本實(shí)用新型涉及一種工業(yè)機(jī)臺，更具體地，涉及一種內(nèi)部具有操作及維護(hù)接口的工業(yè)機(jī)臺。

背景技術(shù)：

目前工業(yè)中所使用具有高溫模塊的工業(yè)機(jī)臺，常會發(fā)生內(nèi)部電路模塊受到高溫模塊的高溫影響而無法正常運(yùn)作，舉例而言，用于對氣體中揮發(fā)性有機(jī)物質(zhì)的組成進(jìn)行量測的工業(yè)機(jī)臺，內(nèi)部會設(shè)置以烘箱為主的高溫模塊，以對樣品氣體提供高溫的量測環(huán)境，使得火焰離子氣相層析儀(簡稱GC-FID)，可以通過火焰將揮發(fā)性有機(jī)物質(zhì)離子化，而利用離子的可導(dǎo)電特性偵測電子信號，經(jīng)放大電路組件輸出信號，而可換算得到例如氣體環(huán)境中揮發(fā)性有機(jī)物質(zhì)的濃度等參數(shù)，借以判斷氣體環(huán)境中的氣體是否符合排放標(biāo)準(zhǔn)。然而，烘箱運(yùn)行時(shí)的熱量會逸散在工業(yè)機(jī)臺中，使得工業(yè)機(jī)臺內(nèi)部的電路模塊會處于高溫環(huán)境，而無法正常運(yùn)作甚至損壞，因此，如何降低工業(yè)機(jī)臺內(nèi)高溫模塊的高溫對電路模塊的影響，遂為現(xiàn)在業(yè)者所關(guān)注的技術(shù)議題。

再者，當(dāng)前工業(yè)機(jī)臺并無設(shè)計(jì)專屬空間，以進(jìn)行各項(xiàng)目的操作與維護(hù)，隨著土地取得成本居高不下，導(dǎo)致目前工業(yè)機(jī)臺的裝設(shè)空間有限，使得工業(yè)機(jī)臺各項(xiàng)目的操作與維護(hù)出現(xiàn)困難，因此，如何調(diào)整工業(yè)機(jī)臺的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使工業(yè)機(jī)臺各項(xiàng)目的操作或維護(hù)容易，為現(xiàn)在業(yè)者所關(guān)注的另一技術(shù)議題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于上述先前技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型提供一種內(nèi)部具有操作及維護(hù)接口的工業(yè)機(jī)臺，包括機(jī)臺本體、送氣模塊、上蓋體以及控制模塊。機(jī)臺本體具有電路模塊、高溫模塊、操作接口、維護(hù)接口、第一擋墻與第二擋墻。第一擋墻與第二擋墻將機(jī)臺本體的內(nèi)部空間區(qū)隔成第一空間、第二空間與第三空間。電路模塊位于第一空間。高溫模塊位于第二空間。操作接口與維護(hù)接口位于第三空間。操作接口用于操作電路模塊或高溫模塊的運(yùn)作。維護(hù)接口供維護(hù)電路模塊或高溫模塊。送氣模塊運(yùn)行時(shí)對第一空間送氣。上蓋體在機(jī)臺本體的上方遮蔽第一空間與第二空間，且具有出氣口，出氣口位在第二空間的高溫模塊的上方。側(cè)壁體于機(jī)臺本體的側(cè)邊遮蔽或開放第三空間，以遮蔽或外露操作接口與維護(hù)接口?？刂颇K令送氣模塊運(yùn)行，使第一空間的氣壓大于第二空間的氣壓，而產(chǎn)生由第一空間進(jìn)入第二空間朝出氣口流動的氣流，以借由出氣口的出氣，而逸散電路模塊與高溫模塊運(yùn)行時(shí)所產(chǎn)生的熱量。

