專利名稱：放射線圖像變換面板、閃爍器面板以及放射線圖像傳感器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于醫(yī)療用、工業(yè)用的X射線攝影等的放射線圖像變 換面板、閃爍器面板以及放射線圖像傳感器。
背景技術(shù)：
醫(yī)療、工業(yè)用的x射線攝影中，歷來采用x射線感光膠片，然而，從便利性和攝影結(jié)果的保存性的方面考慮，采用放射線檢測器的放射 線成像系統(tǒng)正在普及。這種放射線成像系統(tǒng)中，利用放射線檢測器取 得放射線的二維圖像數(shù)據(jù)作為電信號(hào)，利用處理裝置處理此信號(hào)，并顯示在監(jiān)視器上。作為具有代表性的放射線檢測器，存在著一種具有如下構(gòu)造的放射線檢測器。其構(gòu)造為形成放射線圖像變換面板(以下，根據(jù)情況， 稱為"閃爍器面板")，并將其與攝像元件貼合，其中，該放射線圖像 變換面板在鋁、玻璃、熔融石英等基板上形成有將放射線變換為可見 光的閃爍器。在該放射線檢測器中，由閃爍器將從基板側(cè)入射的放射 線變換為光，由攝像元件進(jìn)行檢測。在曰本特開2006-113007號(hào)公報(bào)和特開平4-118599號(hào)公報(bào)中記載 的放射線圖像變換面板中，在表面上形成有防腐蝕鋁(alumite)層的 鋁基板上形成光激發(fā)熒光體(stimulable phosphor)。以下，根據(jù)情況， 將在基板上形成有光激發(fā)熒光體的放射線圖像變換面板稱為"成像板 (imaging plate)，，。然而，上述放射線圖像變換面板中，由于防腐蝕鋁層對(duì)于從閃爍 器或光激發(fā)熒光體射出的光的反射率低，因而能夠充分地提高放射線 圖像變換面板的亮度。另外，在將例如閃爍器或光激發(fā)熒光體蒸鍍于 鋁基板上時(shí)所產(chǎn)生的熱，將導(dǎo)致在防腐蝕鋁層上形成有裂紋或者是針 孔。結(jié)果，鋁基板與鹵化堿金屬系的閃爍器或光激發(fā)熒光體發(fā)生反應(yīng)， 使鋁基板被腐蝕。另外，雖然防腐蝕鋁層耐腐蝕性強(qiáng)，但有時(shí)也會(huì)與閃爍器反應(yīng)而被腐蝕。該腐蝕對(duì)所得到的圖像產(chǎn)生影響。即使腐蝕處 例如只是微小的點(diǎn)，也將在利用所攝像的圖像進(jìn)行圖像診斷時(shí)降低該 圖像的可靠性。另外，該腐蝕有時(shí)還隨著時(shí)間而變大。而且，由于防 腐蝕鋁層的表面平坦性比鋁基板低，因而閃爍器面板的平坦性也不充 分。放射線圖像變換面板中，雖然對(duì)基板面內(nèi)的均勻的亮度特性、解 析度特性均有要求，但是，基板越大型化，制造就越困難。發(fā)明內(nèi)容鑒于上述情況，本發(fā)明的目的在于，提供一種在具有高平坦性、 具有高亮度的同時(shí)能夠防止鋁基板的腐蝕的放射線圖像變換面板、閃 爍器面板、以及放射線圖像傳感器。為了解決上述課題，本發(fā)明的放射線圖像變換面板具備鋁基板、 在所述鋁基板的表面上形成的防腐蝕鋁層、覆蓋所述防腐蝕鋁層的鉻 層、設(shè)在所述鉻層上并具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜、覆 蓋所述金屬膜并具有放射線透過性以及光透過性的氧化物層、覆蓋所 述氧化物層并具有放射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜、以及設(shè)在所 述保護(hù)膜上并變換放射線圖像的變換部。另外，本發(fā)明的閃爍器面板具備鋁基板、在所述鋁基板的表面 上形成的防腐蝕鋁層、覆蓋所述防腐蝕鋁層的鉻層、設(shè)在所述鉻層上 并具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜、覆蓋所述金屬膜并具有 放射線透過性以及光透過性的氧化物層、覆蓋所述氧化物層并具有放 射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜、以及設(shè)在所述保護(hù)膜上的閃爍器。