TM. A)， st印5. waf erkplace (TM. A- > PM2)， st印6. waf erkProcess (PM2)， st印3. waf erplace (TM. B_ > LA. 4)。 將上述子任務(wù)隊(duì)列執(zhí)行一遍所需的時(shí)間為 2秒+10秒+(10秒-2秒-2秒)+2秒=20秒， 其中在st印2進(jìn)行的過程中st印4和st印5開始并完成，在st印2進(jìn)行到第4秒 的時(shí)候st印6開始執(zhí)行。 簡(jiǎn)單比較，可以看出，比現(xiàn)有技術(shù)直接執(zhí)行宏觀傳輸序列可以節(jié)省8秒的時(shí)間，因 為本發(fā)明可以更好的利用在執(zhí)行耗時(shí)較長(zhǎng)的子任務(wù)時(shí)，并發(fā)執(zhí)行其他子任務(wù)。上面的數(shù)值 僅僅用于示例，當(dāng)引入更加復(fù)雜的宏觀傳輸序列時(shí)，本發(fā)明可以節(jié)省更多的時(shí)間。
需要說明的是，在有的情況下，一個(gè)刻蝕機(jī)可能包含3個(gè)Cassette,—個(gè)大氣機(jī) 械手，2個(gè)Load Block,—個(gè)真空機(jī)械手，多個(gè)Process Module和一個(gè)Aligner。其中，大 氣機(jī)械手用于負(fù)責(zé)在大氣狀態(tài)下傳送硅片；真空機(jī)械手用于在真空狀態(tài)下傳送硅片；Load Block(裝載器)是一個(gè)可以密封的容器，在大氣和真空機(jī)件之間傳輸硅片起到緩沖作用； Load Block(裝載器)也可以容納多片硅片。
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—個(gè)硅片進(jìn)行刻蝕前，刻蝕機(jī)首先通過大氣機(jī)械手將其從Cassette中取出，放到 密封的模塊Load Block(負(fù)責(zé)硅片在大氣和真空的腔室傳輸時(shí)進(jìn)行抽氣、充氣的作用)中， 真空機(jī)械手從Load Block中取出硅片，并根據(jù)工藝的需要放到工藝模塊(Process Module) 中進(jìn)行加工( 一個(gè)硅片可能訪問不同工藝模塊以完成所有的工藝)，當(dāng)所有的工藝處理完 畢，真空機(jī)械手將其取出放到Load Block中，Load Block隨后進(jìn)行充氣，并由大氣機(jī)械手 放到Cassette中， 一個(gè)硅片的加工處理完畢。 針對(duì)上述刻蝕設(shè)備，如果應(yīng)用本發(fā)明的話，可以在前述的5個(gè)子任務(wù)序列中增加 一個(gè)子任務(wù)序列LB子任務(wù)序列，用于執(zhí)行抽氣、充氣過程。當(dāng)然，在其前后還需要包括子 任務(wù)Sub (Placet。 Port)和Sub (Pickfrom Port)。硅片在Load Block中進(jìn)行抽氣、充氣所需的時(shí) 間也有可能較長(zhǎng)，因此，其優(yōu)先級(jí)排序的過程可以參見子任務(wù)Sub (Process)。由于增加LB 子任務(wù)序列僅僅增加了本發(fā)明的實(shí)施復(fù)雜度，并沒有改變本發(fā)明的核心構(gòu)思，因此，本專利 對(duì)于增加了 LB子任務(wù)序列的復(fù)雜應(yīng)用就不再詳細(xì)說明了。 參照?qǐng)D2、示出了本發(fā)明一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法實(shí)施例2，具體可以包括以下步 驟 步驟201、獲取宏觀傳輸序列； 步驟202、將所述宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 步驟203、在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)； 步驟204、依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，依據(jù)各個(gè)子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順
序創(chuàng)建子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列； 步驟205、依據(jù)子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，執(zhí)行各個(gè)子任務(wù)。 本實(shí)施例和圖1所示的實(shí)施例基本相似，所以相通之處就不再贅述，實(shí)施例2需要 強(qiáng)調(diào)說明的是，其不像實(shí)施例1那樣，每執(zhí)行一個(gè)子任務(wù)后進(jìn)行一次排序判斷，然后再執(zhí)行 下一子任務(wù)；而是直接從各個(gè)子任務(wù)序列中選取前N個(gè)子任務(wù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)排序，依據(jù)各個(gè)子 任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順序創(chuàng)建子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，然后直接參照子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列進(jìn)行各個(gè)子任務(wù)的 執(zhí)行，完成對(duì)硅片的傳輸和處理。在本次子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列快執(zhí)行完畢時(shí)，再次補(bǔ)充生成后續(xù) 的子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列即可。 實(shí)施例2的好處在于可以統(tǒng)一進(jìn)行判斷、排序過程，集中進(jìn)行計(jì)算，以提高效率。 當(dāng)然，在判斷優(yōu)先級(jí)時(shí)，仍然可以是選出一個(gè)子任務(wù)后判斷一次優(yōu)先級(jí)，因?yàn)楦鱾€(gè)子任務(wù)的 相對(duì)優(yōu)先級(jí)會(huì)隨著子任務(wù)的選出而變化。 參照?qǐng)D3、示出了本發(fā)明一種硅片優(yōu)化調(diào)度的裝置實(shí)施例l，可以包括 變換單元301，用于將所獲取的宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 子任務(wù)選取執(zhí)行單元302，用于在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少
一個(gè)子任務(wù)；并依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，選取其中優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任
務(wù)加以執(zhí)行；通過子任務(wù)選取執(zhí)行單元的多次運(yùn)行，完成對(duì)硅片的傳輸和處理。 其中，所述變換單元301可以直接將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序
列；所述變換單元301也可以依據(jù)實(shí)際情況，將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序
