技術(shù)特征：

1.一種高溫高壓相對濕度測量方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1、采集氧化鋯傳感器輸出的氧濃差電動勢E，采集環(huán)境壓強P_environment，采集環(huán)境溫度t；

S2、獲取溫度t下的飽和水蒸氣分壓P_m，求解環(huán)境相對濕度RH；所述

其中，R為理想氣體常數(shù)8.314J·mol^-1·K^-1，所述T為絕對溫度值值(K)，所述F為法拉第常數(shù)96500c·mol^-1，所述P_m為當(dāng)前環(huán)境溫度t下的飽和水蒸氣分壓。

2.如權(quán)利要求1所述的一種高溫高壓相對濕度測量方法，其特征在于，所述步驟S1包括：

S11、依次采集N次氧化鋯傳感器輸出的氧濃差電動勢E_i，依次采集M次環(huán)境壓強P_environmentj，依次采集L次環(huán)境溫度t_k；所述i滿足1≤i≤N，E_i為最近第i次采集的所述輸出電動勢；所述j滿足1≤j≤M，P_{environment_j}為最近第j次采集的所述環(huán)境壓強；所述k滿足1≤k≤L，t_k為最近第k次采集的所述環(huán)境溫度；

S12、去除噪聲數(shù)據(jù)步驟：

計算各個氧濃差電動勢E_i的波動值BD_E_i，所述刪除波動指數(shù)BD_E_i≥α的輸出電動勢E_i；所述α取值為0＜α≤0.5；

計算各個環(huán)境壓強P_{environment_j}的波動值BD_P_{environment_j}，所述刪除波動指數(shù)BD_P_{environment_j}≥β的輸出電動勢P_{environment_j}；所述β取值為0＜β≤0.5；

計算各個輸出電動勢t_k的波動值BD_t_k，所述刪除波動指數(shù)BD_t_k≥γ的輸出電動勢t_k；所述γ取值為0＜γ≤0.5；

S13、求解平均值步驟：求解余下的各個所述氧濃差電動勢E_i的平均值E；求解余下的各個所述環(huán)境壓強P_{environment_j}的平均值P_environment；求解余下的各個所述環(huán)境溫度t_k的平均值t。

3.如權(quán)利要求1所述的一種高溫高壓相對濕度測量方法，其特征在于，所述步驟S2包括：

S21、根據(jù)所述氧濃差電動勢E、環(huán)境壓強P_environment，求解被測氣體的水蒸氣分壓P_w，所述

S22、根據(jù)所述環(huán)境溫度t，獲取環(huán)境溫度t下的飽和水蒸氣分壓P_m；

S23、根據(jù)RH＝Pw/Pm，求解環(huán)境相對濕度RH。

4.如權(quán)利要求1所述的一種高溫高壓相對濕度測量方法，其特征在于：在所述氧化鋯傳感器工作前，還包括氧化鋯傳感器的預(yù)熱步驟SA；所述步驟SA具體為：

SA、主控制器對氧化鋯傳感器的電熱絲進行加熱，采用PID算法使氧化鋯傳感器預(yù)熱到第一工作溫度Twork，所述Twork滿足：650℃≤Twork≤900℃。

5.如權(quán)利要求4所述的一種高溫高壓相對濕度測量方法，其特征在于：所述預(yù)熱步驟SA的預(yù)熱時長不少于5min。

6.一種高溫高壓相對濕度測量系統(tǒng)，其特征在于：包括氧化鋯傳感器、環(huán)境溫度采集模塊、環(huán)境壓強采集模塊、主控制器、預(yù)熱模塊；

所述預(yù)熱模塊與所述主控制器的第一輸出端連接，所述預(yù)熱模塊用于對所述氧化鋯傳感器預(yù)熱；

所述氧化鋯傳感器與所述主控制器的第二輸入端連接；

所述環(huán)境溫度采集模塊與所述主控制器的第三輸入端連接；

所述環(huán)境壓強采集模塊與所述主控制器的第四輸入端連接；

所述主控制器采集氧化鋯傳感器輸出的氧濃差電動勢E，采集環(huán)境壓強采集模塊輸出的環(huán)境壓強P_environment，采集環(huán)境溫度采集模塊輸出的環(huán)境溫度t；

所述主控制器被配置為：求解環(huán)境相對濕度RH；所述R為理想氣體常數(shù)8.314J·mol^-1·K^-1，所述T為絕對溫度值值(K)，所述F為法拉第常數(shù)96500c·mol^-1，所述P_m為當(dāng)前環(huán)境溫度t下的飽和水蒸氣分壓。

7.如權(quán)利要求6所述的一種高溫高壓相對濕度測量系統(tǒng)，其特征在于，所述主控制器包含數(shù)字濾波模塊；所述數(shù)字濾波模塊為：

依次采集N次氧化鋯傳感器輸出的氧濃差電動勢E_i，依次采集M次環(huán)境壓強P_{environment_j}，依次采集L次環(huán)境溫度t_k；所述i滿足1≤i≤N，E_i為最近第i次采集的所述輸出電動勢；所述j滿足1≤j≤M，P_{environment_j}為最近第j次采集的所述環(huán)境壓強；所述k滿足1≤k≤L，t_k為最近第k次采集的所述環(huán)境溫度；

計算各個氧濃差電動勢E_i的波動值BD_E_i，所述刪除波動指數(shù)BD_E_i≥α的輸出電動勢E_i；所述α取值為0＜α≤0.5；

計算各個環(huán)境壓強P_{environment_j}的波動值BD_P_{environment_j}，所述刪除波動指數(shù)BD_P_{environment_j}≥β的輸出電動勢P_{environment_j}；所述β取值為0＜β≤0.5；

計算各個輸出電動勢t_k的波動值BD_t_k，所述刪除波動指數(shù)BD_t_k≥γ的輸出電動勢t_k；所述γ取值為0＜γ≤0.5；

求解余下的各個所述氧濃差電動勢E_i的平均值E；求解余下的各個所述環(huán)境壓強P_{environment_j}的平均值P_environment；求解余下的各個所述環(huán)境溫度t_k的平均值t。

8.如權(quán)利要求6所述的一種高溫高壓相對濕度測量系統(tǒng)，其特征在于，所述主控制器包含相對濕度求解模塊，所述相對濕度求解模塊被配置為：

根據(jù)所述氧濃差電動勢E、環(huán)境壓強P_environment，求解被測氣體的水蒸氣分壓P_w，所述

根據(jù)所述環(huán)境溫度t，獲取環(huán)境溫度t下的飽和水蒸氣分壓P_m；

根據(jù)RH＝Pw/Pm，求解環(huán)境相對濕度RH。

9.如權(quán)利要求6所述的一種高溫高壓相對濕度測量系統(tǒng)，其特征在于：所述預(yù)熱模塊對所述氧化鋯傳感器的預(yù)熱時長不少于5min。

10.如權(quán)利要求6所述的一種高溫高壓相對濕度測量系統(tǒng)，其特征在于：還包括顯示模塊、輸入模塊，所述顯示模塊的輸入端與所述主控制器的第五輸出端連接；所述輸入模塊的輸入端與所述主控制器的第六輸出端連接。