測(cè)量切割寶石的參數(shù)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及但是不受限于用于測(cè)量切割寶石的參數(shù)的方法和設(shè)備。方法和設(shè)備可 以測(cè)量切割寶石的參數(shù)以用于對(duì)切割寶石分類。
【背景技術(shù)】
[0002] 為保持鉆石產(chǎn)品被合適地公開的消費(fèi)者信任度，重要的是，鉆石工業(yè)具有實(shí)際方 法以用于測(cè)試切割寶石以確定其是否是自然鉆石、人造鉆石或模擬品。類似地，重要的是， 鉆石工業(yè)具有方法以確定鉆石是否已經(jīng)被人工地處理，例如以改變其顏色。
[0003] 存在一種設(shè)備，所述設(shè)備能夠從模擬品中區(qū)分鉆石、寶石，并且用于測(cè)量鉆石參數(shù) 以表示鉆石是否可能為自然的或人造的，或是否鉆石已經(jīng)被處理例如以改善其顏色。通常 地，該設(shè)備進(jìn)行測(cè)量，然后根據(jù)測(cè)量結(jié)果將鉆石放置在相應(yīng)的箱中。然而，該設(shè)備經(jīng)常是不 可靠的并且其它測(cè)試和/或測(cè)量經(jīng)常需要證實(shí)寶石是否是鉆石并且，如果是，則寶石是否是 自然的或人造的和/或是否已經(jīng)被處理。
[0004] 另外地，在鉆石工業(yè)中，寶石的其它物理參數(shù)的確定，諸如顏色、尺寸和切割度，是 重要的過程。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 在第一方面，根據(jù)本發(fā)明，提供一種設(shè)備，用于在切割寶石定位在單個(gè)測(cè)量位置處 時(shí)測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)，所述設(shè)備包括:多個(gè)光源，所述多個(gè)光源中的每個(gè)都被構(gòu)造成 用于發(fā)射處于多個(gè)發(fā)射波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍中不同的發(fā)射波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的光，使得發(fā)出的光 至少照射測(cè)量位置的部分;和傳感器組件，所述傳感器組件被構(gòu)造成用于感測(cè)處于多個(gè)感 測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的光，以用于測(cè)量多個(gè)參數(shù)，由于對(duì)定位在測(cè)量位置處的切割寶石的照 射，來(lái)自測(cè)量位置的被感測(cè)的光在傳感器組件處被接收。
[0006] 可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括支撐組件，以用于將切割寶石保持在測(cè)量位置處以便于 光透射到切割寶石的切面內(nèi)和切面外。
[0007] 可選地，多個(gè)光源包括寬帶光源，所述寬帶光源被構(gòu)造成發(fā)射用于測(cè)量切割寶石 的吸收的光。
[0008] 可選地，寬帶光源被構(gòu)造成發(fā)射具有在從約300nm到約520nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的 光。
[0009] 可選地，多個(gè)光源包括一個(gè)或多個(gè)激光源。
[0010] 可選地，一個(gè)或多個(gè)激光源包括被構(gòu)造成發(fā)射具有下述波長(zhǎng)的光的激光源，所述 波長(zhǎng)適合于從切割寶石激勵(lì)具有可檢測(cè)波長(zhǎng)的拉曼發(fā)射光譜。
[0011 ]可選地，激光源被構(gòu)造成用于發(fā)射約660nm的光。
[0012] 可選地，一個(gè)或多個(gè)激光源包括被構(gòu)造成用于發(fā)射具有適合于在切割寶石中激勵(lì) 光致發(fā)光的波長(zhǎng)的光的至少一個(gè)激光源。
[0013] 可選地，被構(gòu)造成發(fā)射具有用于在切割寶石中激勵(lì)光致發(fā)光的波長(zhǎng)的光的至少一 個(gè)激光源包括被構(gòu)造成發(fā)射大致具有約325nm、約375nm、約458nm、約514nm、約785nm和約 830nm中的一個(gè)波長(zhǎng)的光的至少一個(gè)激光源。
[0014] 可選地，多個(gè)光源包括UV光源。
[0015] 可選地，傳感器組件包括光譜儀，所述光譜儀包括波長(zhǎng)限制裝置，所述波長(zhǎng)限制裝 置被構(gòu)造成用于防止檢測(cè)到在某個(gè)波長(zhǎng)范圍中的光。
[0016] 可選地，光譜儀包括電荷耦合裝置，并且其中波長(zhǎng)限制裝置包括在光進(jìn)入光譜儀 的路徑上定位在電荷耦合裝置之前的掩模。
[0017] 可選地，光譜儀進(jìn)一步包括在光進(jìn)入光譜儀中的路徑上定位在掩模之前的衍射光 柵。
[0018] 可選地，波長(zhǎng)范圍從350nm到400nm。
[0019] 可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括被構(gòu)造成用于發(fā)射用于測(cè)量切割寶石的吸收的光的寬帶 光源，其中UV光源被構(gòu)造成發(fā)射用于測(cè)量切割寶石的熒光的光，并且其中光譜儀被構(gòu)造成 用于測(cè)量在從400nm到508nm的波長(zhǎng)范圍中的熒光并且測(cè)量在從300nm到350nm和從400nm到 508nm的兩個(gè)范圍中的吸收。
