1.一種用于研究核聚變材料腐蝕沉積的輻照樣品支架，其特征在于：包括有支架底座和固定壓板，支架底座前端呈三棱柱形且截面為等腰三角形，支架底座的兩個(gè)相同側(cè)面為左右對稱的離子側(cè)和電子側(cè)表面，支架底座的離子側(cè)和電子側(cè)表面上分別開有方形槽，方形槽中匹配安裝有固定壓板，固定壓板上開設(shè)有用來匹配安裝樣品A和樣品B的兩個(gè)臺(tái)階孔，樣品A和樣品B的底端分別設(shè)有臺(tái)階；支架底座的離子側(cè)和電子側(cè)表面上位于方形槽的正下方分別開有用于測量樣品A和樣品B處的等離子體參數(shù)的探針孔，支架底座上還設(shè)有用于與樣品架連接的連接孔。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于研究核聚變材料腐蝕沉積的輻照樣品支架，其特征在于：所述樣品A和樣品B表面同時(shí)留有鍍膜區(qū)和非鍍膜區(qū)，鍍膜區(qū)域位于表面中心，樣品A鍍膜面積大于1cm2，樣品B鍍膜面積約小于1 mm2，樣品A用于表征材料的凈腐蝕速率，樣品B用于表征材料的總腐蝕速率。
3.如權(quán)利要求2所述的一種用于研究核聚變材料腐蝕沉積的輻照樣品支架，其特征在于：所述的樣品A和樣品B的鍍膜區(qū)鍍膜材料為需要在托卡馬克核聚變實(shí)驗(yàn)裝置內(nèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)并需要事后分析的面向等離子體材料。
4.如權(quán)利要求3所述的一種用于研究核聚變材料腐蝕沉積的輻照樣品支架，其特征在于：所述的面向等離子體材料為石墨、鉬或鎢。
5.如權(quán)利要求1所述的一種用于研究核聚變材料腐蝕沉積的輻照樣品支架，其特征在于：所述探針孔用于安裝朗繆爾探針，分別測得離子側(cè)和電子側(cè)的等離子體參數(shù)。