況下，放射線圖像變換面板10可以跟隨口腔內(nèi)的形狀，能夠使攝影時(shí)的設(shè)定容易。其結(jié)果是，可以取得口腔內(nèi)的詳細(xì)的圖像。
[0061]另外，由于放射線圖像變換面板10的厚度比組合現(xiàn)存的GOS = Tb或者CsI = Tl等的瞬時(shí)發(fā)光性焚光體與 CCD (Charge Coupled Device)或者 FPD (Flat Panel Detector)而形成的放射線檢測(cè)器要薄，因此能夠減輕使放射線圖像變換面板10放入口腔內(nèi)彎曲并與攝影目標(biāo)部位接觸時(shí)的患者的負(fù)擔(dān)。
[0062][第2實(shí)施方式]
[0063]圖4是表示第2實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖4所示，第2實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10在第2保護(hù)膜4覆蓋的區(qū)域中，與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同。
[0064]在第2實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，第I保護(hù)膜3設(shè)置在支撐體I的表面la、背面Ib和側(cè)面Ic上以及輝盡性熒光體層2的上面2a和側(cè)面2c上，包圍著支撐體I和輝盡性熒光體層2的整體。第2保護(hù)膜4以覆蓋支撐體I的表面Ia和側(cè)面Ic的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib之上。換言之，第2保護(hù)膜4在支撐體I的背面Ib上具有開(kāi)口 4d。
[0065]通過(guò)以上的第2實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10，也能夠起到與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10同樣的效果。
[0066][第3實(shí)施方式]
[0067]圖5是表示第3實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖5所示，第3實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10在第I保護(hù)膜3覆蓋的區(qū)域中，與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同。
[0068]在第3實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，第I保護(hù)膜3以覆蓋支撐體I的表面Ia和側(cè)面Ic以及輝盡性熒光體層2的上面2a和側(cè)面2c的方式設(shè)置在輝盡性熒光體層2上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib之上。換言之，第I保護(hù)膜3在支撐體I的背面Ib上具有開(kāi)口 3d。另外，第2保護(hù)膜4以覆蓋支撐體I的表面la、背面Ib和側(cè)面Ic的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上，包圍著支撐體1、輝盡性熒光體層2和第I保護(hù)膜3的整體。另外，第2保護(hù)膜4經(jīng)由開(kāi)口 3d與支撐體I的背面Ib形成接觸。
[0069]通過(guò)以上的第3實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10，也能夠起到與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10同樣的效果。
[0070][第4實(shí)施方式]
[0071]圖6是表示第4實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖6所示，第4實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10在第I保護(hù)膜3和第2保護(hù)膜4覆蓋的區(qū)域中，與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同。
[0072]在第4實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，第I保護(hù)膜3以覆蓋支撐體I的表面Ia和側(cè)面Ic以及輝盡性熒光體層2的上面2a和側(cè)面2c的方式設(shè)置在輝盡性熒光體層2上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib之上。第2保護(hù)膜4以覆蓋支撐體I的表面Ia和側(cè)面Ic的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib之上。換言之，第I保護(hù)膜3在支撐體I的背面Ib上具有開(kāi)口 3d，第2保護(hù)膜4在支撐體I的背面Ib上具有開(kāi)口 4d。因此，支撐體I的背面Ib不被保護(hù)膜覆蓋而露出。
[0073]通過(guò)以上的第4實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10，也能夠起到與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10同樣的效果。
[0074][第5實(shí)施方式]
[0075]圖7是表示第5實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖7所示，第5實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同點(diǎn)在于在第2保護(hù)膜4具有覆蓋區(qū)域和第3保護(hù)膜6。
[0076]在第5實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，第I保護(hù)膜3設(shè)置在支撐體I的表面la、背面Ib和側(cè)面Ic上以及輝盡性熒光體層2的上面2a和側(cè)面2c上，包圍著支撐體I和輝盡性熒光體層2的整體。第2保護(hù)膜4以覆蓋支撐體I的表面Ia的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib和側(cè)面Ic之上。另外，第3保護(hù)膜6以覆蓋支撐體I的背面Ib的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上。第3保護(hù)膜6與第2保護(hù)膜4同樣地是耐擦傷性的保護(hù)膜，是用于在放射線R的照射后的讀取過(guò)程中保護(hù)表面的保護(hù)膜。第3保護(hù)膜6的厚度例如為2 μπι以上且例如為20 μπι以下。另外，第3保護(hù)膜6的鉛筆硬度與第2保護(hù)膜4的鉛筆硬度同等，在第I保護(hù)膜3的鉛筆硬度以下。第3保護(hù)膜6可以由與第2保護(hù)膜4相同的材料構(gòu)成。
