本申請涉及儲層評價(jià)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種確定儲層滲透率的方法及裝置。

背景技術(shù)：

儲層滲透率是衡量流體在壓力差下通過多孔巖石有效孔隙能力的一種量值。準(zhǔn)確求取儲層滲透率是儲層評價(jià)的基礎(chǔ)。

tim-coates模型是確定儲層滲透率最常用的方法之一。通過tim-coates模型可以建立儲層滲透率k與可動流體體積、束縛水體積、孔隙度的關(guān)聯(lián)關(guān)系。

然而，tim-coates模型僅將孔隙體積劃分為可動流體體積和束縛水體積，難以刻畫孔隙結(jié)構(gòu)的復(fù)雜程度，從而可能影響儲層滲透率的計(jì)算精度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本申請實(shí)施例的目的是提供一種確定儲層滲透率的方法及裝置，以提高所確定的儲層滲透率的精度。

為解決上述技術(shù)問題，本申請實(shí)施例提供一種確定儲層滲透率的方法及裝置是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種確定儲層滲透率的方法，提供有目的儲層在目標(biāo)井位置處的核磁測井?dāng)?shù)據(jù)；其中，所述目的儲層在目標(biāo)井位置處包括多個(gè)采樣點(diǎn)，所述核磁測井?dāng)?shù)據(jù)包括多個(gè)采樣點(diǎn)位置處分別對應(yīng)的核磁測井t2譜；還提供有所述目的儲層中的多個(gè)巖心在飽和水狀態(tài)下分別對應(yīng)的巖心核磁t2譜、毛管壓力曲線信息和壓汞孔喉半徑分布曲線；所述方法包括：

基于所述毛管壓力曲線信息，確定孔喉類型劃分界限；

基于所述孔喉類型劃分界限、所述巖心核磁t2譜和所述壓汞孔喉半徑分布曲線，確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限；

針對所述多個(gè)巖心中指定巖心，確定與所述孔隙分量劃分界限對應(yīng)的多種孔喉類型分別在所述指定巖心的巖心核磁t2譜上的孔隙分量；

建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系；

對所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，得到油氣校正后的核磁測井t2譜；

基于所述油氣校正后的核磁測井t2譜和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定所述采樣點(diǎn)位置處的滲透率。

優(yōu)選方案中，所述建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系，包括：

獲取所述指定巖心的滲透率和孔隙度，根據(jù)所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量，確定多條擬合直線以及與多條擬合直線分別對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)；其中，所述多條分段擬合直線中一條分段擬合直線與所述指定巖心的滲透率、所述指定巖心的一個(gè)孔隙分量相對應(yīng)；

基于預(yù)設(shè)判別條件和所述關(guān)聯(lián)參數(shù)，確定所述指定巖心的滲透率分別與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量之間的相關(guān)性；

根據(jù)所述相關(guān)性、所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量和所述指定巖心的滲透率，建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系。

優(yōu)選方案中，所述根據(jù)所述相關(guān)性、所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量和所述指定巖心的滲透率，建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系，包括：

根據(jù)所述相關(guān)性，確定與所述指定巖心的滲透率、所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量相關(guān)聯(lián)的擬合模型，所述擬合模型中包括多個(gè)擬合參數(shù)；

基于所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量和所述指定巖心的滲透率，利用最小二乘法對所述擬合模型進(jìn)行擬合，以確定所述擬合模型中所述擬合參數(shù)的數(shù)值。

優(yōu)選方案中，所述根據(jù)所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量，確定多條擬合直線以及與多條擬合直線分別對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)，包括：

對所述指定巖心的滲透率和所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量進(jìn)行線性擬合處理，確定所述多條分段擬合直線以及與所述多條分段擬合直線分別對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)；所述關(guān)聯(lián)參數(shù)包括：斜率和線性擬合系數(shù)。

優(yōu)選方案中，所述預(yù)設(shè)判別條件包括：

當(dāng)一條分段擬合直線對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)中線性相關(guān)系數(shù)的絕對值大于或等于0.6且斜率大于0時(shí)，所述指定巖心的滲透率與該分段擬合直線對應(yīng)的孔隙分量之間的相關(guān)性為正相關(guān)；或者，

當(dāng)一條分段擬合直線對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)中線性相關(guān)系數(shù)的絕對值大于或等于0.6且斜率的小于0時(shí)，所述指定巖心的滲透率與該分段擬合直線對應(yīng)的孔隙分量之間的相關(guān)性為負(fù)相關(guān)；或者，

當(dāng)一條分段擬合直線對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)中線性相關(guān)系數(shù)的絕對值小于0.6時(shí)，所述指定巖心的滲透率與該分段擬合直線對應(yīng)的孔隙分量之間的相關(guān)性為不相關(guān)。

優(yōu)選方案中，所述對所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，包括：

基于預(yù)設(shè)t2截止值，確定所述核磁測井?dāng)?shù)據(jù)中指定采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜對應(yīng)的采樣點(diǎn)束縛水飽和度，以及將所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜劃分為原始束縛水譜和原始可動流體譜；

基于所述預(yù)設(shè)t2截止值和所述巖心核磁t2譜，確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的巖心束縛水飽和度和巖心t2幾何平均值，并建立與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的巖心束縛水飽和度和巖心t2幾何平均值的關(guān)聯(lián)關(guān)系；

