模工作位13。本實(shí)施例中具有五個(gè)分立掩模安裝位12，五個(gè)分立掩模安裝位12可以放置不同的分立掩模，這五個(gè)掩模安裝位12和連續(xù)掩模工作位13以轉(zhuǎn)臺(tái)I的中心為圓心均勻的分布在轉(zhuǎn)臺(tái)I的周緣。放置在掩模安裝位12內(nèi)的分立掩模則能夠隨著掩模轉(zhuǎn)臺(tái)I的轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)至基片臺(tái)2上放置的基片的上方。而掩模轉(zhuǎn)臺(tái)I上的連續(xù)掩模工作位13在基片臺(tái)2的升降過(guò)程中能夠供其通過(guò)。第二驅(qū)動(dòng)裝置21還能夠驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)2上升和下降，從而當(dāng)基片臺(tái)2位于最高位時(shí)基片臺(tái)2能夠?qū)⒎至⒀谀Ｉ陨皂斊穑允沟没_(tái)2上的基片能夠緊密貼在掩模上，當(dāng)基片臺(tái)2自最高位下降后則使得基片和分立掩模分開(kāi)。
[0023]為了保證掩模板的移動(dòng)穩(wěn)定性，機(jī)架4上設(shè)置有用于限位所述連續(xù)掩模板3移動(dòng)方向的限位裝置32，本實(shí)施例中的限位裝置32為分布在連續(xù)掩模板3兩側(cè)的限位凸條，限位凸條沿連續(xù)掩模板3的移動(dòng)方向設(shè)置。
[0024]根據(jù)需要該連續(xù)掩模板3為能夠直接使用的連續(xù)掩模或者為能夠更換放置不同掩模的掩模臺(tái)，當(dāng)掩模板3為掩模臺(tái)時(shí)，則可以方便更換掩模臺(tái)上的掩模以滿足基片上高通量材料的沉積要求。
[0025]本實(shí)施例中的掩模更換裝置能夠?qū)崿F(xiàn)高通量樣品的制備，能夠?qū)崿F(xiàn)的制備方法包括高通量樣品的分立掩模制備方法、高通量樣品的連續(xù)掩模制備方法和交叉制備方法。
[0026]其中高通量樣品的分立掩模制備方法包括以下步驟:
[0027]步驟Al、將基片放置在基片臺(tái)2上，將所有需要的掩模安裝在掩模轉(zhuǎn)臺(tái)I的掩模安裝位12上；
[0028]步驟A2、根據(jù)材料樣品的分布要求，轉(zhuǎn)臺(tái)I在第一驅(qū)動(dòng)裝置11的驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而將當(dāng)次需要的掩模轉(zhuǎn)動(dòng)至基片的上方；
[0029]步驟A3、在需要時(shí)，第二驅(qū)動(dòng)裝置21驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)2轉(zhuǎn)動(dòng)所需角度，以將基片相對(duì)于分立掩模的相對(duì)水平角度調(diào)整至需要的相對(duì)位置，基片臺(tái)2的轉(zhuǎn)動(dòng)角度根據(jù)材料分布要求進(jìn)行設(shè)定，如可以根據(jù)要求順時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°、逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)120°或其它任意角度；
[0030]然后第二驅(qū)動(dòng)裝置21驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)2向上移動(dòng)，使得基片緊密貼覆在分立掩模上；
[0031]步驟A4、按照要求的材料沉積厚度，控制材料沉積的時(shí)間，以在基片上完成當(dāng)次材料的沉積；
[0032]步驟A5、第二驅(qū)動(dòng)裝置21驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)2向下移動(dòng)，使得基片離開(kāi)分立掩模；
[0033]步驟A6、返回步驟A2，直至按照工藝參數(shù)要求完成所有材料在基片上的沉積。