[0020] 可選地，設(shè)備被構(gòu)造成用于同時(shí)地測(cè)量切割寶石的熒光和吸收。
[0021] 可選地，傳感器組件包括多個(gè)傳感器，每個(gè)傳感器都被構(gòu)造成用于感測(cè)處于多個(gè) 感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍中不同的一個(gè)或多個(gè)感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的光。
[0022] 可選地，多個(gè)傳感器包括光譜儀，所述光譜儀被構(gòu)造成用于感測(cè)處于用于測(cè)量切 割寶石的吸收的波長(zhǎng)范圍的光。
[0023] 可選地，光譜儀被構(gòu)造成用于感測(cè)處于從約300nm到約520nm的波長(zhǎng)范圍的光。 [0024]可選地，多個(gè)傳感器包括光譜儀，所述光譜儀被構(gòu)造成用于感測(cè)處于用于測(cè)量切 割寶石的拉曼發(fā)射光譜的波長(zhǎng)范圍的光。
[0025] 可選地，光譜儀被構(gòu)造成用于感測(cè)處于從700nm到800nm的波長(zhǎng)范圍的光。
[0026] 可選地，多個(gè)傳感器包括至少一個(gè)光譜儀，所述至少一個(gè)光譜儀被構(gòu)造成用于感 測(cè)具有用于測(cè)量切割寶石的光致發(fā)光的波長(zhǎng)的光。
[0027] 可選地，至少一個(gè)光譜儀被構(gòu)造成用于感測(cè)具有在從約380nm到約520nm的范圍和 從約460nm到約8 50nm的范圍中的至少一個(gè)范圍中的波長(zhǎng)的光。
[0028] 可選地，多個(gè)傳感器包括圖像捕獲裝置，所述圖像捕獲裝置被構(gòu)造成用于感測(cè)具 有用于測(cè)量切割寶石的熒光或磷光的波長(zhǎng)的光。
[0029] 可選地，圖像捕獲裝置是照相機(jī)，所述照相機(jī)被構(gòu)造成用于感測(cè)處于從約400nm到 約700nm的波長(zhǎng)范圍的光。
[0030] 可選地，圖像捕獲裝置被構(gòu)造成用于捕獲用于確定寶石的切割度和/或?qū)毷某?寸的圖像。
[0031] 可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括用于將從光源組件發(fā)出的光引導(dǎo)到測(cè)量位置的裝置。
[0032] 可選地，用于將光從光源組件引導(dǎo)到測(cè)量位置的裝置包括光纖。
[0033] 可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括用于將光從測(cè)量位置引導(dǎo)到傳感器組件的裝置。
[0034] 可選地，用于將光從測(cè)量位置引導(dǎo)到傳感器組件的裝置包括光纖。
[0035] 可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括多分叉光纖組件，所述多分叉光纖組件被構(gòu)造成用于將 光從光源組件引導(dǎo)到測(cè)量位置并且將光從測(cè)量位置引導(dǎo)到傳感器組件。
[0036] 可選地，多分叉光纖組件包括多個(gè)光纖帶，所述多個(gè)光纖帶中的每個(gè)都被構(gòu)造成 用于將光從所述多個(gè)光源中的一個(gè)引導(dǎo)到所述多個(gè)傳感器中的一個(gè)。
[0037] 可選地，用于將從光源組件發(fā)出的光引導(dǎo)到測(cè)量位置的裝置包括具有輸出端和多 個(gè)輸入端的光學(xué)復(fù)用器，每個(gè)輸入端都連接到多個(gè)光源中的不同的一個(gè)，所述輸出端用于 將光引導(dǎo)到測(cè)量位置，所述光學(xué)復(fù)用器被構(gòu)造成用于選擇在多個(gè)輸入端中的一個(gè)處接收的 光并且允許選擇的光從輸出端發(fā)射。
[0038] 可選地，用于將光從測(cè)量位置引導(dǎo)到傳感器組件的裝置包括具有輸入端和多個(gè)輸 出端的光學(xué)多路分解器，所述輸入端被構(gòu)造成用于從測(cè)量位置接收光，并且所述多個(gè)輸出 端每個(gè)都連接到多個(gè)傳感器中的一個(gè)，光學(xué)多路分解器被構(gòu)造成用于選擇多個(gè)輸出端中的 一個(gè)并且允許在輸入端處接收的光從選擇的輸出端發(fā)出。
[0039] 可選地，光學(xué)復(fù)用器和光學(xué)多路分解器形成光學(xué)復(fù)用器/多路分解器。
[0040] 可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括基于測(cè)量參數(shù)確定切割寶石是否是自然的或人造的裝 置。
[0041 ]可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括在鉆石和模擬品之間進(jìn)行區(qū)分的裝置。
[0042]可選地，設(shè)備進(jìn)一步包括基于測(cè)量參數(shù)以確定切割寶石是否已經(jīng)被處理以改善其 顏色的裝置。
[0043]可選地，設(shè)備被構(gòu)造成用于同時(shí)地測(cè)量切割寶石的吸收和切割寶石的拉曼發(fā)射光 譜。
