本發(fā)明涉及一種轉(zhuǎn)子疊片的平整度檢測(cè)方法，可用于檢測(cè)轉(zhuǎn)子疊片的平整度，確保電機(jī)具有較高，屬于風(fēng)力發(fā)電機(jī)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

電機(jī)轉(zhuǎn)子通過(guò)疊片疊加形成轉(zhuǎn)子鐵心，能夠極大的降低渦流損耗及其他損耗，避免高速馬達(dá)轉(zhuǎn)矩降低，大塊鐵心在磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)或處在變化的磁場(chǎng)中，都要產(chǎn)生感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)，形成渦流，引起較大的渦流損耗，轉(zhuǎn)子疊片能夠降低該損耗。由于轉(zhuǎn)子疊片在生產(chǎn)過(guò)程中表面會(huì)產(chǎn)生不平整，而當(dāng)多片轉(zhuǎn)子疊片疊壓成轉(zhuǎn)子時(shí)會(huì)產(chǎn)生較大的偏差，會(huì)引起更大的損耗。

為了防止轉(zhuǎn)子疊片的不平整引起疊壓后產(chǎn)生較大的渦流損耗，所采用的技術(shù)方案為：對(duì)生產(chǎn)的轉(zhuǎn)子疊片進(jìn)行監(jiān)測(cè)，通過(guò)分析方法分析疊片是否存在不平整度，如果存在，則重新加工，這樣極大的降低了轉(zhuǎn)子的次品率，提高了了電機(jī)的性能。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要是提供一種對(duì)轉(zhuǎn)子疊片的平整度檢測(cè)方法，其特征在于，它包括下述步驟：通過(guò)分析方法1對(duì)轉(zhuǎn)子疊片表面的多個(gè)分析部位進(jìn)行分析來(lái)獲得分析值，其中，分析方法1包括因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越小M，因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越大V，和在多個(gè)分析部位中，估算出轉(zhuǎn)子疊片易出現(xiàn)不平整的分析部位的數(shù)量P；其中：當(dāng)通過(guò)因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越小M時(shí)，所有分析部位的分析值按升序排列，從最小值數(shù)到第i個(gè)部位時(shí)的分析值Mi若小于或等于由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的下限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象的不平整性存在，若分析值Mi超過(guò)由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的下限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象不平整性不存在；以及當(dāng)因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越大V時(shí)，所有分析部位的分析值按升序排列，從最大值數(shù)到第n個(gè)部位時(shí)的分析值Vn若大于或等于由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的上限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象不平整性存在，若分析值Vn小于由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的上限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象不平整性不存在，其中1≤i≤P，1≤n≤P，i、n為自然數(shù)。

所述加權(quán)分布函數(shù)是正態(tài)分布，在通過(guò)所述M獲得分析值的情況下，由所述加權(quán)分布函數(shù)規(guī)定的正常值的下限值是X-Y*σ，其中，X表示所有分析部位的分析值的平均值，σ表示標(biāo)準(zhǔn)偏差，Y為介于5～7范圍內(nèi)的數(shù)值，以及在通過(guò)所述N獲得分析值的情況下，由所述加權(quán)分布函數(shù)規(guī)定的正常值的上限值是X+Y*σ，其中，X表示所有分析部位的分析值的平均值，σ表示標(biāo)準(zhǔn)偏差，Y為介于5～7范圍內(nèi)的數(shù)值。

還包括光照射部件，光接收部件，偏移模型，所述檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置通過(guò)光照射部件在分析部位照射，光接收部件接收光時(shí)反射角度、反射位置，將所述反射角度、反射位置信息通過(guò)偏移模型計(jì)算偏移基準(zhǔn)位置。

通過(guò)包括熱處理的制造工序準(zhǔn)備出包括多個(gè)轉(zhuǎn)子疊片批次；從轉(zhuǎn)子疊片批次中抽出至少一個(gè)轉(zhuǎn)子疊片作為檢測(cè)用疊片；利用權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子疊片的平整度檢測(cè)方法對(duì)抽出的檢測(cè)用疊片進(jìn)行檢測(cè)；以及將包含在同一批次內(nèi)作為檢測(cè)用疊片，由上述檢測(cè)判斷為轉(zhuǎn)子疊片的平整度合格出廠。

附圖說(shuō)明

圖1是對(duì)轉(zhuǎn)子疊片的平整度檢測(cè)方法框圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題為克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種轉(zhuǎn)子疊片的平整度檢測(cè)方法與轉(zhuǎn)子疊片的制造方法。

參照附圖1，本發(fā)明主要是提供一種對(duì)轉(zhuǎn)子疊片的平整度檢測(cè)方法，其特征在于，它包括下述步驟：通過(guò)分析方法1對(duì)轉(zhuǎn)子疊片表面的多個(gè)分析部位進(jìn)行分析來(lái)獲得分析值，其中，分析方法1包括因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越小M，因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越大V，和在多個(gè)分析部位中，估算出轉(zhuǎn)子疊片易出現(xiàn)不平整的分析部位的數(shù)量P；其中：當(dāng)通過(guò)因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越小M時(shí)，所有分析部位的分析值按升序排列，從最小值數(shù)到第i個(gè)部位時(shí)的分析值Mi若小于或等于由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的下限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象的不平整性存在，若分析值Mi超過(guò)由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的下限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象不平整性不存在；以及當(dāng)因檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置越多則用于檢測(cè)的分析值越大V時(shí)，所有分析部位的分析值按升序排列，從最大值數(shù)到第n個(gè)部位時(shí)的分析值Vn若大于或等于由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的上限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象不平整性存在，若分析值Vn小于由加權(quán)函數(shù)規(guī)定的正常值的上限值，則判斷出檢測(cè)對(duì)象不平整性不存在，其中1≤i≤P，1≤n≤P，i、n為自然數(shù)。

所述加權(quán)分布函數(shù)是正態(tài)分布，在通過(guò)所述M獲得分析值的情況下，由所述加權(quán)分布函數(shù)規(guī)定的正常值的下限值是X-Y*σ，其中，X表示所有分析部位的分析值的平均值，σ表示標(biāo)準(zhǔn)偏差，Y為介于5～7范圍內(nèi)的數(shù)值，以及在通過(guò)所述N獲得分析值的情況下，由所述加權(quán)分布函數(shù)規(guī)定的正常值的上限值是X+Y*σ，其中，X表示所有分析部位的分析值的平均值，σ表示標(biāo)準(zhǔn)偏差，Y為介于5～7范圍內(nèi)的數(shù)值。

還包括光照射部件，光接收部件，偏移模型，所述檢測(cè)對(duì)象偏移基準(zhǔn)位置通過(guò)光照射部件在分析部位照射，光接收部件接收光時(shí)反射角度、反射位置，將所述反射角度、反射位置信息通過(guò)偏移模型計(jì)算偏移基準(zhǔn)位置。

通過(guò)包括熱處理的制造工序準(zhǔn)備出包括多個(gè)轉(zhuǎn)子疊片批次；從轉(zhuǎn)子疊片批次中抽出至少一個(gè)轉(zhuǎn)子疊片作為檢測(cè)用疊片；利用權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子疊片的平整度檢測(cè)方法對(duì)抽出的檢測(cè)用疊片進(jìn)行檢測(cè)；以及將包含在同一批次內(nèi)作為檢測(cè)用疊片，由上述檢測(cè)判斷為轉(zhuǎn)子疊片的平整度合格出廠。