1.一種隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，包括：
試驗部分，其包括：
鋼質(zhì)框架；
銜鐵，其通過銜鐵高度調(diào)節(jié)裝置安裝于所述鋼質(zhì)框架上，所述銜鐵高度調(diào)節(jié)裝置用于調(diào)節(jié)所述銜鐵在所述鋼質(zhì)框架上的高度；
電磁鐵，所述電磁鐵安裝與所述鋼質(zhì)框架上，并位于所述銜鐵的上方；
力傳感器，其設(shè)置在所述鋼質(zhì)框架的底座上，并位于所述銜鐵的下方；及
隔磁片定位裝置，其設(shè)置于所述力傳感器上，并位于所述力傳感器和所述銜鐵之間，用于限制隔磁片在水平與豎直方向的位移；
及測試部分，其經(jīng)配置以測試隔磁片受所述銜鐵沖擊過程的力學(xué)響應(yīng)。
2.如權(quán)利要求1所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述試驗部分還包括導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌的下端與所述鋼質(zhì)框架的底座連接，上端依次穿過所述銜鐵及所述鋼質(zhì)框架的頂部，所述銜鐵高度調(diào)節(jié)裝置通過所述導(dǎo)軌上穿過所述鋼質(zhì)框架的頂部的部分進(jìn)行安裝，所述銜鐵在所述銜鐵高度調(diào)節(jié)裝置的作用下沿所述導(dǎo)軌升降。
3.如權(quán)利要求2所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述電磁鐵通過所述導(dǎo)軌上位于所述銜鐵和所述鋼質(zhì)框架的頂部之間的部分安裝。
4.如權(quán)利要求2所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述導(dǎo)軌的個數(shù)為兩個，所述兩個導(dǎo)軌分別位于所述隔磁片定位裝置的兩側(cè)。
5.如權(quán)利要求1所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述銜鐵高度調(diào)節(jié)裝置包括帶手柄的螺桿，所述帶手柄的螺桿與所述鋼質(zhì)框架的頂部螺紋旋接，其下端與所述電磁鐵連接。
6.如權(quán)利要求1所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述隔磁片定位裝置包括彈簧穩(wěn)定器、彈簧穩(wěn)定器固定裝置、隔磁片基座和水槽基座；所述水槽基座為向上開口的介質(zhì)容器，所述開口其內(nèi)依次向上疊置所述隔磁片基座、隔磁片、所述彈簧穩(wěn)定器和所述彈簧穩(wěn)定器固定裝置。
7.如權(quán)利要求6所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述測試部分包括：加速度傳感器、沖擊載荷數(shù)據(jù)采集與分析儀、應(yīng)變片、動態(tài)應(yīng)變測試分析系統(tǒng)、高速相機(jī)和高速攝影及銜鐵撞擊速度測量系統(tǒng)。
8.如權(quán)利要求7所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述加速度傳感器對稱布置在所述銜鐵的底面上。
9.如權(quán)利要求7所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述應(yīng)變片共有8片，沿所述水槽基座周向和垂直方向粘貼。
10.如權(quán)利要求7所述的隔磁片沖擊試驗測試裝置，其特征在于，所述高速相機(jī)為兩臺，分別對著所述銜鐵的前表面和后表面。