另外，本發(fā)明的放射線圖像傳感器具備放射線圖像變換面板、以 及攝像元件。所述放射線圖像變換面板具備鋁基板、在所述鋁基板 的表面上形成的防腐蝕鋁層、覆蓋所述防腐蝕鋁層的鉻層、在所述鉻 層上設(shè)置并具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜、覆蓋所述金屬 膜并具有放射線透過性以及光透過性的氧化物層、覆蓋所述氧化物層 并具有放射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜、以及設(shè)在所述保護(hù)膜上 并變換放射線圖像的變換部。所述攝像元件將從所述放射線圖像變換 面板的所述變換部射出的光變換為電信號(hào)。

圖1是模式性地示意第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的部分剖面立體圖。圖2是沿圖i所示的n-n線的剖面圖。 圖3是示意第i實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的防腐蝕鋁層的AES 譜的一個(gè)示例的曲線圖。圖4是示意第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的金屬膜的AES譜的 一個(gè)示例的曲線圖。圖5A 圖5C是模式性地示意第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的制 造方法的一個(gè)示例的工序剖面圖。圖6A 圖6D是模式性地示意第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的制 造方法的一個(gè)示例的工序剖面圖。圖7是包含第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的放射線圖像傳感器 的一個(gè)示例的示意圖。圖8是包含第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的放射線圖像傳感器 的另一示例的示意圖。圖9是模式性地示意第2實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的剖面圖。
具體實(shí)施方式
以下，參照附圖，對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式詳細(xì)地進(jìn)行說明。為 了便于理解說明，對(duì)各圖中相同的構(gòu)成要素盡可能地標(biāo)注相同的參照 符號(hào)，并省略重復(fù)說明。另外，為了有利于說明，各圖的尺寸中有被 夸大的部分，不一定與實(shí)際的尺寸比例一致。 (第1實(shí)施方式)圖1是模式性地示意第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板(放射線圖像變換面板的一個(gè)示例)的部分剖面立體圖。圖2是沿圖i所示的n-n線的剖面圖。如圖1以及圖2所示，閃爍器面板10具備鋁基板12、 在鋁基板12的表面上形成的防腐蝕鋁層14、以及覆蓋防腐蝕鋁層14 的鉻層16 (中間膜)。防腐蝕鋁層14與鉻層16緊密接合。另外，閃爍 器面板10具備設(shè)在鉻層16上并具有放射線透過性以及光反射性的 金屬膜18、覆蓋金屬膜18并具有放射線透過性以及光透過性的氧化物層20、覆蓋氧化物層20并具有放射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜 22、以及設(shè)在保護(hù)膜22上的閃爍器24 (變換放射線圖像的變換部的一 個(gè)示例)。