根據(jù)所述采樣點(diǎn)束縛水飽和度，以及所述巖心束縛水飽和度和巖心t2幾何平均值的關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定與所述采樣點(diǎn)束縛水飽和度對應(yīng)的采樣點(diǎn)t2幾何平均值；

獲取所述采樣點(diǎn)位置處的孔隙度，構(gòu)造所述采樣點(diǎn)位置處的目標(biāo)可動流體譜，以使得所述目標(biāo)可動流體譜的振幅與所述原始束縛水譜的振幅之和等于所述采樣點(diǎn)位置處的孔隙度，且所述采樣點(diǎn)位置處的油氣校正后的核磁測井t2譜對應(yīng)的t2幾何平均值等于所述采樣點(diǎn)t2幾何平均值；其中，所述油氣校正后的核磁測井t2譜包括所述目標(biāo)可動流體譜以及所述原始束縛水譜。

優(yōu)選方案中，所述基于所述油氣校正后的核磁測井t2譜和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定所述采樣點(diǎn)位置處的滲透率，包括：

針對所述多個(gè)采樣點(diǎn)中指定采樣點(diǎn)，確定所述指定采樣點(diǎn)位置處的多個(gè)目標(biāo)孔隙分量；其中，所述目標(biāo)孔隙分量包括與所述孔隙分量劃分界限對應(yīng)的一種孔喉類型在所述油氣校正后的核磁測井t2譜上的孔隙分量；其中，所述孔喉類型與所述目標(biāo)孔隙分量一一對應(yīng)；

基于所述目標(biāo)孔隙分量和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定所述指定采樣點(diǎn)位置處的滲透率。

優(yōu)選方案中，所述基于所述孔喉類型劃分界限、所述巖心核磁t2譜和所述壓汞孔喉半徑分布曲線，確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限，包括：

基于所述巖心核磁t2譜的主峰和所述壓汞孔喉半徑分布曲線的主峰，建立孔喉半徑與t2弛豫時(shí)間之間的冪函數(shù)關(guān)系；

根據(jù)所述冪函數(shù)關(guān)系，將所述孔喉類型劃分界限轉(zhuǎn)換為與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限。

優(yōu)選方案中，所述基于所述毛管壓力曲線信息，確定孔喉類型劃分界限，包括：

基于所述毛管壓力曲線信息，對所述巖心的孔隙結(jié)構(gòu)進(jìn)行分類，得到多種巖心孔隙結(jié)構(gòu)類型；其中，所述毛管壓力曲線信息包括：毛管壓力曲線特征和進(jìn)汞壓力；

基于預(yù)設(shè)的進(jìn)汞壓力與孔喉半徑的關(guān)聯(lián)關(guān)系，以及與所述多種孔隙結(jié)構(gòu)類型分別對應(yīng)的毛管壓力曲線中起始下凹處的進(jìn)汞壓力，確定多個(gè)孔喉半徑分界值，并將所述多個(gè)孔喉半徑分界值作為孔喉類型劃分界限。

一種確定儲層滲透率的裝置，所述裝置提供目的儲層在目標(biāo)井位置處的核磁測井?dāng)?shù)據(jù)；其中，所述目的儲層在目標(biāo)井位置處包括多個(gè)采樣點(diǎn)，所述核磁測井?dāng)?shù)據(jù)包括多個(gè)采樣點(diǎn)位置處分別對應(yīng)的核磁測井t2譜；所述裝置還提供有所述目的儲層中的多個(gè)巖心在飽和水狀態(tài)下分別對應(yīng)的巖心核磁t2譜、毛管壓力曲線和壓汞孔喉半徑分布曲線；所述裝置包括：孔喉界限確定模塊、孔隙分量界限確定模塊、孔隙分量確定模塊、關(guān)聯(lián)關(guān)系建立模塊、油氣校正模塊和滲透率確定模塊；其中，

所述孔喉界限確定模塊，用于基于所述毛管壓力曲線，確定孔喉類型劃分界限；

所述孔隙分量界限確定模塊，用于基于所述孔喉類型劃分界限、所述巖心核磁t2譜和所述壓汞孔喉半徑分布曲線，確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限；

所述孔隙分量確定模塊，用于針對所述多個(gè)巖心中指定巖心，確定與所述孔隙分量劃分界限對應(yīng)的多種孔喉類型分別在所述指定巖心的巖心核磁t2譜上的孔隙分量；

所述關(guān)聯(lián)關(guān)系建立模塊，用于建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系；

所述油氣校正模塊，用于對所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，得到油氣校正后的核磁測井t2譜；

所述滲透率確定模塊，用于基于所述油氣校正后的核磁測井t2譜和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定所述采樣點(diǎn)位置處的滲透率。

