本實(shí)用新型涉及到一種壓力傳感控制電路，具體涉及到一種壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

業(yè)內(nèi)人士都知道，用于汽車的壓力傳感控制電路主要由微型電子機(jī)械系統(tǒng)(Micro-ElectroMechanicalSystem簡稱MEMS)和與之相配套的專用集成電路(Application Specific Integrated Circuits簡稱ASIC)構(gòu)成，這兩個(gè)器件通常都是與相關(guān)的應(yīng)用電路一起直接焊接到相應(yīng)的印制線路板上，形成各種專用控制器。由于各種專用控制器的印制線路板的形成、尺寸以及這兩個(gè)器件在相應(yīng)印制線路板上的位置都不盡相同，因此，針對上述的各種專用控制器，都要制作不同的測試工裝，這樣就大大增加了制造成本。此外，由于這兩件器件都裸露在外面，在實(shí)際運(yùn)輸和使用過程中，很容易對其造成損傷，而且，對其壓力采樣的準(zhǔn)確度也會造成影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是：提供一種可以降低生產(chǎn)成本、提高采樣準(zhǔn)確度的壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)。

為解決上述的技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：一種壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)，包括：印制線路板，印制線路板的同一側(cè)面上設(shè)置有微型電子機(jī)械系統(tǒng)和與之相配套的專用集成電路，并安裝有保護(hù)罩，該保護(hù)罩將微型電子機(jī)械系統(tǒng)和專用集成電路罩在其中，保護(hù)罩上設(shè)置有壓力檢測孔，所述壓力傳感控制電路的電連接引出腳設(shè)置在印制線路板的另一面。

作為一種優(yōu)選方案，在所述的壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)中，所述的壓力檢測孔開設(shè)在保護(hù)罩的頂壁上。

作為一種優(yōu)選方案，在所述的壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)中，所述的壓力檢測孔開設(shè)在偏離微型電子機(jī)械系統(tǒng)的部位。

作為一種優(yōu)選方案，在所述的壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)中，所述的保護(hù)罩由金屬材料制成。

作為一種優(yōu)選方案，在所述的壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)中，所述的金屬材料為鋁、鐵或銅。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型通過模塊化設(shè)計(jì)，即：將MEMS和ASIC通過獨(dú)立的印制線路板和保護(hù)罩將其封裝在一起，形成通用的壓力控制模塊，這樣，測試時(shí)只要針對該壓力控制模塊設(shè)計(jì)測試工裝即可，從而大大降低了生產(chǎn)成本。而且，保護(hù)罩使得封裝在其內(nèi)的MEMS和ASIC器件得到很好的保護(hù)，并且，保護(hù)罩內(nèi)的空間及唯一開設(shè)在保護(hù)罩上的壓力檢測孔，使得壓力采樣的準(zhǔn)確度得到了很好的保障。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型所述的壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是圖1中印制線路板的俯視方向的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖1、圖2中的附圖標(biāo)記為：1、印制線路板，11、電連接引出腳，2、保護(hù)罩，21、壓力檢測孔，3、微型電子機(jī)械系統(tǒng)，4、專用集成電路。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖，詳細(xì)描述本實(shí)用新型所述的一種壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)的具體實(shí)施方案。

如圖1所示，本實(shí)用新型所述的壓力傳感控制電路的封裝結(jié)構(gòu)，包括：印制線路板1，印制線路板1的同一側(cè)面上設(shè)置有微型電子機(jī)械系統(tǒng)3和與之相配套的專用集成電路4，并安裝有由鋁制成的保護(hù)罩2，該保護(hù)罩2將微型電子機(jī)械系統(tǒng)3和專用集成電路4罩在其中，保護(hù)罩2的頂壁上在偏離微型電子機(jī)械系統(tǒng)3的部位設(shè)置有壓力檢測孔21，如圖2所示，所述壓力傳感控制電路的電連接引出腳11設(shè)置在印制線路板1的另一面。

實(shí)際應(yīng)用時(shí)，所述的保護(hù)罩也可以由鐵或銅等金屬材料制成。

綜上所述，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非用來限定本實(shí)用新型實(shí)施的范圍，凡依本實(shí)用新型權(quán)利要求范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及精神所作的均等變化與修飾，均應(yīng)包括在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)。