鉻層16、金屬膜18、氧化物層20、保護(hù)膜22、以及閃爍器 24互相緊密接合。本實(shí)施方式中，保護(hù)膜22密封鋁基板12、防腐蝕鋁層14、鉻層 16、金屬膜18、以及氧化物層20的全體。保護(hù)膜22防止因在氧化物 層20中形成的針孔等而導(dǎo)致的金屬膜18的腐蝕。另外，鋁基板12、 防腐蝕鋁層14、鉻層16、金屬膜18、氧化物層20、保護(hù)膜22、以及 閃爍器24的全體被保護(hù)膜26密封。當(dāng)X射線等放射線30從鋁基板12側(cè)入射到閃爍器24時(shí)，可見光 等光32從閃爍器24射出。所以，當(dāng)放射線圖像入射到閃爍器面板10 時(shí)，該放射線圖像在閃爍器24被變換為光圖像。放射線30依次透過 保護(hù)膜26、保護(hù)膜22、鋁基板12、防腐蝕鋁層14、鉻層16、金屬膜 18、氧化物層20、以及保護(hù)膜22，到達(dá)閃爍器24。從閃爍器24射出 的光32在透過保護(hù)膜26向外部放出的同時(shí)，透過保護(hù)膜22，在金屬 膜18以及氧化物層20上被反射，向外部放出。閃爍器面板10用于醫(yī) 療用、工業(yè)用的X射線攝影等。鋁基板12主要是由鋁構(gòu)成的基板，但也可以含有雜質(zhì)等。鋁基板 12的厚度優(yōu)選為0.3 1.0mm。如果鋁基板12的厚度不足0.3mm，那么， 鋁基板12發(fā)生彎曲時(shí)，將導(dǎo)致閃爍器24具有容易剝離的傾向。如果 鋁基板12的厚度超過l.Omm，那么，放射線30的透過率具有下降的 傾向。防腐蝕鋁層14是通過對(duì)鋁進(jìn)行陽極氧化而形成的，由多孔質(zhì)的鋁 氧化物(防腐蝕鋁)構(gòu)成。防腐蝕鋁層14使鋁基板12不易受到損傷。 如果鋁基板12收到損傷，那么，鋁基板12的反射率達(dá)不到所期望的 值，從而得不到鋁基板12的面內(nèi)的均勻的反射率。可以通過例如目視， 檢査鋁基板12有無損傷。防腐蝕鋁層14可以只在鋁基板12的形成有 閃爍器24的一側(cè)的面上形成，也可以在鋁基板12的兩面上形成，也 可以以覆蓋整個(gè)鋁基板12的方式形成。如果在鋁基板12的兩面上形 成防腐蝕鋁層14，那么，由于能夠減少鋁基板12的翹曲或彎曲，因而 能夠防止閃爍器24被不均勻地蒸鍍。另外，當(dāng)形成防腐蝕鋁層14時(shí)，由于能夠消除在壓延形成鋁基板12的工序中附著的條紋狀的筋線，因而即使在鋁基板12上形成反射膜(金屬膜18以及氧化物層20)的情 況下，也能夠在反射膜上得到鋁基板12的面內(nèi)的均勻的反射率。防腐 蝕鋁層14的厚度優(yōu)選為10 5000nm。如果防腐蝕鋁層14的厚度不足 10nm，那么，鋁基板12的防止損傷的效果具有下降的傾向。如果防腐 蝕鋁層14的厚度超過5000nm，那么，尤其在鋁基板12的角落部分， 防腐蝕鋁層14發(fā)生剝離，在防腐蝕鋁層14上產(chǎn)生大的裂紋，防腐蝕 鋁層14的耐濕性具有下降的傾向。在一個(gè)實(shí)施例中，防腐蝕鋁層14 的厚度為1000nm?？梢愿鶕?jù)鋁基板12的大小、厚度而適當(dāng)決定防腐 蝕鋁層14的厚度。圖3是示意第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的防腐蝕鋁層的AES 譜的一個(gè)示例的曲線圖。在該例中，通過用氬離子對(duì)防腐蝕鋁層14進(jìn) 行31分鐘的濺射蝕刻，從而在防腐蝕鋁層14的厚度方向上進(jìn)行元素 分析。在此情況下，檢測出鋁、氧、以及氬。其中，氬是起因于濺射 蝕刻時(shí)的氬離子，因而不是防腐蝕鋁層14中所含有的元素。所以，本 實(shí)施例中，防腐蝕鋁層14含有鋁以及氧。再次參照?qǐng)D1以及圖2。鉻層16主要是由金屬鉻構(gòu)成的層，但是 也可以含有雜質(zhì)等。另外，鉻層16也可以由鉻的化合物構(gòu)成。鉻層16 的厚度優(yōu)選為50 1000nm。