本申請實(shí)施例提供了一種確定儲層滲透率的方法及裝置，基于毛管壓力曲線信息，可以確定孔喉類型劃分界限；基于孔喉類型劃分界限、巖心核磁t2譜和壓汞孔喉半徑分布曲線，可以確定與巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限；針對多個(gè)巖心中指定巖心，可以確定指定巖心的與孔隙分量劃分界限對應(yīng)的多種孔喉類型分別在指定巖心的核磁t2譜上的孔隙分量；可以建立指定巖心的滲透率與指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系；可以對采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，得到油氣校正后的核磁測井t2譜；基于油氣校正后的核磁測井t2譜和關(guān)聯(lián)關(guān)系，可以確定采樣點(diǎn)位置處的滲透率?？紤]了油氣校正后的核磁測井t2譜上不同孔隙分量對滲透率的貢獻(xiàn)，從而可以提高所確定的儲層滲透率的精度。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本申請一種確定儲層滲透率的方法實(shí)施例的流程圖；

圖2是本申請實(shí)施例中巖心孔隙結(jié)構(gòu)類型對應(yīng)的毛管壓力曲線的示意圖；

圖3是本申請實(shí)施例中巖心鑄體薄片圖像；

圖4是本申請實(shí)施例中孔喉半徑與t2弛豫時(shí)間之間的交會示意圖；

圖5是本申請實(shí)施例中孔隙分量與滲透率的交會示意圖；

圖6是本申請實(shí)施例中分別采用不同方法所確定的滲透率結(jié)果的對比示意圖；

圖7是本申請確定儲層滲透率的裝置實(shí)施例的組成結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式

本申請實(shí)施例提供一種確定儲層滲透率的方法及裝置。

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本申請中的技術(shù)方案，下面將結(jié)合本申請實(shí)施例中的附圖，對本申請實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本申請一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒旧暾堉械膶?shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本申請保護(hù)的范圍。

本申請實(shí)施例提供了一種確定儲層滲透率的方法。所述方法提供有目的儲層在目標(biāo)井位置處的核磁測井?dāng)?shù)據(jù)；其中，所述目的儲層在目標(biāo)井位置處包括多個(gè)采樣點(diǎn)，所述核磁測井?dāng)?shù)據(jù)包括多個(gè)采樣點(diǎn)位置處分別對應(yīng)的核磁測井t2譜。所述方法還提供有所述目的儲層中的多個(gè)巖心在飽和水狀態(tài)下分別對應(yīng)的巖心核磁t2譜、毛管壓力曲線信息和壓汞孔喉半徑分布曲線。

在本實(shí)施方式中，所述目的儲層可以是儲層滲透率尚未確定的儲層。所述目的儲層中的目標(biāo)井位置可以指通過在所述目的儲層中已經(jīng)開設(shè)的鉆井，能夠檢測到儲層的核磁測井?dāng)?shù)據(jù)的位置。所述目的儲層可以是油氣勘探過程中需要勘探開發(fā)的儲層。所述目的儲層可以是碳酸鹽巖儲層。

在本實(shí)施方式中，可以通過核磁共振儀器在所述目的儲層的目標(biāo)井位置處進(jìn)行核磁測井處理，得到所述目的儲層在目標(biāo)井位置處的核磁測井?dāng)?shù)據(jù)。

在本實(shí)施方式中，可以通過鉆井的方式，獲取所述目的儲層中的多個(gè)巖心。還可以對所述多個(gè)巖心中每一個(gè)巖心在百分之白的飽和水狀態(tài)下分別依次進(jìn)行壓汞實(shí)驗(yàn)、核磁共振實(shí)驗(yàn)、孔隙度測試和滲透率測試，從而可以得到所述目的儲層中的多個(gè)巖心在飽和水狀態(tài)下分別對應(yīng)的巖心核磁t2譜、孔隙度、滲透率、毛管壓力曲線信息和壓汞孔喉半徑分布曲線。

在本實(shí)施方式中，所述目的儲層在目標(biāo)井位置處可以包括多個(gè)采樣點(diǎn)。所述核磁測井?dāng)?shù)據(jù)可以包括多個(gè)采樣點(diǎn)位置處分別對應(yīng)的核磁測井t2譜。

圖1是本申請一種確定儲層滲透率的方法實(shí)施例的流程圖。如圖1所示，所述方法，包括以下步驟。

步驟s101：基于所述毛管壓力曲線信息，確定孔喉類型劃分界限。

在本實(shí)施方式中，基于所述毛管壓力曲線信息，確定孔喉類型劃分界限，具體可以包括，可以基于所述毛管壓力曲線信息，對所述巖心的孔隙結(jié)構(gòu)進(jìn)行分類，可以得到多種巖心孔隙結(jié)構(gòu)類型。其中，所述毛管壓力曲線信息可以包括：毛管壓力曲線特征和進(jìn)汞壓力?？梢曰陬A(yù)設(shè)的進(jìn)汞壓力與孔喉半徑的關(guān)聯(lián)關(guān)系，以及與所述多種孔隙結(jié)構(gòu)類型分別對應(yīng)的毛管壓力曲線中起始下凹處的進(jìn)汞壓力，可以確定多個(gè)孔喉半徑分界值，并將所述多個(gè)孔喉半徑分界值作為孔喉類型劃分界限。

