1.一種制樣設(shè)備，其特征在于，包括：
基體，所述基體包括安裝架(11)和底座(12)，所述底座(12)上設(shè)置有試樣基材放置位(121)；
研磨部(20)，所述研磨部(20)可移動地設(shè)置在所述安裝架(11)上，且位于所述底座(12)上方，在豎直方向上，所述研磨部(20)與所述底座(12)的距離可調(diào)節(jié)；
壓實部(30)，所述壓實部(30)可移動地設(shè)置在所述安裝架(11)上，且位于所述底座(12)上方，在豎直方向上，所述壓實部(30)與所述底座(12)的距離可調(diào)節(jié)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述壓實部(30)包括：
壓實基座(31)，所述壓實基座(31)通過壓實驅(qū)動組件可移動地設(shè)置在所述安裝架(11)上；
壓實輪(32)，所述壓實輪(32)通過壓實調(diào)節(jié)組件設(shè)置在所述壓實基座(31)上，且所述壓實輪(32)可繞橫向軸線轉(zhuǎn)動。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述研磨部(20)包括：
研磨基座(21)，所述研磨基座(21)通過研磨驅(qū)動組件可移動地設(shè)置在所述安裝架(11)上；
研磨輪(22)，所述研磨輪(22)通過研磨調(diào)節(jié)組件設(shè)置在所述研磨基座(21)上，且所述研磨輪(22)可繞橫向軸線轉(zhuǎn)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述研磨部(20)還包括研磨檢測組件，所述研磨檢測組件包括：
研磨豎向檢測器(23)，所述研磨豎向檢測器(23)設(shè)置在所述研磨基座(21)上，并檢測所述研磨輪(22)的高度；
研磨橫向檢測器(24)，所述研磨橫向檢測器(24)設(shè)置在所述研磨輪(22)上，并檢測所述研磨輪(22)的橫向位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述研磨部(20)為兩個，且間隔設(shè)置，其中一個所述研磨部(20)的研磨橫向檢測器(24)用于檢測所述研磨部(20)相對所述試樣基材(50)的橫向位置，另一個所述研磨部(20)的研磨橫向檢測器(24)用于檢測兩個所述研磨輪(22)之間的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述制樣設(shè)備還包括打磨部(40)，所述打磨部(40)設(shè)置在兩個所述研磨部(20)之間，所述打磨部(40)可移動地設(shè)置在所述安裝架(11)上，且與所述試樣基材(50)的豎直方向上的距離可調(diào)節(jié)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述底座(12)上設(shè)置有空腔，所述底座(12)用于放置試樣基材(50)的一面開設(shè)有真空吸附孔(122)，所述真空吸附孔(122)與所述空腔連通，所述制樣設(shè)備還包括真空泵，所述真空泵與所述空腔連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述空腔內(nèi)設(shè)置有收集粉塵的集塵結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述底座(12)上可拆卸地設(shè)置有覆蓋層(13)，所述覆蓋層(13)罩設(shè)在所述底座(12)的用于放置試樣基材(50)的一面上，并露出所述試樣基材放置位(121)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制樣設(shè)備，其特征在于，所述制樣設(shè)備還包括限定所述試樣基材(50)位置的定位組件，所述定位組件包括至少兩個定位卡銷(14)，其中至少一個定位卡銷(14)通過磁吸固定在所述底座(12)上。