專利名稱：沉降—分析天平的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是一種天平，特別適用于以沉降重量法測定粉體粒度及其分布，同時具有光學(xué)分析天平的功能。
現(xiàn)有的沉降天平，如Gallenkamp沉降天平、Shimaelzu沉降天平等，都是用電磁起動，自動加碼平衡顆粒沉降的原理，每次加碼的間隔量不變，造成在細粒級部分誤差較大，分散相顆粒濃度大(1～5％)，操作復(fù)雜，易出故障。這些沉降天平僅適合測定100μm以下顆粒范圍和實驗室研究之用，不適合工業(yè)常規(guī)例行測試工作。對大于100μm以上的多分散體都用篩析法。而篩析法存在篩孔尺寸易變，測定精度低，勞動強度大，耗電耗試樣多，靜電粘附，技術(shù)不安全因素及粉塵損害操作人員身體健康等多種弊端，使其使用受到很大限制。目前有相當一部分工業(yè)粉體粒度上限在500微米以上，現(xiàn)有的沉降天平和篩析法都無法精確測定。
本實用新型的目的是提供一種沉降天平，能測定5～1200μm粉體粒度大小及其分布情況，并具有光學(xué)分析天平的功能。
本實用新型是采取以下措施達到上述目的的在雙盤光學(xué)分析天平的外殼上，于加碼架的下面增設(shè)了一個與原加碼架平行的加碼架及其控制的圈碼；在其橫梁A端的阻尼盒下面，設(shè)置了一個由沉降筒和置于沉降筒內(nèi)的沉降盤組成的沉降承受器，沉降盤掛在與橫梁A端相連的掛鉤上。取下沉降承受器，換上稱樣盤，就成為一臺雙盤光學(xué)分析天平。
本實用新型具有結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，節(jié)電省試樣，測量范圍廣，精確度高，相對誤差小于±1.5％，適于工業(yè)常規(guī)和科研中測試粉體粒度大小及其分布情況。又可作為光學(xué)分析天平用。
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。


圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1的C－C視圖；圖3是主凸輪組的5片凸輪圖；圖4是副凸輪組的3片凸輪圖。
參照圖1，在雙盤光學(xué)分析天平的外殼13上，位于原加碼架5的下面，增設(shè)了一個與加碼架5平行的加碼架4及其控制的圈碼3。雙盤光學(xué)分析天平的橫梁7兩端分別以A和B表示。橫梁7的B端為加圈碼端，在A端阻尼盒9的下面設(shè)置了一個沉降承受器，它是由透明或半透明的沉降筒2和置于其內(nèi)的沉降盤1構(gòu)成。沉降筒2是耐油性聚酯制成，沉降盤1是由黃銅桿的一頭固定在黃銅盤中心而成。黃銅桿的另一頭可通過尼龍線與橫梁7A端相連的掛鉤相連接。沉降承受器設(shè)置在外殼13外面，即阻尼盒9正下方的底板上有一個孔，由尼龍線通過該孔上下連接。沉降承受器也可以設(shè)置在外殼13內(nèi)，這可根據(jù)需要而定。在橫梁7A端阻尼盒9下面可以設(shè)置一個配重體10，使其作為當沉降天平使用時起平衡作用。在支柱8上可以設(shè)置一個指針11的限擺器12，用作限制指針11的擺動范圍。
參照圖2、圖3，加碼架4是由5片齒緣齒谷所占相位相異的凸輪20、21、22、23、24構(gòu)成的一組主凸輪組16。與主凸輪組16同軸的外定軸齒輪14是12個齒。主凸輪組16和外定軸齒輪14固定在外定軸15上。外定軸齒輪14將主凸輪組16分成12個檔次(相位)，這12個檔次又分為第一段是1～5檔，每檔加圈碼200mg；第二段是6～11檔，每檔加圈碼100mg；第12檔為0檔。而第三段10mg級的圈碼由加碼架5控制圈碼6完成?，F(xiàn)將主凸輪組16調(diào)碼數(shù)值及程序列表如下
注“＋”——加入該圈碼；“－”——未加該圈碼。
參照圖2、圖3、圖4，加碼架4也可以由主凸輪組16和副凸輪組18組成。主凸輪組16和外定軸齒輪14如前段所述。副凸輪組18是由3片齒緣和齒谷所占相位相異的凸輪25、26、27構(gòu)成。與副凸輪組18同軸的內(nèi)定軸齒輪19是6個齒。副凸輪組18和內(nèi)定軸齒輪19固定在內(nèi)定軸17上。內(nèi)定軸齒輪19將副凸輪組18分成6個檔次(相位)，第6檔為0檔，1～5檔為第三段，是試加圈碼段，承擔調(diào)動10mg級的圈碼。即先試加80mg圈碼，如沉降時間過長，可改為50mg、或30mg、或20mg、或10mg?，F(xiàn)將副凸輪組18調(diào)碼數(shù)值及程序列表如下