例如，可以根據(jù)所述多個(gè)巖心中每一個(gè)巖心制作對應(yīng)的鑄體薄片樣品，并獲取所述鑄體薄片樣品的鑄體薄片圖像。基于所述巖心的鑄體薄片樣品的鑄體薄片圖像，以及所述毛管壓力曲線信息中毛管壓力曲線特征和進(jìn)汞壓力，可以得到四種巖心孔隙結(jié)構(gòu)類型，分別為ⅰ類孔隙結(jié)構(gòu)、ⅱ類孔隙結(jié)構(gòu)、ⅲ類孔隙結(jié)構(gòu)和ⅳ類孔隙結(jié)構(gòu)。

圖2中(a)、(b)、(c)和(d)分別是所述四種巖心孔隙結(jié)構(gòu)類型對應(yīng)的毛管壓力曲線的示意圖。圖2中橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo)分別表示進(jìn)汞壓力pc和非潤濕相流體飽和度s的log函數(shù)值。其中，所述進(jìn)汞壓力可以反映孔隙結(jié)構(gòu)中孔喉半徑的大小，進(jìn)汞壓力越大，孔喉半徑越小。所述非潤濕相流體飽和度可以反映各個(gè)所述孔喉之間的連通性。圖3中(a)、(b)、(c)和(d)分別是所述四種巖心孔隙結(jié)構(gòu)類型對應(yīng)的巖心鑄體薄片圖像。如圖2和圖3中(a)、(b)、(c)和(d)的方框區(qū)域所示，所述四種孔隙結(jié)構(gòu)的毛管壓力曲線特征，以及鑄體薄片圖像中鑄體薄片視域內(nèi)面孔率和孔隙類型分別為：

(1)所述ⅰ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的毛管壓力曲線特征為毛管壓力曲線開口向下，平直段在所述四種巖心孔隙結(jié)構(gòu)類型分別對應(yīng)的毛管壓力曲線特征的平直段中最短，無明顯下凹曲線段；所述ⅰ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的孔喉半徑在所述四種巖心孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的孔喉半徑中最大；所述ⅰ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的鑄體薄片視域內(nèi)面孔率較大，孔隙以鑄?？?、粒內(nèi)孔為主；

(2)所述ⅱ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的毛管壓力曲線特征為毛管壓力曲線開口向上，平直段較短，有明顯下凹曲線段；所述ⅱ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的孔喉半徑較大；所述ⅱ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的鑄體薄片視域內(nèi)面孔率較大，孔隙以鑄?？住⒘?nèi)孔為主，但有部分微孔；

(3)所述ⅲ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的毛管壓力曲線特征為毛管壓力曲線開口向上，平直段較長，有明顯下凹曲線段，但下凹曲度比所述ⅱ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的下凹曲線段的下凹曲度??；所述ⅲ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的孔喉半徑較大；所述ⅲ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的鑄體薄片視域內(nèi)面孔率較小，孔隙以鑄模孔、粒內(nèi)孔和微孔為主；

(4)所述ⅳ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的毛管壓力曲線特征為毛管壓力曲線開口向下，平直段最長，有下凹曲線段；所述ⅳ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的孔喉半徑較??；所述ⅳ類孔隙結(jié)構(gòu)對應(yīng)的鑄體薄片視域內(nèi)孔隙以微孔為主。

在本實(shí)施方式中，可以采用下述公式表征所述預(yù)設(shè)的進(jìn)汞壓力與孔喉半徑的關(guān)聯(lián)關(guān)系：

其中，pc表示進(jìn)汞壓力，r表示孔喉半徑，σ表示汞與空氣之間的界面張力，通常取值為480達(dá)因/厘米(dyn/cm)，θ表示汞與儲層中巖石的潤濕角，通常取值為140度?？梢曰陬A(yù)設(shè)的進(jìn)汞壓力與孔喉半徑的關(guān)聯(lián)關(guān)系，以及與所述四種孔隙結(jié)構(gòu)類型分別對應(yīng)的毛管壓力曲線中起始下凹處的進(jìn)汞壓力，可以確定三個(gè)孔喉半徑分界值r1、r2和r3，分別為0.15微米(μm)、1μm和5μm，即微喉、細(xì)喉、中喉和粗喉，四種孔喉類型的孔喉半徑的取值范圍分別為：r＜r1、r1≤r≤r2、r2＜r≤r3和r＜r3。并將所述多個(gè)孔喉半徑分界值作為孔喉類型劃分界限。

步驟s102：基于所述孔喉類型劃分界限、所述巖心核磁t2譜和所述壓汞孔喉半徑分布曲線，確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限。

在本實(shí)施方式中，確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限，具體可以包括，基于所述巖心核磁t2譜的主峰和所述壓汞孔喉半徑分布曲線的主峰，可以建立孔喉半徑與t2弛豫時(shí)間之間的冪函數(shù)關(guān)系。根據(jù)所述冪函數(shù)關(guān)系，可以將所述孔喉類型劃分界限轉(zhuǎn)換為與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限。

例如，圖4是本申請實(shí)施例中孔喉半徑與t2弛豫時(shí)間之間的交會示意圖?？梢愿鶕?jù)圖4所示的多個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)，每個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)均對應(yīng)一個(gè)巖心的孔喉半徑與t2弛豫時(shí)間，可以采用最小二乘擬合方法，建立孔喉半徑與t2弛豫時(shí)間之間的冪函數(shù)關(guān)系。根據(jù)所述冪函數(shù)關(guān)系，可以將所述孔喉類型劃分界限轉(zhuǎn)換為與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限。所述孔隙分量劃分界限可以為由弛豫時(shí)間分界值t1、t2和t3構(gòu)成，分別為30毫秒(ms)、90ms、200ms。