在一個(gè)實(shí)施例中，鉻層16的厚度為200nm。 由于鉻層16減少了防腐蝕鋁層14的細(xì)微的凹凸，因而有利于在防腐 蝕鋁層14上形成具有均勻的厚度的金屬膜18。保護(hù)膜22以及保護(hù)膜26是有機(jī)膜或無機(jī)膜，既可以由互不相同 的材料構(gòu)成，也可以由相同的材料構(gòu)成。保護(hù)膜22以及保護(hù)膜26，例 如由聚對(duì)二甲苯(polyparaxylylene)構(gòu)成，也可以由聚一氯對(duì)二甲苯 (polymonochloroparaxylylene )、 聚二氯對(duì)二甲苯 ( polydichloroparaxylylene )、 聚四氯X寸二甲苯 (polytetrachloroparaxylylene)、聚氟對(duì)二甲苯(polyfluoroparaxylylene)、 聚二甲基對(duì)二甲苯(polydimethylparaxylylene)、聚二乙基對(duì)二甲苯 (polydiethylparaxylylene)等二甲苯系的材料構(gòu)成。另外，保護(hù)膜22 以及保護(hù)膜26可以由例如聚尿素(polyurea)、聚酰亞胺(polyimide) 等構(gòu)成，也可以由LiF、 MgF2、 Si02、 A1203、 Ti02、 MgO、或SiN等無機(jī)材料構(gòu)成。而且，保護(hù)膜22以及保護(hù)膜26也可以由有機(jī)膜以及 無機(jī)膜組合形成。在一個(gè)實(shí)施例中，保護(hù)膜22以及保護(hù)膜26的厚度 為10拜。雖然金屬膜18例如由Al構(gòu)成，但是也可以由Ag、 Cr、 Cu、 Ni、 Ti、 Mg、 Rh、 Pt或者Au等構(gòu)成。在這些中，優(yōu)選Al或者Ag。金屬 膜18也可以含有氧等除了金屬元素以外的元素。另外，金屬膜18也 可以由多個(gè)金屬膜構(gòu)成，例如，可以具有Cr膜和設(shè)在Cr膜上的Au膜。 金屬膜18的厚度優(yōu)選為50 200nm。在一個(gè)實(shí)施例中，金屬膜18的厚 度為70nm。另外，根據(jù)AES (俄歇電子光譜分析)，在使用鋁膜作為 金屬膜18的情況下，有時(shí)會(huì)因鋁膜的蒸鍍條件和蒸鍍后的處理而對(duì)不 完全的鋁氧化物進(jìn)行分析。圖4是示意第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的金屬膜的AES譜的 一個(gè)示例的曲線圖。該示例中，通過用氬離子對(duì)金屬膜18進(jìn)行20分 鐘的濺射蝕刻，從而在金屬膜18的厚度方向上進(jìn)行元素分析。在該情 況下，檢測出鋁、氧、以及氬。其中，氬是起因于濺射蝕刻時(shí)的氬離 子，因而不是金屬膜18中所含有的元素。金屬膜18雖然含有氧，但 是從AES譜的形狀可以明確地與防腐蝕鋁層14進(jìn)行區(qū)別。再次參照?qǐng)D1以及圖2。氧化物層20由例如金屬氧化物、Si02、 以及Ti02等構(gòu)成。氧化物層20可以由材料互不相同的多個(gè)氧化物層構(gòu) 成，例如，可以由Si02膜和Ti02膜構(gòu)成。在一個(gè)實(shí)施例中，SiOj莫的 厚度為80nm， TiO2膜的厚度為50nm。 SiOj莫以及1102膜的厚度或者 層疊數(shù)，可以考慮到相對(duì)于從閃爍器24射出的光32的波長的反射率 而被決定。另外，氧化物層20也具有金屬膜18的防止腐蝕功能。從鋁基板12的厚度方向看時(shí)，閃爍器24小于鋁基板12。閃爍器 24，例如由將放射線變換成可見光的熒光體構(gòu)成，由摻雜有Tl或Na 等的Csl的柱狀結(jié)晶等構(gòu)成。閃爍器24具有多個(gè)柱狀結(jié)晶林立的構(gòu)成。 閃爍器24也可以由摻雜有Tl的Nal、摻雜有Tl的KI、摻雜有Eu的 Lil構(gòu)成。另夕卜，也可以使用慘雜有Eu的CsBr的光激發(fā)熒光體代替閃 爍器24。