[0034]本實(shí)施例中具有五個(gè)掩模安裝位12，則可以在每個(gè)掩模安裝位12中均放置不同的分立掩模，五個(gè)掩模按照材料的沉積順序可以按照轉(zhuǎn)臺(tái)I的順時(shí)針旋轉(zhuǎn)方向或者逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)方向順序放置，循環(huán)進(jìn)行步驟A2?步驟A6五次則完成一個(gè)小循環(huán)，此時(shí)轉(zhuǎn)臺(tái)I上的連續(xù)掩模工作位13又轉(zhuǎn)至基片臺(tái)2的上方，回到初始位置。根據(jù)需要進(jìn)行多次小循環(huán)過(guò)程直至完成步驟A60
[0035]高通量樣品的連續(xù)掩模制備方法包括以下步驟:
[0036]步驟B1、將基片放置在基片臺(tái)2上，保證轉(zhuǎn)臺(tái)I上的連續(xù)掩模工作位13對(duì)應(yīng)于基片臺(tái)2 ；
[0037]步驟B2、第二驅(qū)動(dòng)裝置21驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)2上下移動(dòng)以將基片與連續(xù)掩模板3間的垂直間隙調(diào)整到要求的距離，同時(shí)根據(jù)需要第二驅(qū)動(dòng)裝置21驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)2轉(zhuǎn)動(dòng)所述角度，以將基片相對(duì)于連續(xù)掩模板3的相對(duì)水平角度調(diào)整至需要的相對(duì)位置；
[0038]步驟B3、根據(jù)當(dāng)次材料沉積厚度的要求，第三驅(qū)動(dòng)裝置31驅(qū)動(dòng)所述連續(xù)掩模板3向基片方向按照所需速度線性移動(dòng)；
[0039]步驟B4、在連續(xù)掩模板3經(jīng)過(guò)基片上方時(shí)，在基片上進(jìn)行當(dāng)次材料沉積；
[0040]步驟B5、當(dāng)次材料沉積完成后，第三驅(qū)動(dòng)裝置31驅(qū)動(dòng)所述連續(xù)掩模板3退回到初始位置；
[0041]步驟B6、返回步驟B2，直至按照工藝參數(shù)要求完成所有材料在基片上的沉積。
[0042]交叉制備方法包括以下步驟:
[0043]步驟Cl、將基片放置在基片臺(tái)2上，將需要安裝在掩模轉(zhuǎn)臺(tái)I的掩模安裝位12上的掩模安裝在對(duì)應(yīng)的掩模安裝位12上；
[0044]步驟C2、根據(jù)材料樣品的分布要求，交替使用所述分立掩模制備方法中的步驟A2?步驟A5和所述連續(xù)掩模制備方法中的步驟B2?步驟B5，在使用所述連續(xù)掩模制備方法中的步驟B2?步驟B5前，使用第一驅(qū)動(dòng)裝置11驅(qū)動(dòng)掩模轉(zhuǎn)臺(tái)I轉(zhuǎn)動(dòng)，以使得掩模轉(zhuǎn)臺(tái)I上的連續(xù)掩模工作位13對(duì)應(yīng)于基片臺(tái)2;
[0045]步驟C3:在基片上沉積所需材料，直至按照工藝參數(shù)要求完成所有材料在基片上的沉積。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩模更換裝置，其特征在于:包括有能夠進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的掩模轉(zhuǎn)臺(tái)(I)、用于驅(qū)動(dòng)所述掩模轉(zhuǎn)臺(tái)(I)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置(11)、用于放置基片的基片臺(tái)(2)，用于驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)(2)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)和升降的第二驅(qū)動(dòng)裝置(21)，所述掩模轉(zhuǎn)臺(tái)(I)與所述第一驅(qū)動(dòng)裝置(11)傳動(dòng)連接，所述基片臺(tái)(2)和所述第二驅(qū)動(dòng)裝置(21)傳動(dòng)連接； 所述轉(zhuǎn)臺(tái)(I)上具有多個(gè)用于放置分立掩模的掩模安裝位(12)，放置在所述掩模安裝位(12)內(nèi)的分立掩模能夠隨著掩模轉(zhuǎn)臺(tái)(I)對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)至所述基片臺(tái)(2)的上方。