步驟s103：針對所述多個(gè)巖心中指定巖心，確定所述指定巖心的與所述孔隙分量劃分界限對應(yīng)的多種孔喉類型分別在所述指定巖心的核磁t2譜上的孔隙分量。

在本實(shí)施方式中，可以采用下述公式分別計(jì)算所述指定巖心的與所述孔隙分量劃分界限對應(yīng)的多種孔喉類型分別在所述指定巖心的核磁t2譜上的孔隙分量為：

其中，s1、s2、s3和s4分別表示微喉、細(xì)喉、中喉和粗喉在所述指定巖心的核磁t2譜上的孔隙分量；t1、t2和t3分別表示孔隙分量s1和s2、s2和s3、s3和s4之間的馳豫時(shí)間分界值，t0和te分別表示所述指定巖心的核磁t2譜的馳豫時(shí)間起始值和馳豫時(shí)間終止值；a表示所述指定巖心的核磁t2譜的幅度值。所述指定巖心可以為所述多個(gè)巖心中的任一巖心。

步驟s104：建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系。

在本實(shí)施方式中，建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系，具體可以包括，可以獲取所述指定巖心的滲透率和孔隙度。根據(jù)所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量，可以確定多條擬合直線以及與多條擬合直線分別對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)。其中，所述多條分段擬合直線中一條分段擬合直線與所述指定巖心的滲透率、所述指定巖心的一個(gè)孔隙分量相對應(yīng)。基于預(yù)設(shè)判別條件和所述關(guān)聯(lián)參數(shù)，可以確定所述指定巖心的滲透率分別與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量之間的相關(guān)性。根據(jù)所述相關(guān)性、所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量和所述指定巖心的滲透率，可以建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系。

在本實(shí)施方式中，所述預(yù)設(shè)判別條件可以包括：當(dāng)一條分段擬合直線對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)中線性相關(guān)系數(shù)的絕對值大于或等于0.6且斜率大于0時(shí)，所述指定巖心的滲透率與該分段擬合直線對應(yīng)的孔隙分量之間的相關(guān)性為正相關(guān)；或者，當(dāng)一條分段擬合直線對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)中線性相關(guān)系數(shù)的絕對值大于或等于0.6且斜率的小于0時(shí)，所述指定巖心的滲透率與該分段擬合直線對應(yīng)的孔隙分量之間的相關(guān)性為負(fù)相關(guān)；或者，當(dāng)一條分段擬合直線對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)中線性相關(guān)系數(shù)的絕對值小于0.6時(shí)，所述指定巖心的滲透率與該分段擬合直線對應(yīng)的孔隙分量之間的相關(guān)性為不相關(guān)。

在本實(shí)施方式中，根據(jù)所述相關(guān)性、所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量和所述指定巖心的滲透率，建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系，具體可以包括，根據(jù)所述相關(guān)性，可以確定與所述指定巖心的滲透率、所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量相關(guān)聯(lián)的擬合模型，所述擬合模型包括多個(gè)擬合參數(shù)?；谒鲋付◣r心的多個(gè)孔隙分量和所述指定巖心的滲透率，利用最小二乘法對所述擬合模型進(jìn)行擬合，以確定所述擬合模型中所述擬合參數(shù)的數(shù)值。

在本實(shí)施方式中，根據(jù)所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量，確定多條擬合直線以及與多條擬合直線分別對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)，具體可以包括，可以對所述指定巖心的滲透率和所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量進(jìn)行線性擬合處理，確定所述多條分段擬合直線以及與所述多條分段擬合直線分別對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)。其中，所述關(guān)聯(lián)參數(shù)可以包括：斜率和線性擬合系數(shù)。

例如，圖5中(a)、(b)、(c)和(d)分別是所述指定巖心的四個(gè)孔隙分量與所述指定巖心的滲透率的交會示意圖。圖5中(a)、(b)、(c)和(d)的橫坐標(biāo)分別表示微喉、細(xì)喉、中喉和粗喉對應(yīng)的孔隙分量，即微孔占比、小孔占比、中孔占比和大孔占比，縱坐標(biāo)表示巖心滲透率。可以對所述指定巖心的滲透率和所述指定巖心的四個(gè)孔隙分量進(jìn)行線性擬合處理，可以確定這四條分段擬合直線以及與所述多條分段擬合直線分別對應(yīng)的關(guān)聯(lián)參數(shù)，即孔隙分量s1和s2對應(yīng)的斜率小于0，孔隙分量s3和s4對應(yīng)的斜率大于0，孔隙分量s1、s2、s3和s4的線性擬合系數(shù)均大于0.6。如此，可以采用下述公式表征所述擬合模型：