閃爍器24的厚度優(yōu)選為100 100(^m，更為優(yōu)選為450 550iim。 構(gòu)成閃爍器24的柱狀結(jié)晶的平均柱直徑優(yōu)選為3 10|im。如上所述，閃爍器面板10具備鋁基板12、在鋁基板12的表面上形成的防腐蝕鋁層14、覆蓋防腐蝕鋁層14的鉻層16、設(shè)在鉻層16 上并具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜18、覆蓋金屬膜18并具 有放射線透過性以及光透過性的氧化物層20、覆蓋氧化物層20并具有 放射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜22、以及設(shè)在保護(hù)膜22上的閃爍 器24。所以，閃爍器面板10中，由于保護(hù)膜22設(shè)在防腐蝕鋁層14 和閃爍器24之間，因而即使在防腐蝕鋁層14上形成有裂紋或者針孔 等，也能夠避免鋁基板12和閃爍器24的反應(yīng)。所以，能夠防止鋁基 板12的腐蝕。另外，由于從閃爍器24射出的光32被金屬膜18以及 氧化物層20反射，因而能夠得到高亮度。而且，由于鉻層16設(shè)在防 腐蝕鋁層14與金屬膜18之間，因而在提高防腐蝕鋁層14與金屬膜18 的緊密接合性的同時(shí)能夠提高金屬膜18的平坦性。而且，當(dāng)形成防腐 蝕鋁層14時(shí)，由于能夠消除鋁基板12的表面的損傷，因而得到了閃 爍器面板10面內(nèi)的均勻的亮度特性、解析度特性。圖5A 圖5C以及圖6A 圖6D是模式性地示意第1實(shí)施方式涉及 的閃爍器面板的制造方法的一個(gè)示例的工序剖面圖。以下，參照?qǐng)D5A 圖5C以及圖6A 圖6D，對(duì)閃爍器面板10的制造方法進(jìn)行說明。首先，如圖5A所示，準(zhǔn)備鋁基板12。接著，如圖5B所示，通過 陽極氧化而在鋁基板12的表面上形成防腐蝕鋁層14。例如，在稀硫酸 等電解液中用陽極電解鋁基板12并使其氧化。由此，形成了防腐蝕鋁 層14，該防腐蝕鋁層14由在中心形成有細(xì)微孔的六角柱的單元的集合 體構(gòu)成。并且，也能夠通過將防腐蝕鋁層14浸漬于染料中而對(duì)防腐蝕 鋁層14進(jìn)行著色。由此，能夠提高解析度或者提高亮度。在形成防腐 蝕鋁層14之后，實(shí)施用于堵塞細(xì)微孔的封孔處理。接著，如圖5C所示，使用蒸鍍法在防腐蝕鋁層14上形成鉻層16。 而且，如圖6A所示，使用真空蒸鍍法在鉻層16上形成金屬膜18。然 后，如圖6B所示，在金屬膜18上形成氧化物層20。接著，如圖6C 所示，使用CVD法以密封鋁基板12、防腐蝕鋁層14、鉻層16、金屬 膜18、以及氧化物層20的全體的方式，形成保護(hù)膜22。而且，如圖 6D所示，使用蒸鍍法經(jīng)由保護(hù)膜22在氧化物層20上形成閃爍器24。 接著，如圖1以及圖2所示，使用CVD法以密封鋁基板12、防腐蝕鋁 層14、鉻層16、金屬膜18、氧化物層20、保護(hù)膜22、以及閃爍器24的全體的方式，形成保護(hù)膜26。如此，制造出閃爍器面板IO。另外，在進(jìn)行CVD時(shí)，通過從基板座架上抬起鋁基板12的閃爍器形成面的 相反面?zhèn)?，能夠?qū)崿F(xiàn)保護(hù)膜22以及保護(hù)膜26的密封。作為這樣的方 法，例如有在美國專利說明書第6777690號(hào)中所記載的方法。該方法 中，使用銷釘抬起鋁基板12。在該情況下，在鋁基板12和銷釘?shù)奈⑿?的接觸面上沒有形成保護(hù)膜。圖7是包含第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的放射線圖像傳感器 的一個(gè)示例的示意圖。圖7所示的放射線圖像傳感器100具備閃爍器 面板10、以及將從閃爍器面板10的閃爍器24射出的光32變換成電信 號(hào)的攝像元件70。