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模更換裝置，其特征在于:所述掩模轉(zhuǎn)臺(tái)(I)上具有能夠供所述基片臺(tái)(2)通過(guò)的連續(xù)掩模工作位(13)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模更換裝置，其特征在于:還包括有連續(xù)掩模板(3)和用于驅(qū)動(dòng)連續(xù)掩模板(3)線性移動(dòng)的第三驅(qū)動(dòng)裝置(31)，所述連續(xù)掩模板(3)傳動(dòng)連接在所述第三驅(qū)動(dòng)裝置(31)上，所述連續(xù)掩模板(3)能夠在第三驅(qū)動(dòng)裝置(31)的驅(qū)動(dòng)下對(duì)應(yīng)于基片臺(tái)(2)的位置在基片臺(tái)(2)的上方線性移動(dòng)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模更換裝置，其特征在于:還包括有一機(jī)架(4)，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置(11)、第二驅(qū)動(dòng)裝置(21)、第三驅(qū)動(dòng)裝置(31)均設(shè)置在所述機(jī)架(4)內(nèi)，所述掩模轉(zhuǎn)臺(tái)(I)傳動(dòng)連接在第一驅(qū)動(dòng)裝置(11)的上端，所述基片臺(tái)(2)傳動(dòng)連接在第二驅(qū)動(dòng)裝置(21)的上端，所述基片臺(tái)(2)對(duì)應(yīng)于所述連續(xù)掩模工作位(13)的位置設(shè)置，所述連續(xù)掩模板(3)位于了所述掩模轉(zhuǎn)臺(tái)(I)的上方并在第三驅(qū)動(dòng)裝置(31)的驅(qū)動(dòng)下在連續(xù)掩模工作位(13)上方線性水平移動(dòng)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩模更換裝置，其特征在于:所述機(jī)架(4)上設(shè)置有用于限位所述連續(xù)掩模板(3)移動(dòng)方向的限位裝置(32)。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩模更換裝置，其特征在于:所述連續(xù)掩模板(3)通過(guò)傳動(dòng)裝置(33)連接在所述第三驅(qū)動(dòng)裝置(31)上。7.根據(jù)權(quán)利要求3?6任一權(quán)利要求所述的掩模更換裝置，其特征在于:所述連續(xù)掩模板(3)為連續(xù)掩?；蛘邽槟軌蚋鼡Q放置不同掩模的掩模臺(tái)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種掩模更換裝置，包括有能夠進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的掩模轉(zhuǎn)臺(tái)、驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置、放置基片的基片臺(tái)，驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)和升降的第二驅(qū)動(dòng)裝置，掩模轉(zhuǎn)臺(tái)與第一驅(qū)動(dòng)裝置傳動(dòng)連接，基片臺(tái)和第二驅(qū)動(dòng)裝置傳動(dòng)連接。轉(zhuǎn)臺(tái)上具有多個(gè)放置分立掩模的掩模安裝位，掩模安裝位內(nèi)的分立掩模能夠隨著轉(zhuǎn)臺(tái)的對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)至基片臺(tái)的上方。該掩模更換裝置能夠方便的更換基片上的分立掩模并能夠精確調(diào)整分立掩模和基片相對(duì)位置，還能夠通過(guò)多種高通量制備方法實(shí)現(xiàn)各種樣品成分分布要求的高通量樣品制備。
【IPC分類】G01N1/28
【公開(kāi)號(hào)】CN205352794
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521075288
【發(fā)明人】閆宗楷, 徐子明, 向勇, 胡潔赫, 余應(yīng)明
【申請(qǐng)人】寧波英飛邁材料科技有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月29日
【申請(qǐng)日】2015年12月21日