其中，k表示所述指定巖心的滲透率，表示所述指定巖心的孔隙度，a、b、c、d和e均為擬合參數(shù)。所述擬合參數(shù)可以通過最小二乘擬合方法來確定。

步驟s105：對所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，得到油氣校正后的核磁測井t2譜。

在本實(shí)施方式中，對所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，具體可以包括，基于預(yù)設(shè)t2截止值，可以確定所述核磁測井?dāng)?shù)據(jù)中指定采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜對應(yīng)的采樣點(diǎn)束縛水飽和度，以及將所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜劃分為原始束縛水譜和原始可動流體譜?；谒鲱A(yù)設(shè)t2截止值和所述巖心核磁t2譜，可以確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的巖心束縛水飽和度和巖心t2幾何平均值，并建立與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的巖心束縛水飽和度和巖心t2幾何平均值的關(guān)聯(lián)關(guān)系。根據(jù)所述采樣點(diǎn)束縛水飽和度，以及所述巖心束縛水飽和度和巖心t2幾何平均值的關(guān)聯(lián)關(guān)系，可以確定與所述采樣點(diǎn)束縛水飽和度對應(yīng)的采樣點(diǎn)t2幾何平均值?？梢垣@取所述采樣點(diǎn)位置處的孔隙度?？梢圆捎貌▌雍瘮?shù)構(gòu)造所述采樣點(diǎn)位置處的目標(biāo)可動流體譜，以使得所述目標(biāo)可動流體譜的振幅與所述原始束縛水譜的振幅之和等于所述采樣點(diǎn)位置處的孔隙度，且所述采樣點(diǎn)位置處的油氣校正后的核磁測井t2譜對應(yīng)的t2幾何平均值等于所述采樣點(diǎn)t2幾何平均值。其中，所述油氣校正后的核磁測井t2譜包括所述目標(biāo)可動流體譜以及所述原始束縛水譜。例如，可以采用下述公式表征所述波動函數(shù)：

其中，y表示所述波動函數(shù)的函數(shù)值，即振幅，t表示弛豫時(shí)間，ω表示角頻率，和表示相位，a1和a2表示振幅系數(shù)。

步驟s106：基于所述油氣校正后的核磁測井t2譜和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定所述采樣點(diǎn)位置處的滲透率。

在本實(shí)施方式中，基于所述油氣校正后的核磁測井t2譜和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定所述采樣點(diǎn)位置處的滲透率，具體可以包括，針對所述多個(gè)采樣點(diǎn)中指定采樣點(diǎn)，確定所述指定采樣點(diǎn)位置處的多個(gè)目標(biāo)孔隙分量。其中，所述目標(biāo)孔隙分量為與所述孔隙分量劃分界限對應(yīng)的一種孔喉類型在所述油氣校正后的核磁測井t2譜上的孔隙分量其中，所述孔喉類型與所述目標(biāo)孔隙分量一一對應(yīng)?；谒瞿繕?biāo)孔隙分量和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，可以確定所述指定采樣點(diǎn)位置處的滲透率。

例如，圖6是本申請實(shí)施例中分別采用不同方法所確定的滲透率結(jié)果的對比示意圖。圖6中的滲透率曲線對應(yīng)的橫坐標(biāo)分別為新模型滲透率、ktim和ksdr，縱坐標(biāo)表示地層深度。其中，ktim和ksdr分別表示采用tim-coates模型和sdr模型確定的滲透率。圖6中黑色實(shí)線、灰色實(shí)線和灰色虛線分別表示采用新模型(即本申請方法)、sdr模型和tim-coates模型確定的目的儲層在目標(biāo)井位置處的各個(gè)采樣點(diǎn)位置處的滲透率結(jié)果。圖6中多條灰色直線表示采用實(shí)驗(yàn)室?guī)r心滲透率測試方法確定的滲透率結(jié)果。不僅如此，圖6中還包括所述油氣校正后的核磁測井t2譜，以及與油氣校正后的核磁測井t2譜對應(yīng)不同孔喉類型的孔隙分量，即微孔占比s1、小孔占比s2、中孔占比s3和大孔占比s4?？梢苑謩e計(jì)算采用本申請方法所確定的滲透率結(jié)果、采用sdr模型所確定的滲透率結(jié)果和采用tim-coates模型所確定的滲透率結(jié)果分別與采用實(shí)驗(yàn)室?guī)r心滲透率測試方法所確定的滲透率結(jié)果之間的皮爾森(pearson)相關(guān)系數(shù)，計(jì)算結(jié)果分別為0.69、0.53和0.56。其中，pearson相關(guān)系數(shù)越接近1，表示相關(guān)程度越高。同時(shí)，如圖5所示的滲透率對比結(jié)果，可以看出，采用本申請方法所確定的滲透率結(jié)果的精度較高。

所述確定儲層滲透率的方法實(shí)施例，基于毛管壓力曲線信息，可以確定孔喉類型劃分界限；基于孔喉類型劃分界限、巖心核磁t2譜和壓汞孔喉半徑分布曲線，可以確定與巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限；針對多個(gè)巖心中指定巖心，可以確定指定巖心的與孔隙分量劃分界限對應(yīng)的多種孔喉類型分別在指定巖心的核磁t2譜上的孔隙分量；可以建立指定巖心的滲透率與指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系；可以對采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，得到油氣校正后的核磁測井t2譜；基于油氣校正后的核磁測井t2譜和關(guān)聯(lián)關(guān)系，可以確定采樣點(diǎn)位置處的滲透率?？紤]了油氣校正后的核磁測井t2譜上不同孔隙分量對滲透率的貢獻(xiàn)，從而可以提高所確定的儲層滲透率的精度。

