1.一種地質(zhì)勘測用光譜儀指定裝置，包括檢測機箱(1)、固定底座(2)和固定臺(24)，其特征在于:所述檢測機箱(1)內(nèi)部的一側(cè)設(shè)有第一檢測室(22)，且第一檢測室(22)的一端設(shè)有第二檢測室(18)，所述第二檢測室(18)和第一檢測室(22)之間通過隔板(20)相連接，且隔板(20)的一端固定有烘干器(19)，所述第二檢測室(18)和第一檢測室(22)的下方安裝有光譜檢測器(12)，且光譜檢測器(12)通過上端的鋼化玻璃板(8)與第二檢測室(18)和第一檢測室(22)相連接，所述固定臺(24)安裝在檢測機箱(1)的下端，且固定臺(24)的上表面設(shè)有兩個固定槽(25)，所述檢測機箱(1)通過兩側(cè)下端的固定鍵(13)與固定槽(25)相連接，所述固定臺(24)的下方安裝有固定底座(2)，且固定底座(2)通過上端四角的伸縮桿(23)與固定臺(24)相連接，所述固定底座(2)的下端三角通過轉(zhuǎn)軸(3)與固定支架(4)相連接，且固定支架(4)的下端安裝有伸縮支架(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種地質(zhì)勘測用光譜儀指定裝置，其特征在于：所述伸縮支架(6)的下端固定有支撐腳(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種地質(zhì)勘測用光譜儀指定裝置，其特征在于：所述檢測機箱(1)一側(cè)的外表面安裝有操控面板(15)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種地質(zhì)勘測用光譜儀指定裝置，其特征在于：所述第二檢測室(18)和第一檢測室(22)的上端固定有密封蓋(21)，且密封蓋(21)通過兩端的連接軸(7)與檢測機箱(1)相鉸接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種地質(zhì)勘測用光譜儀指定裝置，其特征在于：所述第二檢測室(18)的下端通過排水管(11)與排水口(10)相連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種地質(zhì)勘測用光譜儀指定裝置，其特征在于：所述第二檢測室(18)的一端固定有儲水箱(16)，且儲水箱(16)的一端固定有兩個噴水器(17)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種地質(zhì)勘測用光譜儀指定裝置，其特征在于：所述檢測機箱(1)內(nèi)部一側(cè)的下端固定有英特爾多核處理器(9)，且檢測機箱(1)內(nèi)部另一側(cè)的下端固定有蓄電池(14)。