可選擇性地，第一擋墻背離送氣模塊的一側(cè)具有氣流流動通道，從而提供第一空間的氣流流動到第二空間的通道。側(cè)壁體具有顯示面板，顯示面板于該側(cè)壁體遮蔽該第三空間時(shí)，顯示該電路模塊或該高溫模塊的運(yùn)行狀態(tài)。高溫模塊具有烘箱，烘箱運(yùn)行時(shí)用于對標(biāo)準(zhǔn)氣體與樣品氣體提供高溫量測環(huán)境。機(jī)臺本體還具有標(biāo)氣導(dǎo)入管路、樣氣導(dǎo)入管路與標(biāo)氣流量傳感器。樣氣導(dǎo)入管路引導(dǎo)樣品氣體進(jìn)入烘箱。標(biāo)氣導(dǎo)入管路引導(dǎo)標(biāo)準(zhǔn)氣體進(jìn)入烘箱。標(biāo)氣流量傳感器感測標(biāo)氣導(dǎo)入管路的標(biāo)準(zhǔn)氣體流量。當(dāng)標(biāo)氣導(dǎo)入管路感測到的標(biāo)準(zhǔn)氣體流量實(shí)質(zhì)為零時(shí)，控制模塊令烘箱停止運(yùn)行。

可選擇性地，樣氣導(dǎo)入管路具有至少一個(gè)S形狀的彎曲段。樣氣導(dǎo)入管路具有加溫模塊。加溫模塊對樣氣導(dǎo)入管路所引導(dǎo)的樣品氣體提供加溫，以避免樣品氣體凝結(jié)于樣氣導(dǎo)入管路的內(nèi)壁面。烘箱包括箱體、箱門、烘熱模塊以及溫控模塊。箱體具有箱體本體、箱體電連接器、箱體內(nèi)壁、箱體導(dǎo)軌、第一箱體口與第二箱體口。第一箱體口與第二箱體口相連通，且分別形成于箱體本體的第一側(cè)面與第二側(cè)面。第一側(cè)面與第二側(cè)面相鄰接。箱門具有箱門本體、箱門電連接器、箱門內(nèi)壁、箱門外壁、隔熱件與箱門口。隔熱件位于箱門內(nèi)壁與箱門外壁之間，以阻隔箱門內(nèi)壁與箱門外壁之間的熱量傳導(dǎo)。箱門外壁具有箱門導(dǎo)軌。箱門導(dǎo)軌與箱體導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)配合，從而引導(dǎo)箱門本體進(jìn)入箱體本體中，直到箱門本體抵靠箱體內(nèi)壁，而通過箱門本體封閉第一箱體口與第二箱體口，以在箱體本體與箱門本體間形成烘熱腔室，并達(dá)成箱體電連接器與箱門電連接器的電性連接。烘熱模塊設(shè)置于箱門內(nèi)壁，用于烘熱以對烘熱腔室提供高溫量測環(huán)境，并可在箱門本體離開箱體本體后通過箱門口而外露。溫控模塊于箱體電連接器與箱門電連接器電性連接時(shí)，控制烘熱模塊的運(yùn)行，使烘熱腔室提供高溫量測環(huán)境，并可在箱門本體離開箱體本體后通過第一箱體口與第二箱體口而外露。

可選擇性地，箱門外壁還設(shè)置有箱門把手，箱門把手位于第三空間，從而于側(cè)壁體側(cè)向開放第三空間時(shí)，提供施力使箱門本體離開或進(jìn)入箱體本體。還包括溫度安全模塊，溫度安全模塊設(shè)置于箱門本體上，當(dāng)烘熱腔室的高溫環(huán)境溫度高于安全溫度時(shí)，溫度安全模塊令烘熱模塊停止烘熱。箱體還具有彈性模塊，彈性模塊得對箱體本體提供彈力，使箱體內(nèi)壁緊密抵靠箱門本體，以減少箱體內(nèi)壁與箱門本體間的間隙，而減少烘熱腔室的熱能逸散。還具有限制模塊，當(dāng)箱門本體進(jìn)入箱體本體而抵靠箱體內(nèi)壁，且箱體電連接器與箱門電連接器電性連接時(shí)，限制模塊得限制箱體本體與箱門本體的相對移動。

相較于先前技術(shù)，本實(shí)用新型的工業(yè)機(jī)臺通過隔板，隔開高溫模塊與電路模塊，并在機(jī)臺內(nèi)部提供由電路模塊流向高溫模塊的氣流，以解決工業(yè)機(jī)臺內(nèi)高溫模塊的高溫對電路模塊所造成的影響，并在工業(yè)機(jī)臺的內(nèi)部隔出用于操作或維護(hù)的專屬空間，且在該專屬空間中設(shè)置操作接口與維護(hù)接口，使得工業(yè)機(jī)臺能裝設(shè)于空間狹小的環(huán)境中。另外，本實(shí)用新型還對工業(yè)機(jī)臺內(nèi)高溫模塊的結(jié)構(gòu)進(jìn)行設(shè)計(jì)，以借由減小高溫模塊的體積，而達(dá)成縮小工業(yè)機(jī)臺體積的目的。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型內(nèi)部具有操作及維護(hù)接口的工業(yè)機(jī)臺的一個(gè)實(shí)施例的外觀圖。