[0077]通過(guò)以上的第5實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10，也能夠起到與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10同樣的效果。
[0078][第6實(shí)施方式]
[0079]圖8是表示第6實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖8所示，第6實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10在第I保護(hù)膜3覆蓋的區(qū)域中，與上述的第5實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同。
[0080]在第6實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，第I保護(hù)膜3設(shè)置在支撐體I的表面Ia上以及輝盡性熒光體層2的上面2a和側(cè)面2c上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib和側(cè)面Ic之上。第2保護(hù)膜4以覆蓋支撐體I的表面Ia的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib和側(cè)面Ic之上。另外，第3保護(hù)膜6以覆蓋支撐體I的背面Ib的方式設(shè)置在背面Ib上。因此，支撐體I的側(cè)面Ic不被保護(hù)膜覆蓋而露出。
[0081]通過(guò)以上的第6實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10，也能夠起到與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10相同的效果。
[0082][第7實(shí)施方式]
[0083]圖9是表示第7實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖9所示，第7實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10在第2保護(hù)膜4覆蓋的區(qū)域中，與上述的第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同。
[0084]在第7實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，第I保護(hù)膜3設(shè)置在支撐體I的表面la、背面Ib和側(cè)面Ic上以及輝盡性熒光體層2的上面2a和側(cè)面2c上，包圍著支撐體I和輝盡性熒光體層2的整體。第2保護(hù)膜4以覆蓋支撐體I的表面Ia的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib和側(cè)面Ic之上。
[0085]通過(guò)以上的第7實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10，也能夠起到與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10同樣的效果。
[0086][第8實(shí)施方式]
[0087]圖10是表示第8實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖10所示，第8實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10在第I保護(hù)膜3覆蓋的區(qū)域中，與上述第5實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同。
[0088]在第8實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，第I保護(hù)膜3以覆蓋支撐體I的表面Ia和側(cè)面Ic以及輝盡性熒光體層2的上面2a和側(cè)面2c的方式設(shè)置在輝盡性熒光體層2上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib之上。第2保護(hù)膜4以覆蓋支撐體I的表面Ia的方式設(shè)置在第I保護(hù)膜3上，不設(shè)置在支撐體I的背面Ib和側(cè)面Ic之上。另外，第3保護(hù)膜6以覆蓋支撐體I的背面Ib的方式設(shè)置在背面Ib上。換言之，第I保護(hù)膜3在支撐體I的背面Ib上具有開(kāi)口 3d，第3保護(hù)膜6經(jīng)由開(kāi)口 3d而與支撐體I的背面Ib形成接觸。
[0089]通過(guò)以上的第8實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10，也能夠起到與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10同樣的效果。
[0090][第9實(shí)施方式]
[0091]圖11是表示第9實(shí)施方式所涉及的放射線圖像變換面板的結(jié)構(gòu)的概略側(cè)截面圖。如圖11所示，第9實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10在輝盡性熒光體層2的結(jié)構(gòu)中，與上述第I實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10不同。即，在第9實(shí)施方式的放射線圖像變換面板10中，輝盡性熒光體層2具有多個(gè)柱狀結(jié)晶25林立的構(gòu)造，具有由多個(gè)柱狀結(jié)晶25構(gòu)成的反射層21和柱狀層22。輝盡性熒光體層2的厚度例如為50 ym?100ym左右，反射層21為占其中約1%?10%左右的厚度，具有約5μπι?約50μπι左右的厚度。
[0092]由于柱狀結(jié)晶25是使輝盡性熒光體(CsBr = Eu)的結(jié)晶生長(zhǎng)而得到的，因此支撐體I側(cè)的根基部分成為螺旋構(gòu)造部23，比螺旋構(gòu)造部23更靠上側(cè)(上面2a側(cè))的部分成為柱狀部24。在各柱狀結(jié)晶25中，螺旋構(gòu)造部23與柱狀部24由輝盡性熒光體的結(jié)晶連續(xù)層疊而一體形成。另外，柱狀結(jié)晶25形成為柱狀部24的外徑比螺旋構(gòu)造部23的外徑小，越往前端側(cè)(與支撐體I相反側(cè))越粗的錐形狀。再者，由于最前端部為尖頭狀，因此除了尖頭部分的柱狀部24形成為錐形狀。
[0093]螺旋構(gòu)造部23是由輝盡性熒光體的結(jié)晶從支撐體I的表面Ia螺旋狀層疊而構(gòu)成的螺旋構(gòu)造部，繞著中心軸X的達(dá)一周的部分(螺旋環(huán))在與表面Ia正交的方向上具有大致規(guī)則地形成的螺旋構(gòu)造。在圖12中，由23a、23b所示的范圍構(gòu)成一個(gè)又一個(gè)的螺旋環(huán)。與表面Ia正交的方向上的螺旋環(huán)的尺寸(以下也稱為“螺旋間距”)約0.5 μπι?約15 μπι左右，大致同樣的螺旋環(huán)重疊多個(gè)(例如5個(gè)?約15個(gè)左右)構(gòu)成螺旋構(gòu)造部23。