注“＋”——加入該圈碼；“－”——未加該圈碼。
測試操作過程簡述放正沉降承受器，向沉降筒2內(nèi)注入沉降介質(zhì)，掛上沉降盤1，使沉降天平的指針11達到零點平衡，然后關(guān)閉天平，預(yù)加200mg圈碼3。測試工作開始前，將5克試樣加入沉降筒2內(nèi)，用沉降盤1攪動到均勻。立即掛上沉降盤1，并同時打開天平和開動記時表，顆粒沉降量剛好平衡200mg圈碼，即指針11指到零點時，記下時間，再加第二次圈碼3，重復(fù)前面操作，直到測試完。根據(jù)每次累計的加碼值和測試時間作出曲線圖，并進行數(shù)據(jù)處理，就可確定粉體粒度的大小及其分布情況。這樣一臺沉降天平，每人每天可測試12～18個試樣。
權(quán)利要求1.一種沉降-分析天平，包括外殼[13]、支柱[8]、橫梁[7]、指針[11]、圈碼[6]、加碼架[5]、砝碼盤、阻尼盒[9]，本實用新型的特征在于所述外殼[13]上，增設(shè)了一個與加碼架[5]平行的加碼架[4]及其圈碼[3]；在所述橫梁[7]A端的阻尼盒[9]下面，設(shè)置了一個由沉降筒[2]和置于其內(nèi)的沉降盤[1]組成的沉降承受器，沉降盤[1]掛在與橫梁[7]A端相連的掛鉤上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉降——分析天平，其特征在于所述加碼架〔4〕是由5片凸輪〔20、21、22、23、24〕構(gòu)成一組主凸輪組〔16〕，與其同軸的外定軸齒輪〔14〕是12個齒。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉降——分析天平，其特征在于所述加碼架〔4〕的主凸輪組〔16〕是由5片凸輪〔20、21、22、23、24〕構(gòu)成，與其同軸的外定軸齒輪〔14〕是12個齒，副凸輪組〔18〕是由3片凸輪〔25、26、27〕構(gòu)成，與其同軸的內(nèi)定軸齒輪〔19〕是6個齒。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的沉降——分析天平，其特征在于所述橫梁〔7〕A端的阻尼盒〔9〕下面，可以設(shè)置一個配重體〔10〕。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的沉降——分析天平，其特征在于所述支柱〔8〕上可以設(shè)置一個指針〔11〕的限擺器〔12〕。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的沉降——分析天平，其特征在于所述支柱〔8〕上可以設(shè)置一個指針〔11〕的限擺器〔12〕。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的沉降——分析天平，其特征在于所述沉降承受器也可以設(shè)置在外殼〔13〕內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的沉降——分析天平，其特征在于所述沉降承受器也可以設(shè)置在外殼〔13〕內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沉降——分析天平，其特征在于所述沉降承受器也可以設(shè)置在外殼〔13〕內(nèi)。
專利摘要一種沉降—分析天平，是在光學(xué)分析天平加碼架下方增一個與其并立的沉降加碼架，并在橫梁左端下方設(shè)置一個由沉降筒和沉降盤構(gòu)成的沉降承受器而成。該天平不但具有測試粉體顆粒大小及其分布狀況的作用，還具有光學(xué)分析天平的功能。這種天平結(jié)構(gòu)簡單，精確度高，操作方便，每人每天可測試12～18個試樣，省電省試樣，安全可靠，無粉塵污染，適用于工業(yè)常規(guī)測試5～1200μm粒度粉體和科學(xué)研究。
文檔編號G01G1/00GK2160105SQ9320661
公開日1994年3月30日 申請日期1993年3月16日 優(yōu)先權(quán)日1993年3月16日
發(fā)明者連嗣南 申請人:連嗣南