圖2為圖1所示的內(nèi)部具有操作及維護(hù)接口的工業(yè)機(jī)臺部分構(gòu)件的分解圖。

圖3為圖1所示的內(nèi)部具有操作及維護(hù)接口的工業(yè)機(jī)臺卸除上蓋體后的上視圖。

圖4為圖1所示的內(nèi)部具有操作及維護(hù)接口的工業(yè)機(jī)臺在一空間中外露操作接口與維護(hù)接口的示意圖。

圖5為圖1所示的內(nèi)部具有操作及維護(hù)接口的工業(yè)機(jī)臺的高溫模塊的外觀圖。

圖6a為圖5所示的高溫模塊的截面圖。

圖6b為圖6a中A區(qū)域的放大圖。

圖7為圖5所示的高溫模塊在一視角的部分構(gòu)件的分解圖。

圖8為圖5所示的高溫模塊在另一視角的部分構(gòu)件的分解圖。

圖9為圖5所示的高溫模塊的箱體的側(cè)視圖。

圖10為圖5所示的高溫模塊的箱門在一視角的外觀圖。

圖11為圖5所示的高溫模塊的箱門在另一視角的外觀圖。

圖12為圖5所示的高溫模塊的箱門的截面圖。

附圖標(biāo)記說明

1工業(yè)機(jī)臺；11機(jī)臺本體；111電路模塊；112高溫模塊；1121箱體；11211箱本體；11212箱體電連接器；11213箱體內(nèi)壁；11214箱體導(dǎo)軌；11215第一箱體口；11216第二箱體口；1122箱門；11221箱門本體；11222箱門電連接器；11223箱門內(nèi)壁；11224箱門外壁；112241箱門導(dǎo)軌；112242箱門把手；11225隔熱件；11226箱門口；1123烘熱模塊；1125溫度安全模塊；1126彈性模塊；1127限制模塊；1128指示模塊；113操作接口；114維護(hù)接口；115第一擋墻；1151氣流流動通道；116第二擋墻；117標(biāo)氣導(dǎo)入管路；118標(biāo)氣流量傳感器；119樣氣導(dǎo)入管路；1191彎曲段；1192加溫模塊；12送氣模塊；13上蓋體；131出氣口；14側(cè)壁體；141顯示面板；15控制模塊；S1第一空間；S2第二空間；S3第三空間；S4烘熱腔室。

具體實(shí)施方式

以下內(nèi)容將搭配圖式，借由特定的具體實(shí)施例說明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容，熟悉此技術(shù)之人士可由本說明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本實(shí)用新型也可借由其他不同的具體實(shí)施例加以施行或應(yīng)用。本說明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在不背離本實(shí)用新型的精神下，進(jìn)行各種修飾與變更。尤其是，在圖式中各個(gè)組件的比例關(guān)及相對位置僅具示范性用途，并非代表本實(shí)用新型實(shí)施的實(shí)際狀況。

本實(shí)用新型針對工業(yè)機(jī)臺進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，以解決工業(yè)機(jī)臺內(nèi)高溫模塊的高溫對電路模塊所造成的影響，并為工業(yè)機(jī)臺的操作或維護(hù)設(shè)置專屬空間，且在該專屬空間中設(shè)置操作接口與維護(hù)接口，使得工業(yè)機(jī)臺能裝設(shè)于空間狹小的環(huán)境中。另外，本實(shí)用新型還對工業(yè)機(jī)臺內(nèi)高溫模塊的結(jié)構(gòu)進(jìn)行設(shè)計(jì)，借由縮小高溫模塊的體積，而達(dá)成縮小工業(yè)機(jī)臺體積的目的。

