1.一種用于觀察寶石的刻面上的標(biāo)記的設(shè)備，包括：
獨(dú)立可操作的定向光源的陣列，用于將光引向該寶石的所述刻面；
觀察裝置，用于沿著成像軸線觀察該寶石；和
控制裝置，用于控制所述光源的操作使得所述光源順序啟動，并且所述控制裝置被構(gòu)造為當(dāng)在所述觀察裝置處觀察到由所述光源中的一個發(fā)射的光的來自所述刻面的鏡面反射時(shí)停止所述光源的順序啟動，因此能夠觀察所述標(biāo)記。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述觀察裝置包括用于獲得所述刻面的圖像的成像裝置和用于顯示所述圖像的屏幕。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括位于所述成像軸線上的分束器，其中所述光源的陣列被設(shè)置為向著所述分束器發(fā)射光，用于大致沿著所述觀察裝置的成像軸線向著所述刻面反射。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括支撐裝置，該支撐裝置用于該寶石以在已經(jīng)識別哪個光源發(fā)射被鏡面反射到所述觀察裝置中的光時(shí)維持該寶石相對于所述觀察裝置和光源的陣列的對準(zhǔn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括處理器，該處理器被配置為分析所述刻面的圖像，并自動識別何時(shí)在所述觀察裝置處觀察到鏡面反射。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述陣列中的相鄰光源之間的角間距小于或相當(dāng)于由所述觀察裝置的光圈對向的角間距。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一所述的設(shè)備，其中，
所述控制裝置被構(gòu)造成使得，最初所有的光源同時(shí)啟動，并且隨后，所述光源順序啟動；和
所述設(shè)備還包括調(diào)整裝置，所述調(diào)整裝置用于在所有的光源同時(shí)啟動時(shí)調(diào)整該寶石的對準(zhǔn)，直到在觀察裝置處觀察到由所述光源中的至少一個發(fā)射的光的來自所述刻面的鏡面反射。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，被構(gòu)造為使得對提供被鏡面反射到所述觀察裝置中的光的那個光源的知曉使得能夠進(jìn)一步調(diào)整鉆石的對準(zhǔn)，從而由所述陣列的中心光源發(fā)射的光被鏡面反射到所述觀察裝置中。
9.一種用于觀察寶石的刻面上的標(biāo)記的方法，包括下述步驟：
沿著成像軸線觀察所述刻面；
順序地操作布置在空間分布陣列中的每個定向光源以照亮所述刻面，直到在所述成像軸線上觀察到由當(dāng)前啟動的光源發(fā)射的光的來自所述刻面的鏡面反射；以及
觀察由當(dāng)前啟動的光源照亮的所述標(biāo)記。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，還包括：
最初采用所有定向光源同時(shí)照亮所述刻面；
如果未在所述成像軸線上觀察到由所述光源中的至少一個發(fā)射的光的來自所述刻面的鏡面反射，則調(diào)整該寶石的對準(zhǔn)，直到在所述成像軸線上觀察到這種鏡面反射。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中該寶石的對準(zhǔn)被進(jìn)一步調(diào)整，使得所述陣列的中心光源沿著所述成像軸線被鏡面反射，進(jìn)一步調(diào)整的量由離所述光源中的最初確定鏡面反射的中心光源的距離確定。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的方法，其中采用位于所述成像軸線上的照相機(jī)以獲得所述刻面的圖像，并且所述圖像被顯示在屏幕上。