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用于測量磁體位置的方法與流程

文檔序號:40453297發(fā)布日期:2024-12-27 09:18閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種用于磁體-傳感器裝置(1)的信號處理的方法,其中,所述磁體-傳感器裝置(1)包括至少一個(gè)傳感器對(3)和一個(gè)相對于所述傳感器對可動(dòng)式支承的磁體(2),此方法具有以下步驟:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,可運(yùn)動(dòng)的所述磁體(2)以圍繞至少一個(gè)轉(zhuǎn)軸可樞轉(zhuǎn)的方式支承,并且所述位置變化以偏轉(zhuǎn)角的形式被測量。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,通過三角函數(shù)由所測得的磁通密度計(jì)算出所述偏轉(zhuǎn)角。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法,其特征在于,通過三角函數(shù),由所測得的磁通密度的差,計(jì)算出微分計(jì)算的偏轉(zhuǎn)角。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述加權(quán)平均值分別由所述非微分計(jì)算的位置變化之一和所述微分計(jì)算的位置變化所形成,其中,通過這些加權(quán)平均值的平均值,算出總體計(jì)算的位置變化。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,根據(jù)步驟e)的歸一化通過多點(diǎn)校準(zhǔn)、尤其是9點(diǎn)校準(zhǔn)或15點(diǎn)校準(zhǔn)來進(jìn)行。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,由兩個(gè)不同計(jì)算的位置變化的差確定出影響測量的磁性外場,其中,通過所述多點(diǎn)校準(zhǔn),修正所述位置變化。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,由兩個(gè)不同計(jì)算的位置變化的差確定出影響測量的磁性外場,其中,通過用實(shí)驗(yàn)室條件下的測量進(jìn)行校準(zhǔn),修正所述位置變化。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,在計(jì)算所述加權(quán)因子時(shí),考慮一可預(yù)定義的常數(shù)amax,該常數(shù)描述了在微分和非微分計(jì)算的位置變化之間的偏差程度,自該偏差程度起,對于位置變化的計(jì)算,只使用來自根據(jù)步驟d)微分計(jì)算的位置變化的信號。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,在計(jì)算所述加權(quán)因子時(shí),考慮一可預(yù)定義的常數(shù)odiff,通過該常數(shù)能夠預(yù)設(shè):將微分信號的多少百分比用于計(jì)算位置變化。


技術(shù)總結(jié)
一種用于磁體?傳感器裝置的信號處理的方法,該磁體?傳感器裝置(1)包括至少一個(gè)傳感器對(3)和一個(gè)相對于所述傳感器對可動(dòng)式支承的磁體(2),此方法具有以下步驟:測量各個(gè)傳感器各個(gè)空間坐標(biāo)的磁通密度;針對各個(gè)所測得的磁通密度,非微分計(jì)算磁體的位置變化;針對各個(gè)空間坐標(biāo),算出所測得的磁通密度的差;由計(jì)算的磁通密度,微分計(jì)算磁體的位置變化;基于磁體的零位,歸一化磁體的非微分及微分計(jì)算的位置變化;算出磁體的微分計(jì)算的位置變化與磁體的非微分計(jì)算的位置變化的差;根據(jù)算出的差,計(jì)算加權(quán)因子;算出歸一化的磁體的非微分及微分計(jì)算的位置變化的平均值,該平均值是經(jīng)過加權(quán)因子加權(quán)處理的,以獲得校正的位置變化。

技術(shù)研發(fā)人員:R·布切爾,U·格哈特
受保護(hù)的技術(shù)使用者:愛樂寶兩合公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/26
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