從閃爍器24射出的光32被反光鏡50反射，入射到 透鏡60。光32被透鏡60聚光，入射到攝像元件70。透鏡60可以為 一個(gè)，也可以為多個(gè)。從X射線源等放射線源40射出的放射線30透過圖中未顯示的檢 查對(duì)象物。所透過的放射線圖像入射到閃爍器面板10的閃爍器24。由 此，從閃爍器24射出與放射線圖像對(duì)應(yīng)的可見光圖像(攝像元件70 具有感應(yīng)度的波長的光32)。從閃爍器24射出的光32通過反射鏡50 以及透鏡60入射到攝像元件70。使用例如CCD或者平板型圖像傳感 器等作為攝像元件70。然后，電子儀器80從攝像元件70接受電信號(hào)， 該電信號(hào)經(jīng)由配線36被傳送到工作站90。工作站90解析電信號(hào)并在 顯示屏上顯示圖像。放射線圖像傳感器100具備閃爍器面板10、以及將從閃爍器面板 10的閃爍器24射出的光32變換成電信號(hào)的攝像元件70。所以，放射 線圖像傳感器100在具有高平坦性、具有高亮度的同時(shí)，能夠防止鋁 基板12的腐蝕。圖8是包含第1實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的放射線圖像傳感器 的另一示例的示意圖。圖8所示的放射線圖像傳感器100a具備閃爍器 面板10、以及與閃爍器面板10相對(duì)配置并將從閃爍器面板10的閃爍 器24射出的光變換成電信號(hào)的攝像元件70。閃爍器24被配置于鋁基 板12和攝像元件70之間。攝像元件70的受光面被配置于閃爍器24 側(cè)。閃爍器面板10和攝像元件70可以互相接合，也可以互相離開。 在接合的情況下，可以利用粘合劑，也可以考慮到閃爍器24以及保護(hù)膜26的折射率而利用光學(xué)結(jié)合材料(折射率匹配材料)以減少射出的
光32的損失。
放射線圖像傳感器100a具備閃爍器面板10、以及將從閃爍器面板 10的閃爍器24射出的光變換成電信號(hào)的攝像元件70。由此，放射線 圖像傳感器100a在具有高平坦性、具有高亮度的同時(shí)，能夠防止鋁基 板12的腐蝕。
(第2實(shí)施方式)
圖9是模式性地示意第2實(shí)施方式涉及的閃爍器面板的剖面圖。 圖9所示的閃爍器面板10a，除了閃爍器面板10的構(gòu)成之外，還具備 貼附于鋁基板12上的放射線透過性的增強(qiáng)板28。鋁基板12被配置于 增強(qiáng)板28和閃爍器24之間。
增強(qiáng)板28，例如由兩面膠帶或者粘合劑等而被貼附于鋁基板12 上。作為增強(qiáng)板28，可以使用(l)碳纖維強(qiáng)化塑料(CFRP: Carbon Fiber Reinforced Plastics)、 (2)炭板(對(duì)木炭以及紙進(jìn)行碳化處理并固化而 成的板)、(3)碳基板(石墨基板)、(4)塑料基板、(5)薄薄地形成 上述(1) (4)的基板并用發(fā)泡樹脂將其夾在中間而成的板等。增強(qiáng) 板28的厚度優(yōu)選為大于鋁基板12以及防腐蝕鋁層14的合計(jì)厚度。由 此，提高了閃爍器面板10a全體的強(qiáng)度。增強(qiáng)板28優(yōu)選為從鋁基板12 的厚度方向看時(shí)，大于閃爍器24。 g卩，在鋁基板12的厚度方向上從增 強(qiáng)板28側(cè)看時(shí)，增強(qiáng)板28優(yōu)選覆蓋并隱藏閃爍器24。由此，能夠防 止增強(qiáng)板28的影子映現(xiàn)。尤其是在使用低能量的放射線30的情況下， 能夠防止因增強(qiáng)板28的影子而導(dǎo)致圖像變得不均勻。
閃爍器面板10a中，除了起到了與閃爍器面板IO相同的作用效果 之外，還能夠進(jìn)一步提高閃爍器面板10a的平坦性以及剛性。所以， 閃爍器面板10a中，能夠防止因鋁基板12的彎曲而導(dǎo)致的閃爍器24 的剝離。另外，在圖7所示的放射線圖像傳感器100中，由于以單體 的方式使用閃爍器面板，因而使用剛性高的閃爍器面板10a是有效的。
