1.一種地質(zhì)剖面測(cè)量裝置，設(shè)置有測(cè)量支架、支撐板，其特征在于，所述測(cè)量支架設(shè)有上支架與下支架，下支架穿設(shè)于上支架內(nèi)腔；所述支撐板頂部設(shè)有可調(diào)三腳架；所述可調(diào)三腳架頂部設(shè)有固定座；所述固定座頂部設(shè)有手持激光紅外線測(cè)距儀。
2.如權(quán)利要求1所述的地質(zhì)剖面測(cè)量裝置，其特征在于，所述上支架兩側(cè)從上到下均設(shè)有若干卡孔，所述下支架兩側(cè)均設(shè)有彈簧，且所述彈簧一側(cè)連接卡塊；
所述下支架底部固定設(shè)有帶尖鐵杵；所述上支架中部設(shè)有羅盤，所述上支架頂部設(shè)有支撐板；
所述固定座由底板與兩個(gè)側(cè)板組成，所述側(cè)板相對(duì)應(yīng)位置分別設(shè)有彈片，所述彈片一側(cè)與側(cè)板固定連接，所述彈片另一側(cè)與手持激光紅外線測(cè)距儀按壓連接。
3.如權(quán)利要求2所述的地質(zhì)剖面測(cè)量裝置，其特征在于，所述卡塊與卡孔嵌套連接，且卡塊外壁上還設(shè)有防滑紋理。
4.如權(quán)利要求2所述的地質(zhì)剖面測(cè)量裝置，其特征在于，所述羅盤采用電子羅盤。
5.如權(quán)利要求1所述的地質(zhì)剖面測(cè)量裝置，其特征在于，所述手持激光紅外線測(cè)距儀一側(cè)設(shè)有紅外線束發(fā)射點(diǎn)。
6.如權(quán)利要求1所述的地質(zhì)剖面測(cè)量裝置，其特征在于，所述支撐板兩側(cè)還設(shè)有擋板。