圖7是本申請確定儲層滲透率的裝置實(shí)施例的組成結(jié)構(gòu)圖。所述裝置提供目的儲層在目標(biāo)井位置處的核磁測井?dāng)?shù)據(jù)；其中，所述目的儲層在目標(biāo)井位置處包括多個(gè)采樣點(diǎn)，所述核磁測井?dāng)?shù)據(jù)包括多個(gè)采樣點(diǎn)位置處分別對應(yīng)的核磁測井t2譜；所述裝置還提供有所述目的儲層中的多個(gè)巖心在飽和水狀態(tài)下分別對應(yīng)的巖心核磁t2譜、毛管壓力曲線和壓汞孔喉半徑分布曲線。如圖7所示，所述裝置可以包括：孔喉界限確定模塊100、孔隙分量界限確定模塊200、孔隙分量確定模塊300、關(guān)聯(lián)關(guān)系建立模塊400、油氣校正模塊500和滲透率確定模塊600。

所述孔喉界限確定模塊100，可以用于基于所述毛管壓力曲線，確定孔喉類型劃分界限。

所述孔隙分量界限確定模塊200，用于基于所述孔喉類型劃分界限、所述巖心核磁t2譜和所述壓汞孔喉半徑分布曲線，確定與所述巖心核磁t2譜對應(yīng)的孔隙分量劃分界限。

所述孔隙分量確定模塊300，可以用于針對所述多個(gè)巖心中指定巖心，確定與所述孔隙分量劃分界限對應(yīng)的多種孔喉類型分別在所述指定巖心的巖心核磁t2譜上的孔隙分量。

所述關(guān)聯(lián)關(guān)系建立模塊400，可以用于建立所述指定巖心的滲透率與所述指定巖心的多個(gè)孔隙分量的關(guān)聯(lián)關(guān)系。

所述油氣校正模塊500，可以用于對所述采樣點(diǎn)位置處的核磁測井t2譜進(jìn)行油氣校正，得到油氣校正后的核磁測井t2譜。

所述滲透率確定模塊600，可以用于基于所述油氣校正后的核磁測井t2譜和所述關(guān)聯(lián)關(guān)系，確定所述采樣點(diǎn)位置處的滲透率。

所述確定儲層滲透率的裝置實(shí)施例與所述確定儲層滲透率的方法實(shí)施例相對應(yīng)，可以實(shí)現(xiàn)所述確定儲層滲透率的方法實(shí)施例，并取得方法實(shí)施例的技術(shù)效果。

在20世紀(jì)90年代，對于一個(gè)技術(shù)的改進(jìn)可以很明顯地區(qū)分是硬件上的改進(jìn)(例如，對二極管、晶體管、開關(guān)等電路結(jié)構(gòu)的改進(jìn))還是軟件上的改進(jìn)(對于方法流程的改進(jìn))。然而，隨著技術(shù)的發(fā)展，當(dāng)今的很多方法流程的改進(jìn)已經(jīng)可以視為硬件電路結(jié)構(gòu)的直接改進(jìn)。設(shè)計(jì)人員幾乎都通過將改進(jìn)的方法流程編程到硬件電路中來得到相應(yīng)的硬件電路結(jié)構(gòu)。因此，不能說一個(gè)方法流程的改進(jìn)就不能用硬件實(shí)體模塊來實(shí)現(xiàn)。例如，可編程邏輯器件(programmablelogicdevice,pld)(例如現(xiàn)場可編程門陣列(fieldprogrammablegatearray，fpga))就是這樣一種集成電路，其邏輯功能由用戶對器件編程來確定。由設(shè)計(jì)人員自行編程來把一個(gè)數(shù)字系統(tǒng)“集成”在一片pld上，而不需要請芯片制造廠商來設(shè)計(jì)和制作專用的集成電路芯片。而且，如今，取代手工地制作集成電路芯片，這種編程也多半改用“邏輯編譯器(logiccompiler)”軟件來實(shí)現(xiàn)，它與程序開發(fā)撰寫時(shí)所用的軟件編譯器相類似，而要編譯之前的原始代碼也得用特定的編程語言來撰寫，此稱之為硬件描述語言(hardwaredescriptionlanguage，hdl)，而hdl也并非僅有一種，而是有許多種，如abel(advancedbooleanexpressionlanguage)、ahdl(alterahardwaredescriptionlanguage)、confluence、cupl(cornelluniversityprogramminglanguage)、hdcal、jhdl(javahardwaredescriptionlanguage)、lava、lola、myhdl、palasm、rhdl(rubyhardwaredescriptionlanguage)等，目前最普遍使用的是vhdl(very-high-speedintegratedcircuithardwaredescriptionlanguage)與verilog2。本領(lǐng)域技術(shù)人員也應(yīng)該清楚，只需要將方法流程用上述幾種硬件描述語言稍作邏輯編程并編程到集成電路中，就可以很容易得到實(shí)現(xiàn)該邏輯方法流程的硬件電路。

