技術總結
本實用新型公開了一種顆粒形態(tài)的光學檢測裝置。包括一顆粒分散裝置、低相干干涉測量和顯微成像相結合的成像測量裝置。本實用新型操作簡單有效，能夠用于采集獲得顆粒三維空間的分布位置信息，可避免基于圖像顯微的粒度測量中不同深度的顆粒在兩維圖像中重疊效應，可用于工業(yè)生產和科學研究中對顆粒形態(tài)的高精度測量。

技術研發(fā)人員：李鵬;李培;周麗萍;丁志華
受保護的技術使用者：浙江大學
文檔號碼：201620783718
技術研發(fā)日：2016.07.22
技術公布日：2016.12.28