[0044]可選地，設(shè)備被構(gòu)造成用于同時(shí)地測(cè)量切割寶石的光致發(fā)光和切割寶石的拉曼發(fā) 射光譜。
[0045]可選地，設(shè)備被構(gòu)造成用于同時(shí)地測(cè)量切割寶石的吸收和切割寶石的光致發(fā)光。 [0046]可選地，切割寶石是鉆石。
[0047]在第二方面，根據(jù)本發(fā)明，提供一種分類設(shè)備，所述分類設(shè)備包括任一上述設(shè)備并 且被構(gòu)造成用于根據(jù)測(cè)量參數(shù)以分類切割寶石。
[0048]可選地，對(duì)切割寶石分類包括辨別寶石是否已經(jīng)被處理以改善其顏色。
[0049] 可選地，對(duì)切割寶石分類包括確定寶石的顏色、尺寸和切割度中的一個(gè)或多個(gè)。
[0050] 可選地，對(duì)切割寶石分類包括在鉆石和模擬品之間進(jìn)行區(qū)分。
[0051] 在第三方面，根據(jù)本發(fā)明，提供一種方法，用于在切割寶石定位在單個(gè)測(cè)量位置處 時(shí)測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)，所述方法包括:操作第一光源以利用具有第一發(fā)射波長(zhǎng)或波 長(zhǎng)范圍的光照射切割寶石的至少部分;感測(cè)由于以第一發(fā)射波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍照射切割寶石 而從測(cè)量位置接收的處于第一感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的光;基于處于第一感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范 圍的感測(cè)到的光，測(cè)量切割寶石的第一參數(shù);操作第二光源以利用具有與第一發(fā)射波長(zhǎng)或 波長(zhǎng)范圍不同的第二發(fā)射波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的光，來(lái)照射切割寶石的至少部分;感測(cè)由于以 第二發(fā)射波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍照射切割寶石而從測(cè)量位置接收的處于第二感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范 圍的光；以及基于處于第二感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的感測(cè)到的光，測(cè)量切割寶石的第二參數(shù)。
[0052] 可選地，第一感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍不同于第二感測(cè)波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍。
[0053] 可選地，第一光源和第二光源中的每個(gè)都被操作成使得其同時(shí)發(fā)光。
[0054] 在第四方面，根據(jù)本發(fā)明，提供一種用于對(duì)切割寶石分類的方法，所述方法包括上 述任一方法并且進(jìn)一步包括根據(jù)測(cè)量參數(shù)以對(duì)切割寶石分類。
[0055] 可選地，對(duì)切割寶石分類包括辨別寶石是否已經(jīng)被處理以改善其顏色。
[0056] 可選地，對(duì)切割寶石分類包括辨別寶石是否是鉆石或模擬品。
[0057] 在第五方面，根據(jù)本發(fā)明，提供被構(gòu)造成用于執(zhí)行上述任一方法的一種非暫時(shí)性 計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。
【附圖說(shuō)明】
[0058] 參照附圖在本文中描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，其中：
[0059] 圖la示出表示用于測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)的設(shè)備的示意圖；
[0060]圖lb示出表示用于測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)的設(shè)備的示意圖；
[0061 ]圖2a是示出測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)的方法的流程圖；
[0062] 圖2b是示出測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)的方法的流程圖；
[0063] 圖3示出表示用于測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)的設(shè)備的示意圖；
[0064] 圖4示出表示用于測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)的設(shè)備的示意圖；
[0065] 圖5示出表示用于測(cè)量切割寶石的多個(gè)參數(shù)的設(shè)備的示意圖；
[0066 ]圖6示出典型的長(zhǎng)通濾波器的透射光譜;并且
[0067] 圖7和8示出表示包括掩模的光譜儀的示