列集合變換為多個(gè)子任務(wù)序列。 基于通常的應(yīng)用，變換單元301所得到的多個(gè)子任務(wù)序列可以包括以下5種子 任務(wù)序列工藝處理子任務(wù)序列Sub(Process)，從港口端取硅片子任務(wù)序列Sub(PiCkft。mP。rt)，從工藝端取硅片子任務(wù)序列Sub (PickfMPM)，向港口端放硅片子任務(wù)序列Sub (Placet。 P。rt)，向工藝端放硅片子任務(wù)序列Sub(PlaCet。 PM)。其中，對(duì)港口端的定義請(qǐng)參照前述相關(guān) 說明。 優(yōu)選的，子任務(wù)選取執(zhí)行單元302進(jìn)行優(yōu)先級(jí)判斷的預(yù)置規(guī)則可以包括以下兩 條 A、耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高； B、當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)， 優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從 港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)； 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目 時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù) >向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)。 當(dāng)然，子任務(wù)選取執(zhí)行單元302進(jìn)行優(yōu)先級(jí)判斷，還有一條原則，就是保證順暢執(zhí) 行的前提，即該子任務(wù)的執(zhí)行不會(huì)引起死鎖或者互鎖。 參照?qǐng)D4、示出了本發(fā)明一種硅片優(yōu)化調(diào)度裝置的實(shí)施例2，可以包括 變換單元401，用于將所獲取的宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 調(diào)度隊(duì)列單元402，用于在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子
任務(wù)；以及依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，依據(jù)各個(gè)子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順序創(chuàng)建子
任務(wù)調(diào)度隊(duì)列； 執(zhí)行單元403，用于依據(jù)子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，執(zhí)行各個(gè)子任務(wù)，完成對(duì)硅片的傳輸和 處理。 本實(shí)施例和圖3所示的實(shí)施例基本相似，所以相通之處就不再贅述，本實(shí)施例需 要強(qiáng)調(diào)說明的是，其是直接從各個(gè)子任務(wù)序列中選取前N個(gè)子任務(wù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)排序，依據(jù)各 個(gè)子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順序創(chuàng)建子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，然后直接參照子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列進(jìn)行各個(gè)子任 務(wù)的執(zhí)行，完成對(duì)硅片的傳輸和處理的。本實(shí)施例的好處在于可以統(tǒng)一進(jìn)行判斷、排序過 程，集中進(jìn)行計(jì)算，以提高效率。 圖3和圖4所示的裝置實(shí)施例可以直接設(shè)置在現(xiàn)有的Scheduler模塊中，也可以 獨(dú)立存在。 還需要說明的是，本發(fā)明前述實(shí)施例中所舉出的優(yōu)先級(jí)順序規(guī)則僅僅屬于示例， 本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以依據(jù)實(shí)際情況，采用其他可行的優(yōu)先級(jí)順序規(guī)則，能夠提高子任務(wù) 的并發(fā)度即可。 本說明書中的各個(gè)實(shí)施例均采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與 其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似的部分互相參見即可。另外，由于圖3和 圖4所示的裝置實(shí)施例可以對(duì)應(yīng)適用于前述的方法實(shí)施例中，所以描述較為簡(jiǎn)略，未詳盡 之處可以參見本說明書前面相應(yīng)部分的描述。 以上對(duì)本發(fā)明所提供的一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法和裝置進(jìn)行了詳細(xì)介紹，本文中
應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說明只是用于幫助 理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，
在具體實(shí)施方式
及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
權(quán)利要求
一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法，其特征在于，包括步驟a、獲取宏觀傳輸序列；步驟b、將所述宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；步驟c、在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)；步驟d、依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，選取其中優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)加以執(zhí)行；步驟e、重復(fù)上述步驟c和步驟d，完成對(duì)硅片的傳輸和處理。
2. 如權(quán)利要求l所述的方法，其特征在于， 將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；或者，將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變換為多個(gè)子任務(wù)序列。
3. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述多個(gè)子任務(wù)序列包括以下5個(gè)子任務(wù)序列工藝處理子任務(wù)序列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港 口端放硅片子任務(wù)序列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模塊。
4. 如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述預(yù)置規(guī)則包括A、 耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高；B、 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從港口 端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)；當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu) 先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)>向工 藝端放硅片子任務(wù) > 從工藝端取硅片子任務(wù)。
5. —種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法，其特征在于，包括 步驟a、獲取宏觀傳輸序列；步驟b、將所述宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；步驟c、在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)；步驟d、依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，依據(jù)各個(gè)子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順序創(chuàng)建子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列；步驟e、依據(jù)子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，執(zhí)行各子任務(wù)。
6. 如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于， 將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；或者，將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變換為多個(gè)子任務(wù)序列。
