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消解罐減壓趕酸用密封蓋的制作方法

文檔序號:12817149閱讀:346來源:國知局
消解罐減壓趕酸用密封蓋的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及一種密封蓋,特別是涉及一種用于減壓趕酸消解罐上的的四氟密封蓋。



背景技術(shù):

在進(jìn)行消解實(shí)驗(yàn)時(shí)需要加熱消解罐使酸液蒸發(fā)至近干,再對消解罐內(nèi)殘留液體中的重金屬成分進(jìn)行檢測;現(xiàn)有的趕酸裝置多為敞口設(shè)計(jì),酸霧直接揮發(fā)會損害實(shí)驗(yàn)人員健康,污染實(shí)驗(yàn)室和大氣環(huán)境,造成實(shí)驗(yàn)室設(shè)備被酸腐蝕。因此,需要一種能夠密封的減壓蒸酸設(shè)備,保護(hù)實(shí)驗(yàn)室人員和實(shí)驗(yàn)環(huán)境。在蒸發(fā)過程中還需向消解罐內(nèi)通入氮?dú)膺M(jìn)行氮吹輔助酸液蒸發(fā)。另外,現(xiàn)有消解罐的口蓋為圓柱形,不利于消解罐的密封。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種消解罐減壓趕酸用密封蓋,以解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,其設(shè)置有兩個(gè)進(jìn)出口管路,避免蒸發(fā)出的酸液和通入消解罐內(nèi)的氮?dú)饣ハ喔蓴_。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下方案:一種消解罐減壓趕酸用密封蓋,包括蓋板及設(shè)置于所述蓋板底面上的若干個(gè)口蓋,所述蓋板上設(shè)有排氣總口及進(jìn)氣總口,各所述口蓋上均開有一進(jìn)氣口及一排氣口,所述蓋板上設(shè)置有相互隔離的下層流道及上層流道,所述下層流道連通所述排氣總口與各所述口蓋的排氣口,所述上層流道連通所述進(jìn)氣總口與各所述口蓋的進(jìn)氣口。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,所述下層流道包括下層總流道及若干個(gè)下層支流道,所述下層支流道的數(shù)量和所述口蓋的數(shù)量相同,各所述下層支流道一端和所述下層總流道連通、另一端和一個(gè)所述口蓋的排氣口連通,所述下層總流道連通所述排氣總口,所述上層流道包括上層總流道及若干個(gè)上層支流道,所述上層支流道的數(shù)量和所述口蓋的數(shù)量相同,各所述上層支流道一端和所述上層總流道連通、另一端和一個(gè)所述口蓋的進(jìn)氣口連通,所述上層總流道連通所述進(jìn)氣總口。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,各所述下層支流道的長度相等。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,各所述上層支流道的長度相等。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,所述下層總流道、上層總流道、各所述下層支流道、上層支流道均為開設(shè)在所述蓋板上的槽。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,各所述口蓋均為錐形。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,各所述口蓋可拆卸安裝于所述蓋板上。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,所述蓋板由聚四氟乙烯制成。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,所述排氣總口及進(jìn)氣總口上均設(shè)置有開關(guān)閥。

本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其中,所述蓋板的底面上安裝有液位傳感器。

本發(fā)明相對于現(xiàn)有技術(shù)取得了以下技術(shù)效果:由于本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋的蓋板上設(shè)置有相互隔離的下層流道及上層流道,下層流道連通排氣總口與口蓋的排氣口,上層流道連通進(jìn)氣總口與口蓋的進(jìn)氣口,使蒸發(fā)出的酸液經(jīng)下層流道流出,通入消解罐的氮?dú)饨?jīng)上層流道流入,避免交叉干擾。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋的立體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋的下層流道的平面結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋的上層流道的立體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4為本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋的上層流道的平面結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