以上，對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式詳細(xì)地進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明 并不限于上述實(shí)施方式，也不限于起到上述各種作用效果的構(gòu)成。
例如，在放射線圖像傳感器100以及100a中，可以使用閃爍器面 板10a以替代閃爍器面板10。另外，閃爍器面板IO、 10a可以不具備保護(hù)膜26。 上述實(shí)施形式中，雖然舉例說明了閃爍器面板作為放射線圖像變 換面板，但是通過使用光激發(fā)熒光體(變換放射線圖像的變換部的一 個(gè)示例)以替代閃爍器24，能夠制作出作為放射線圖像變換面板的成 像板。由光激發(fā)熒光體將放射線圖像變換成潛像。通過用激光掃描該 潛像，可以讀出可見光圖像?？梢姽鈭D像由檢測器(線路傳感器、圖 像傳感器、以及光電子倍增管等光傳感器)進(jìn)行檢測。
權(quán)利要求
1.一種放射線圖像變換面板，其特征在于，具備鋁基板、在所述鋁基板的表面上形成的鋁氧化物層、覆蓋所述鋁氧化物層的鉻層、設(shè)在所述鉻層上并具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜、覆蓋所述金屬膜并具有放射線透過性以及光透過性的氧化物層、覆蓋所述氧化物層并具有放射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜、以及設(shè)在所述保護(hù)膜上并變換放射線圖像的變換部。
2. —種閃爍器面板，其特征在于，具備 鋁基板、在所述鋁基板的表面上形成的鋁氧化物層、 覆蓋所述鋁氧化物層的鉻層、設(shè)在所述鉻層上并具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜、覆蓋所述金屬膜并具有放射線透過性以及光透過性的氧化物層、覆蓋所述氧化物層并具有放射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜、以及設(shè)在所述保護(hù)膜上的閃爍器。
3.如權(quán)利要求2所述的閃爍器面板，其特征在于， 還具備貼附于所述鋁基板的放射線透過性的增強(qiáng)板，所述鋁基板 被配置于所述增強(qiáng)板和所述閃爍器之間。
4. 一種放射線圖像傳感器，其特征在于， 具備放射線圖像變換面板和攝像元件，所述放射線圖像變換面板具備鋁基板、在所述鋁基板的表面上 形成的鋁氧化物層、覆蓋所述鋁氧化物層的鉻層、設(shè)在所述鉻層上并 具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜、覆蓋所述金屬膜并具有放射線透過性以及光透過性的氧化物層、覆蓋所述氧化物層并具有放射 線透過性以及光透過性的保護(hù)膜、以及設(shè)在所述保護(hù)膜上并變換放射 線圖像的變換部，所述攝像元件將從所述放射線圖像變換面板的所述變換部射出的 光變換為電信號(hào)。
全文摘要
本發(fā)明的放射線圖像變換面板具備鋁基板、在鋁基板的表面上形成的防腐蝕鋁層、覆蓋防腐蝕鋁層的鉻層、設(shè)在鉻層上并具有放射線透過性以及光反射性的金屬膜、覆蓋金屬膜并具有放射線透過性以及光透過性的氧化物層、覆蓋氧化物層并具有放射線透過性以及光透過性的保護(hù)膜、以及設(shè)在保護(hù)膜上并變換放射線圖像的變換部。
文檔編號(hào)G01T1/20GK101324672SQ200810109998
公開日2008年12月17日 申請(qǐng)日期2008年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月15日
發(fā)明者山下雅典, 楠山泰, 白川和廣, 鈴木孝治, 高林敏雄 申請(qǐng)人:浜松光子學(xué)株式會(huì)社