技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本公開涉及用于顆粒檢測和分析的系統(tǒng)、方法和工具套裝。本文所公開的設(shè)備可以至少包括光學(xué)源、含有多重珠陣列的流體芯片和檢測模塊，其中，樣品在流體芯片內(nèi)流動通過檢測窗口，其中細(xì)胞或顆粒被可以包括光學(xué)檢測器的圖像獲取和分析模塊成像。該圖像獲取和分析模塊對已標(biāo)記的顆粒進(jìn)行計數(shù)，并且軟件允許對珠群體進(jìn)行分析。

技術(shù)研發(fā)人員：詹姆斯·嘉華·竇;陳露;詹姆斯·安德魯·弗雷澤;拉凱什·庫馬爾·納亞爾
受保護(hù)的技術(shù)使用者：奇普凱爾公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.25
技術(shù)公布日：2017.09.26