如圖1所示,本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋包括蓋板11及設(shè)置于蓋板11底面上的若干個(gè)口蓋12,各口蓋12上均開有一進(jìn)氣口121及一排氣口122,蓋板11上設(shè)置有相互隔離的下層流道及上層流道,如圖2所示,下層流道包括下層總流道131及若干個(gè)下層支流道132,下層支流道132的數(shù)量和口蓋12的數(shù)量相同,各下層支流道132一端和下層總流道131連通、另一端和一個(gè)口蓋12的排氣口122連通,各下層支流道132的長度相等,下層總流道131設(shè)置于蓋板11的一側(cè)邊,并且下層總流道131連通排氣總口14,如圖3、4所示,上層流道包括上層總流道141及若干個(gè)上層支流道142,上層支流道142的數(shù)量和口蓋12的數(shù)量相同,各上層支流道142一端和上層總流道141連通、另一端和一個(gè)口蓋12的進(jìn)氣口121連通,各上層支流道142的長度相等,上層總流道141設(shè)置于蓋板11的一側(cè)邊,并且上層總流道141連通進(jìn)氣總口15。

如圖2、3、4所示,下層總流道131、上層總流道141、各下層支流道132、上層支流道142均為開設(shè)在蓋板11上的槽,蓋板11由聚四氟乙烯制成,避免受酸堿腐蝕。

另外,各口蓋12均通過螺紋可拆卸安裝于蓋板11上,可針對不同的消解罐更換相應(yīng)的口蓋,并且口蓋也可拆下統(tǒng)一清洗。

各口蓋12均為錐形,錐形的口蓋與設(shè)置于消解罐底部的彈簧配合,可更方便地壓住消解罐實(shí)現(xiàn)消解罐的密封。

排氣總口14及進(jìn)氣總口15上均設(shè)置有開關(guān)閥,在消解過程中可將開關(guān)閥關(guān)閉,使消解罐內(nèi)的試樣充分消解。

蓋板11的底面上還安裝有液位傳感器,便于檢測消解罐內(nèi)的液位,方便實(shí)驗(yàn)。

在實(shí)驗(yàn)過程中,消解罐內(nèi)蒸發(fā)出的酸液經(jīng)各口蓋12上的排氣口流入各自對應(yīng)的下層支流道132,再匯入下層總流道131,經(jīng)排氣總口14排出,用于氮吹的氮?dú)饨?jīng)進(jìn)氣總口15流入上層總流道141,再經(jīng)各上層支流道142、各口蓋12上的進(jìn)氣口流入消解罐內(nèi),由于各下層支流道132的長度相等,使各消解罐內(nèi)的酸液蒸發(fā)速度基本相同,各消解罐的蒸發(fā)過程基本同步進(jìn)行,各上層支流道142長度相等,各消解罐的氮吹過程也基本同步進(jìn)行。

本發(fā)明中應(yīng)用了具體個(gè)例對本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述,以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想;同時(shí),對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員,依據(jù)本發(fā)明的思想,在具體實(shí)施方式及應(yīng)用范圍上均會有改變之處。綜上所述,本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種消解罐減壓趕酸用密封蓋,包括蓋板及設(shè)置于所述蓋板底面上的若干個(gè)口蓋,所述蓋板上設(shè)有排氣總口及進(jìn)氣總口,各所述口蓋上均開有一進(jìn)氣口及一排氣口,所述蓋板上設(shè)置有相互隔離的下層流道及上層流道,所述下層流道連通所述排氣總口與所述口蓋的排氣口,所述上層流道連通所述進(jìn)氣總口與所述口蓋的進(jìn)氣口。本發(fā)明消解罐減壓趕酸用密封蓋,其設(shè)置有兩個(gè)進(jìn)出口管路,避免蒸發(fā)出的酸液和通入消解罐內(nèi)的氮?dú)饣ハ喔蓴_。

技術(shù)研發(fā)人員:劉鑫;高峰;趙喜斌
受保護(hù)的技術(shù)使用者:北京赤帝鴻鵠科技有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.01
技術(shù)公布日:2017.07.11
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