針對本實(shí)用新型工業(yè)機(jī)臺的特征揭露，以下以用于對氣體中揮發(fā)性有機(jī)物質(zhì)的組成進(jìn)行量測的工業(yè)機(jī)臺為實(shí)施例進(jìn)行說明，請一并參閱圖1至圖12，如各圖所示，本實(shí)用新型的工業(yè)機(jī)臺1包括有機(jī)臺本體11、送氣模塊12、上蓋體13、側(cè)壁體14以及控制模塊15。機(jī)臺本體11具有電路模塊111、高溫模塊112、操作接口113、維護(hù)接口114、第一擋墻115與第二擋墻116。第一擋墻115與第二擋墻116可垂直相交，而將機(jī)臺本體11的內(nèi)部空間區(qū)隔出第一空間S1、第二空間S2與第三空間S3。

如圖3所示，電路模塊111位于第一空間S1。高溫模塊112位于第二空間S2。第一擋墻115隔開電路模塊111與高溫模塊112，而避免高溫模塊112運(yùn)行時(shí)的高溫，影響電路模塊111的正常運(yùn)行。如圖3所示的一個(gè)實(shí)施例中，高溫模塊112包含有烘箱，所述烘箱運(yùn)行時(shí)用于對樣品氣體提供高溫量測環(huán)境，使得火焰離子氣相層析儀，可以通過火焰將揮發(fā)性有機(jī)物質(zhì)離子化，相應(yīng)地，機(jī)臺本體11設(shè)置有標(biāo)氣導(dǎo)入管路117與標(biāo)氣流量傳感器118。標(biāo)氣導(dǎo)入管路117引導(dǎo)標(biāo)準(zhǔn)氣體進(jìn)入烘箱。標(biāo)氣流量傳感器118感測標(biāo)氣導(dǎo)入管路117的標(biāo)準(zhǔn)氣體流量，當(dāng)標(biāo)氣流量傳感器118感測到的標(biāo)準(zhǔn)氣體流量實(shí)質(zhì)為零時(shí)，控制模塊15令烘箱停止運(yùn)行，進(jìn)而避免烘箱發(fā)生干燒的狀況。

可選擇性地，機(jī)臺本體11還設(shè)置有樣氣導(dǎo)入管路119，其中，樣氣導(dǎo)入管路119用于引導(dǎo)樣品氣體進(jìn)入烘箱，如圖2所示，樣氣導(dǎo)入管路119包含至少一彎曲段1191與加溫模塊1192。加溫模塊1192對樣氣導(dǎo)入管路119所引導(dǎo)的樣品氣體提供加溫，而避免樣品氣體凝結(jié)在樣氣導(dǎo)入管路119的內(nèi)壁面，而影響工業(yè)機(jī)臺1的正常運(yùn)行，而彎曲段1191例如具有S形狀，以在受力時(shí)提供彎曲變形，而補(bǔ)償樣氣導(dǎo)入管路119的高溫變形量。在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，加溫模塊1192為包覆在樣氣導(dǎo)入管119管壁上的加熱構(gòu)件。

如圖2所示，操作接口113用于操作電路模塊111或高溫模塊112的各項(xiàng)運(yùn)作，舉例而言，操作接口113可對電路模塊111或高溫模塊112的各項(xiàng)運(yùn)作輸入操作指令。維護(hù)接口114供維護(hù)電路模塊111或高溫模塊112，以確保電路模塊111與高溫模塊112運(yùn)行正常。操作接口113與維護(hù)接口114設(shè)置于第二擋墻116并位于專屬的第三空間S3，而有助于對電路模塊111或高溫模塊112進(jìn)行各項(xiàng)目的操作與維護(hù)。上蓋體13在機(jī)臺本體11的上方遮蔽第一空間S1與第二空間S2，以對電路模塊111與高溫模塊112提供遮蔽與保護(hù)。

如圖1所示，側(cè)壁體14設(shè)置于機(jī)臺本體11的一側(cè)邊，以遮蔽機(jī)臺本體11內(nèi)部的第三空間S3，然而，如圖2所示，側(cè)壁體14也可開放機(jī)臺本體11內(nèi)部的第三空間S3。在圖2所示的實(shí)施例中，側(cè)壁體14具有顯示面板141。當(dāng)側(cè)壁體14遮蔽第三空間S3時(shí)，遮蔽第三空間S3的操作接口113與維護(hù)接口114，而對操作接口113與維護(hù)接口114提供保護(hù)，并可通過顯示面板141顯示電路模塊111或高溫模塊112的運(yùn)行狀態(tài)。當(dāng)側(cè)壁體14開放第三空間S3時(shí)，開放操作接口113與維護(hù)接口114，而讓操作者可在機(jī)臺本體11的單一側(cè)，通過開放的第三空間S3，借由操作接口113操作電路模塊111或高溫模塊112的運(yùn)作，借由維護(hù)接口114維護(hù)電路模塊111或高溫模塊112。

