1.一種偏心量計測方法，對配置在計測軸上的被檢光學(xué)系統(tǒng)照射光束來計測偏心量，其特征在于，所述偏心量計測方法具有以下步驟：
取得步驟，根據(jù)從所述被檢光學(xué)系統(tǒng)射出的所述光束取得波面數(shù)據(jù)；
第1提取步驟，從所述波面數(shù)據(jù)中提取規(guī)定的像差成分；
第2提取步驟，從所述規(guī)定的像差成分中提取第1像差成分；以及
解析步驟，對與所述第1像差成分、偏心像差靈敏度和偏心量有關(guān)的聯(lián)立一次方程式進(jìn)行解析，
所述規(guī)定的像差成分是包含由于偏心而產(chǎn)生的像差成分在內(nèi)的像差成分，
所述第1像差成分是所述規(guī)定的像差成分中的與偏心量的一次方成比例的像差成分，
所述偏心像差靈敏度是與偏心量的一次方成比例的像差靈敏度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏心量計測方法，其特征在于，
在所述取得步驟中，從2個照射位置照射所述光束，
所述2個照射位置關(guān)于所述計測軸對稱，
在所述第1提取步驟中，從一個照射位置的波面數(shù)據(jù)和另一個照射位置的波面數(shù)據(jù)中分別提取所述規(guī)定的像差成分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的偏心量計測方法，其特征在于，
所述規(guī)定的像差成分包含第2像差成分，
所述第2像差成分是所述規(guī)定的像差成分中的與偏心量的二次方成比例的像差成分，
物體高坐標(biāo)是表示所述照射位置的坐標(biāo)，
規(guī)定函數(shù)是表示所述第2像差成分的函數(shù)，是包含所述物體高坐標(biāo)作為變量的函數(shù)，
所述第2提取步驟具有第1運(yùn)算步驟和第2運(yùn)算步驟，
在所述第1運(yùn)算步驟中，在所述規(guī)定函數(shù)為奇函數(shù)的情況下，取所述一個照射位置的所述規(guī)定的像差成分與所述另一個照射位置的所述規(guī)定的像差成分之和，
在所述第2運(yùn)算步驟中，在所述規(guī)定函數(shù)為偶函數(shù)的情況下，取所述一個照射位置的所述規(guī)定的像差成分與所述另一個照射位置的所述規(guī)定的像差成分之差。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的偏心量計測方法，其特征在于，
所述取得步驟包含第1旋轉(zhuǎn)，
在所述第1旋轉(zhuǎn)中，使所述被檢光學(xué)系統(tǒng)繞所述計測軸旋轉(zhuǎn)，
在同一所述照射位置取得所述第1旋轉(zhuǎn)前的波面數(shù)據(jù)和所述第1旋轉(zhuǎn)后的波面數(shù)據(jù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的偏心量計測方法，其特征在于，
所述取得步驟包含第1旋轉(zhuǎn)，
在所述第1旋轉(zhuǎn)中，使所述被檢光學(xué)系統(tǒng)繞與所述計測軸平行的軸旋轉(zhuǎn)，
在同一所述照射位置取得所述第1旋轉(zhuǎn)前的波面數(shù)據(jù)和所述第1旋轉(zhuǎn)后的波面數(shù)據(jù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的偏心量計測方法，其特征在于，
使所述被檢光學(xué)系統(tǒng)旋轉(zhuǎn)的角度為10度以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的偏心量計測方法，其特征在于，
使所述被檢光學(xué)系統(tǒng)旋轉(zhuǎn)的角度為180度。
8.根據(jù)權(quán)利要求2～7中的任意一項(xiàng)所述的偏心量計測方法，其特征在于，
使所述一個照射位置和所述另一個照射位置分別移動，在移動后的照射位置取得所述波面數(shù)據(jù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的偏心量計測方法，其特征在于，
使所述一個照射位置移動，在移動后的照射位置取得全部所述波面數(shù)據(jù)，