本領(lǐng)域技術(shù)人員也知道，除了以純計(jì)算機(jī)可讀程序代碼方式實(shí)現(xiàn)控制器以外，完全可以通過將方法步驟進(jìn)行邏輯編程來使得控制器以邏輯門、開關(guān)、專用集成電路、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器等的形式來實(shí)現(xiàn)相同功能。因此這種控制器可以被認(rèn)為是一種硬件部件，而對其內(nèi)包括的用于實(shí)現(xiàn)各種功能的裝置也可以視為硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)?；蛘呱踔?，可以將用于實(shí)現(xiàn)各種功能的裝置視為既可以是實(shí)現(xiàn)方法的軟件模塊又可以是硬件部件內(nèi)的結(jié)構(gòu)。

上述實(shí)施例闡明的裝置、模塊，具體可以由計(jì)算機(jī)芯片或?qū)嶓w實(shí)現(xiàn)，或者由具有某種功能的產(chǎn)品來實(shí)現(xiàn)。

為了描述的方便，描述以上裝置時(shí)以功能分為各種模塊分別描述。當(dāng)然，在實(shí)施本申請時(shí)可以把各模塊的功能在同一個(gè)或多個(gè)軟件和/或硬件中實(shí)現(xiàn)。

通過以上的實(shí)施方式的描述可知，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到本申請可借助軟件加必需的通用硬件平臺的方式來實(shí)現(xiàn)?；谶@樣的理解，本申請的技術(shù)方案本質(zhì)上或者說對現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻(xiàn)的部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來，在一個(gè)典型的配置中，計(jì)算設(shè)備包括一個(gè)或多個(gè)處理器(cpu)、輸入/輸出接口、網(wǎng)絡(luò)接口和內(nèi)存。該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品可以包括若干指令用以使得一臺計(jì)算機(jī)設(shè)備(可以是個(gè)人計(jì)算機(jī)，服務(wù)器，或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本申請各個(gè)實(shí)施例或者實(shí)施例的某些部分所述的方法。該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品可以存儲在內(nèi)存中，內(nèi)存可能包括計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)中的非永久性存儲器，隨機(jī)存取存儲器(ram)和/或非易失性內(nèi)存等形式，如只讀存儲器(rom)或閃存(flashram)。內(nèi)存是計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)的示例。計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)包括永久性和非永久性、可移動和非可移動媒體可以由任何方法或技術(shù)來實(shí)現(xiàn)信息存儲。信息可以是計(jì)算機(jī)可讀指令、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)、程序的模塊或其他數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)的存儲介質(zhì)的例子包括，但不限于相變內(nèi)存(pram)、靜態(tài)隨機(jī)存取存儲器(sram)、動態(tài)隨機(jī)存取存儲器(dram)、其他類型的隨機(jī)存取存儲器(ram)、只讀存儲器(rom)、電可擦除可編程只讀存儲器(eeprom)、快閃記憶體或其他內(nèi)存技術(shù)、只讀光盤只讀存儲器(cd-rom)、數(shù)字多功能光盤(dvd)或其他光學(xué)存儲、磁盒式磁帶，磁帶磁磁盤存儲或其他磁性存儲設(shè)備或任何其他非傳輸介質(zhì)，可用于存儲可以被計(jì)算設(shè)備訪問的信息。按照本文中的界定，計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)不包括短暫電腦可讀媒體(transitorymedia)，如調(diào)制的數(shù)據(jù)信號和載波。

本說明書中的各個(gè)實(shí)施例均采用遞進(jìn)的方式描述，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似的部分互相參見即可，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處。尤其，對于裝置實(shí)施例而言，由于其基本相似于方法實(shí)施例，所以描述的比較簡單，相關(guān)之處參見方法實(shí)施例的部分說明即可。

本申請可用于眾多通用或?qū)Ｓ玫挠?jì)算機(jī)系統(tǒng)環(huán)境或配置中。例如：個(gè)人計(jì)算機(jī)、服務(wù)器計(jì)算機(jī)、手持設(shè)備或便攜式設(shè)備、平板型設(shè)備、多處理器系統(tǒng)、基于微處理器的系統(tǒng)、置頂盒、可編程的消費(fèi)電子設(shè)備、網(wǎng)絡(luò)pc、小型計(jì)算機(jī)、大型計(jì)算機(jī)、包括以上任何系統(tǒng)或設(shè)備的分布式計(jì)算環(huán)境等等。

本申請可以在由計(jì)算機(jī)執(zhí)行的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令的一般上下文中描述，例如程序模塊。一般地，程序模塊包括執(zhí)行特定任務(wù)或?qū)崿F(xiàn)特定抽象數(shù)據(jù)類型的例程、程序、對象、組件、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)等等。也可以在分布式計(jì)算環(huán)境中實(shí)踐本申請，在這些分布式計(jì)算環(huán)境中，由通過通信網(wǎng)絡(luò)而被連接的遠(yuǎn)程處理設(shè)備來執(zhí)行任務(wù)。在分布式計(jì)算環(huán)境中，程序模塊可以位于包括存儲設(shè)備在內(nèi)的本地和遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)存儲介質(zhì)中。

雖然通過實(shí)施例描繪了本申請，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員知道，本申請有許多變形和變化而不脫離本申請的精神，希望所附的權(quán)利要求包括這些變形和變化而不脫離本申請的精神。