送氣模塊12可選擇由風(fēng)扇所構(gòu)成，在運(yùn)行時(shí)對第一空間S1送氣，以提高第一空間S1的氣壓并帶走熱量。如圖4所示，上蓋體13具有出氣口131，出氣口131位于第二空間S2的高溫模塊112的上方。在本實(shí)用新型中，控制模塊15令送氣模塊12運(yùn)行，使第一空間S1的氣壓大于第二空間S2的氣壓，而產(chǎn)生由第一空間S1進(jìn)入第二空間S2朝出氣口131流動的氣流(氣流的流動方向于圖3中以箭頭示意)，以在機(jī)臺內(nèi)部提供由電路模塊111流向高溫模塊112的氣流，并借由出氣口131的出氣，而逸散電路模塊111與高溫模塊112運(yùn)行時(shí)所產(chǎn)生的熱量。可選擇性地，如圖2所示，第一擋墻115背離送氣模塊12的一側(cè)具有氣流流動通道1151，從而提供第一空間S1的氣流流動到第二空間S2的通道。

在圖7、圖8所示的實(shí)施例中，高溫模塊112的烘箱包括箱體1121、箱門1122、烘熱模塊1123與溫控模塊。箱體1121具有箱體本體11211、箱體電連接器11212、箱體內(nèi)壁11213、箱體導(dǎo)軌11214、第一箱體口11215與第二箱體口11216。箱體導(dǎo)軌11214可為板狀體。如圖7所示，虛線表示的第一箱體口11215與第二箱體口11216相連通，而使第一箱體口11215與第二箱體口11216合并，成為口徑大于第一箱體口11215與第二箱體口11216的入口，而讓操作者可經(jīng)由該入口對箱體本體11211內(nèi)的構(gòu)件進(jìn)行維護(hù)、更新、調(diào)整或操作。因此，本實(shí)用新型烘箱即便設(shè)置的箱體口不大，也能對箱體本體11211內(nèi)的構(gòu)件進(jìn)行維護(hù)、更新、調(diào)整或操作，使得本實(shí)用新型烘箱的體積可有效縮小。

如圖6a所示，箱門1122用于跟箱體1121搭配而形成可提供高溫環(huán)境的烘熱腔室S4，以對待烘物進(jìn)行烘熱。在本實(shí)用新型中，如圖6a、圖7、圖8所示，箱門1122具有箱門本體11221、箱門電連接器11222、箱門內(nèi)壁11223、箱門外壁11224、隔熱件11225與箱門口11226。隔熱件11225位于箱門內(nèi)壁11223與箱門外壁11224之間，以阻隔箱門內(nèi)壁11223與箱門外壁11224間的熱傳導(dǎo)，如此，可避免箱門內(nèi)壁11223的熱能經(jīng)由箱門外壁11224而逸散，從而節(jié)約烘箱的能耗。

此外，本實(shí)施例的隔熱件11225可由例如鐵氟龍(即聚四氟乙烯)的隔熱材料制成，且如圖6a所示，本實(shí)施例的隔熱件11225為柱狀體。本實(shí)施例的箱門1122還可設(shè)置箱門把手112242，箱門把手112242外露于箱門外壁11224，從而提供施力而使箱門本體11221離開或進(jìn)入箱體本體11211，以進(jìn)行烘箱的各種操作。

如圖7與圖11所示，箱門外壁11224具有箱門導(dǎo)軌112241。箱門導(dǎo)軌112241可為板狀體。箱門導(dǎo)軌112241與箱體導(dǎo)軌11214結(jié)構(gòu)配合，從而引導(dǎo)箱門本體11221如圖6a進(jìn)入箱體本體11211中，直到箱門本體11221抵靠箱體內(nèi)壁11213，而通過箱門本體11221封閉第一箱體口11215與第二箱體口11216，以在箱體本體11211與箱門本體11221間形成烘熱腔室S4，并同時(shí)達(dá)成箱體電連接器11212與箱門電連接器11222的電性連接，以為烘箱的運(yùn)作提供電能。于圖7與圖11所示的實(shí)施例中，箱體導(dǎo)軌11214可設(shè)置箱體引導(dǎo)斜面，箱門導(dǎo)軌112241可設(shè)置箱門引導(dǎo)斜面，從而借由斜面引導(dǎo)箱體導(dǎo)軌11214與箱門導(dǎo)軌112241的結(jié)構(gòu)配合，但不以此為限。