7. 如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述多個(gè)子任務(wù)序列包括以下5個(gè)子任務(wù)序列工藝處理子任務(wù)序列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港 口端放硅片子任務(wù)序列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模塊。
8. 如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述預(yù)置規(guī)則包括A、 耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高；B、 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從港口 端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)；當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu) 先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)>向工 藝端放硅片子任務(wù) > 從工藝端取硅片子任務(wù)。
9. 一種硅片優(yōu)化調(diào)度的裝置，其特征在于，包括 變換單元，用于將所獲取的宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；子任務(wù)選取執(zhí)行單元，用于在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子 任務(wù)；并依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，選取其中優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)加以 執(zhí)行；通過子任務(wù)選取執(zhí)行單元的多次運(yùn)行，完成對(duì)硅片的傳輸和處理。
10. 如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述變換單元用于將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 或者，所述變換單元用于將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變換為多 個(gè)子任務(wù)序列。
11. 如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述多個(gè)子任務(wù)序列包括以下5個(gè)子任務(wù) 序列工藝處理子任務(wù)序列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港 口端放硅片子任務(wù)序列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模塊。
12. 如權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述預(yù)置規(guī)則包括A、 耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高；B、 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu)先 級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從港口 端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)；當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu) 先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)>向工 藝端放硅片子任務(wù) > 從工藝端取硅片子任務(wù)。
13. —種硅片優(yōu)化調(diào)度的裝置，其特征在于，包括 變換單元，用于將所獲取的宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；調(diào)度隊(duì)列單元，用于在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)；以 及依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，依據(jù)各個(gè)子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)順序創(chuàng)建子任務(wù)調(diào) 度隊(duì)列；執(zhí)行單元，用于依據(jù)子任務(wù)調(diào)度隊(duì)列，執(zhí)行各子任務(wù)。
14. 如權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，所述變換單元用于將所述整個(gè)宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列； 或者，所述變換單元用于將所述宏觀傳輸序列中一定步數(shù)范圍內(nèi)的序列集合變換為多 個(gè)子任務(wù)序列。
15. 如權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，所述多個(gè)子任務(wù)序列包括以下5個(gè)子任務(wù) 序列工藝處理子任務(wù)序列，從港口端取硅片子任務(wù)序列，從工藝端取硅片子任務(wù)序列，向港 口端放硅片子任務(wù)序列，向工藝端放硅片子任務(wù)序列；其中，所述港口端包括加工設(shè)備的裝載模塊和定位器模塊。
16. 如權(quán)利要求15所述的裝置，其特征在于，所述預(yù)置規(guī)則包括A、 耗時(shí)時(shí)間最長(zhǎng)的子任務(wù)的優(yōu)先級(jí)最高；B、 當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目大于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu)先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>向工藝端放硅片子任務(wù)>從工藝端取硅片子任務(wù)>從港口 端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)；當(dāng)港口端中可用的單個(gè)硅片的存放點(diǎn)數(shù)目小于等于工藝端可用的工藝腔室數(shù)目時(shí)，優(yōu) 先級(jí)順序如下工藝處理子任務(wù)>從港口端取硅片子任務(wù)>向港口端放硅片子任務(wù)>向工 藝端放硅片子任務(wù) > 從工藝端取硅片子任務(wù)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種硅片優(yōu)化調(diào)度的方法，包括步驟a、獲取宏觀傳輸序列；步驟b、將所述宏觀傳輸序列變換為多個(gè)子任務(wù)序列；步驟c、在任務(wù)運(yùn)行時(shí)，分別從各個(gè)子任務(wù)序列中選取至少一個(gè)子任務(wù)；步驟d、依據(jù)預(yù)置規(guī)則，在能夠順暢執(zhí)行的前提下，選取其中優(yōu)先級(jí)最高的一個(gè)子任務(wù)加以執(zhí)行；步驟e、重復(fù)上述步驟c和步驟d，完成對(duì)硅片的傳輸和處理。本發(fā)明在宏觀傳輸序列基礎(chǔ)上，對(duì)更底層的微觀傳輸序列執(zhí)行策略進(jìn)行了優(yōu)化，提高子任務(wù)執(zhí)行的并發(fā)度，提高了Job的執(zhí)行效率，進(jìn)而提高了機(jī)臺(tái)的產(chǎn)率。
文檔編號(hào)G05B19/418GK101751025SQ20081023983
公開日2010年6月23日 申請(qǐng)日期2008年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月12日
發(fā)明者易璨 申請(qǐng)人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司