然后，使所述另一個照射位置移動，在移動后的照射位置取得全部所述波面數(shù)據(jù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的偏心量計測方法，其特征在于，
在所述一個照射位置和所述另一個照射位置分別取得所述波面數(shù)據(jù)，
然后，使所述一個照射位置和所述另一個照射位置移動，在移動后的照射位置分別取得所述波面數(shù)據(jù)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中的任意一項(xiàng)所述的偏心量計測方法，其特征在于，
在第1照射狀態(tài)下進(jìn)行所述波面數(shù)據(jù)的取得，
在所述第1照射狀態(tài)下，所述光束的中心光線與所述計測軸平行。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～10中的任意一項(xiàng)所述的偏心量計測方法，其特征在于，
在第2照射狀態(tài)下進(jìn)行所述波面數(shù)據(jù)的取得，
在所述第2照射狀態(tài)下，所述光束的中心光線以規(guī)定角度與所述計測軸相交。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏心量計測方法，其特征在于，
使用規(guī)定函數(shù)系統(tǒng)進(jìn)行所述第2提取步驟，
所述規(guī)定函數(shù)系統(tǒng)是表示所述第1像差成分的函數(shù)系統(tǒng)，
將一個照射位置的所述規(guī)定的像差成分和另一個照射位置的所述規(guī)定的像差成分應(yīng)用于所述規(guī)定函數(shù)系統(tǒng)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1～13中的任意一項(xiàng)所述的偏心量計測方法，其特征在于，
所述取得步驟包含第2旋轉(zhuǎn)，
在所述第2旋轉(zhuǎn)中，使所述被檢光學(xué)系統(tǒng)繞與所述計測軸垂直的軸旋轉(zhuǎn)180度，
取得所述第2旋轉(zhuǎn)前的波面數(shù)據(jù)和所述第2旋轉(zhuǎn)后的波面數(shù)據(jù)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的偏心量計測方法，其特征在于，
關(guān)于所述第2旋轉(zhuǎn)前的波面數(shù)據(jù)的取得時的偏心量和所述第2旋轉(zhuǎn)后的波面數(shù)據(jù)的取得時的偏心量，兩者的絕對值相同。
16.根據(jù)權(quán)利要求1～15中的任意一項(xiàng)所述的偏心量計測方法，其特征在于，
使用澤尼克多項(xiàng)式進(jìn)行所述第1提取步驟，
所述規(guī)定的像差成分是澤尼克多項(xiàng)式的系數(shù)。
17.一種偏心量計測裝置，其特征在于，所述偏心量計測裝置具有：
配置在計測軸的一端的投光系統(tǒng)；
配置在所述計測軸的另一端的受光系統(tǒng)；
保持被檢光學(xué)系統(tǒng)的保持部件；以及
與波面計測裝置連接的處理裝置，
所述保持部件配置在所述投光系統(tǒng)與所述受光系統(tǒng)之間，
所述投光系統(tǒng)設(shè)置在對所述被檢光學(xué)系統(tǒng)照射光束的位置，
在所述處理裝置中，執(zhí)行取得步驟、第1提取步驟、第2提取步驟、解析步驟，
在所述取得步驟中，根據(jù)從所述被檢光學(xué)系統(tǒng)射出的所述光束取得波面數(shù)據(jù)，
在所述第1提取步驟中，從所述波面數(shù)據(jù)中提取規(guī)定的像差成分，
在所述第2提取步驟中，從所述規(guī)定的像差成分中提取第1像差成分，
在所述解析步驟中，對與所述第1像差成分、偏心像差靈敏度和偏心量有關(guān)的聯(lián)立一次方程式進(jìn)行解析，
所述規(guī)定的像差成分是包含由于偏心而產(chǎn)生的像差成分在內(nèi)的像差成分，
所述第1像差成分是所述規(guī)定的像差成分中的與偏心量的一次方成比例的像差成分，
所述偏心像差靈敏度是與偏心量的一次方成比例的像差靈敏度。