如圖6a與圖6b所示，本實(shí)施例高溫模塊112烘箱的箱體1121還可具有分別連接箱體本體11211與箱體內(nèi)壁11213的彈性模塊1126，其中，彈性模塊1126可得到箱體本體11211的支撐而對箱體內(nèi)壁11213提供彈力，使箱體內(nèi)壁11213朝箱門本體11221的方向移動，而使箱體內(nèi)壁11213緊密抵靠箱門本體11221，借以減少箱體內(nèi)壁11213與箱門本體11221間的間隙，而減少烘熱腔室S4的熱能逸散，以符合節(jié)能的環(huán)保要求?？蛇x擇性地，彈性模塊1126可由多個(gè)例如為螺旋彈簧的彈性體所構(gòu)成，以分別在隔開的不同位置對箱體內(nèi)壁11213提供彈力。

烘熱模塊1123用于提供熱能以對烘熱腔室S4提供高溫環(huán)境，于圖8所示的一實(shí)施例中，烘熱模塊1123設(shè)置于箱門內(nèi)壁11223，而可在箱門本體11221離開箱體本體11211后通過箱門口11226而外露，使可經(jīng)由箱門口11226進(jìn)行維護(hù)、更新、調(diào)整或操作。因此，本實(shí)施例的箱體1121毋須為烘熱模塊1123的維護(hù)、更新、調(diào)整或操作預(yù)留空間，而造成本實(shí)用新型烘箱的體積可大幅減少而便于使用，并造成烘熱腔室的尺寸縮小而降低烘熱模塊1123運(yùn)行時(shí)的能耗。

溫控模塊于箱體電連接器11212與箱門電連接器11222電性連接時(shí)，控制烘熱模塊1123的運(yùn)行，使烘熱腔室S4提供高溫環(huán)境。于圖6a所示的實(shí)施例中，烘箱還在箱門本體11221上設(shè)置例如由溫度保險(xiǎn)絲構(gòu)成的溫度安全模塊1125，當(dāng)烘熱腔室S4的高溫環(huán)境溫度高于一安全溫度時(shí)，溫度安全模塊1125令烘熱模塊1123停止烘熱，而避免烘熱腔室S4的高溫環(huán)境溫度過高而發(fā)生危險(xiǎn)或造成機(jī)臺的運(yùn)作異常。

另外，如圖5所示的實(shí)施例的烘箱還可設(shè)置例如為扣具的限制模塊1127與例如為燈具的指示模塊1128。所述的限制模塊1127與指示模塊1128設(shè)置于機(jī)箱本體11211的操作接口113，而使操作者便于通過第三空間S3進(jìn)行操作。關(guān)于限制模塊1127，當(dāng)箱門本體11221抵靠箱體內(nèi)壁11213，且箱體電連接器11212與箱門電連接器11222電性連接時(shí)，限制模塊1127得受致動而限制箱體本體11211與箱門本體11221的相對移動，而避免烘箱在運(yùn)行時(shí)箱體本體11211與箱門本體11221分開，而發(fā)生危險(xiǎn)或造成機(jī)臺的運(yùn)作異常。關(guān)于指示模塊1128，于限制模塊1127限制箱體本體11211與箱門本體11221的相對移動時(shí)，且于側(cè)壁體14開放第三空間S3時(shí)，對外提供限制模塊1127處于限制狀態(tài)的指示，而供操作者確認(rèn)烘箱的運(yùn)行狀態(tài)。

可選擇性地，限制模塊1127具有例如為位移傳感器的觸發(fā)構(gòu)件，以在限制模塊1127限制箱體本體11211與箱門本體11221的相對移動時(shí)接受觸發(fā)，以令溫控模塊1124控制烘熱模塊1123運(yùn)行，并令指示模塊1128對外提供限制狀態(tài)指示。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。