1.一種拉絲流變儀，用于測(cè)量樣品的流變性能和/或機(jī)械性能，所述拉絲流變儀包括：
·一對(duì)相對(duì)表面，所述相對(duì)表面用于將樣品保持在所述相對(duì)表面之間，
·致動(dòng)器，所述致動(dòng)器被構(gòu)造成提供所述相對(duì)表面中至少一個(gè)表面的受控軸向位移，和
·樣品掃描單元，用于測(cè)量樣品的直徑，
其中，所述樣品掃描單元被構(gòu)造成用以選擇起點(diǎn)，所述起點(diǎn)對(duì)應(yīng)于樣品最小直徑所在的軸向位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拉絲流變儀，進(jìn)一步包括反饋控制器，所述反饋控制器被構(gòu)造成基于來(lái)自所述樣品掃描單元的輸入控制所述致動(dòng)器。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述樣品掃描單元被構(gòu)造成用于在獨(dú)立于所述相對(duì)表面的位移進(jìn)行控制的軸向位置處，測(cè)量樣品直徑。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述樣品掃描單元被構(gòu)造成用于獲得樣品的直徑分布。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述樣品掃描單元被構(gòu)造成在所述受控軸向表面位移之前、期間和/或之后確定樣品的最小直徑。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述樣品掃描單元被構(gòu)造成用于獨(dú)立于所述相對(duì)表面(之一或兩個(gè))的軸向位移移動(dòng)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述掃描單元被構(gòu)造成用于平行于所述相對(duì)表面(之一或兩個(gè))的位移軸向移動(dòng)。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述樣品掃描單元包括一個(gè)或者更多個(gè)可移動(dòng)/可旋轉(zhuǎn)的反射鏡。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，進(jìn)一步包括力和/或應(yīng)力確定裝置，所述力和/或應(yīng)力確定裝置用于測(cè)量在所述相對(duì)表面中的至少一個(gè)表面上施加的力和/或壓力，所述力和/或應(yīng)力確定裝置諸如是力和/或壓力換能器。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的拉絲流變儀，其中，所述反饋控制器被構(gòu)造成基于所述力和/或壓力控制所述致動(dòng)器。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求2至10中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述反饋控制器被構(gòu)造成提供所述相對(duì)表面的位移，使得樣品的最小直徑在測(cè)試期間以指數(shù)方式增加或者減小。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求2至11中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述反饋控制器被構(gòu)造成提供所述相對(duì)表面的位移，使得施加于樣品上的單位面積上的力在測(cè)試期間是恒定的。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，進(jìn)一步包括包圍樣品的環(huán)境受控腔室。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，用于將腔室內(nèi)部氣體的溫度T從150℃<T<300℃降低到25℃<T<150℃的時(shí)間小于5秒，小于4秒，小于3秒，小于2秒，或者小于1秒。
15.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，其中，所述環(huán)境受控腔室被構(gòu)造成從樣品移去，以將樣品暴露于環(huán)境條件。
16.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的拉絲流變儀，進(jìn)一步包括數(shù)據(jù)處理器，所述數(shù)據(jù)處理器被構(gòu)造成基于測(cè)試期間的樣品直徑以及施加在樣品上的力、壓力和/或應(yīng)力的測(cè)量結(jié)果，確定樣品的流變性能和/或機(jī)械性能。
17.一種用于拉絲流變儀的環(huán)境受控腔室，所述環(huán)境受控腔室包括隔離表面，所述隔離表面被構(gòu)造成用于圍繞樣品放置，使得所述表面能夠通過(guò)位移從樣品移除，由此將樣品暴露于環(huán)境條件。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的環(huán)境受控腔室，其中，拉絲流變儀是根據(jù)權(quán)利要求1至16所述的流變儀。
19.根據(jù)權(quán)利要求17至18所述的環(huán)境受控腔室，其中，所述環(huán)境受控腔室被構(gòu)造成用于控制腔室內(nèi)部氣體的環(huán)境溫度、環(huán)境氣體成分、環(huán)境氣體流速、環(huán)境濕度和/或環(huán)境壓力。
20.根據(jù)權(quán)利要求17至19所述的環(huán)境受控腔室，其中，所述環(huán)境受控腔室被構(gòu)造成用于將所述腔室內(nèi)部氣體的溫度T從150℃<T<300℃降低到25℃<T<150℃。
21.根據(jù)權(quán)利要求17至20所述的環(huán)境受控腔室，其中，用于將所述腔室內(nèi)部氣體的溫度T從150℃<T<300℃降低到25℃<T<150℃的時(shí)間小于5秒，小于4秒，小于3秒，小于2秒，或者小于1秒。
22.一種用于控制拉絲流變儀的方法，包括如下步驟：
·在兩個(gè)相對(duì)表面之間拉伸樣品，使樣品固定在起始狀態(tài)中，并且所述兩個(gè)相對(duì)表面處于固定位置；
·用移動(dòng)樣品掃描單元在處于所述固定位置的所述兩個(gè)相對(duì)表面之間的多個(gè)位置，測(cè)量處于所述起始狀態(tài)中的所述樣品的多個(gè)直徑，由此使所述樣品掃描單元獨(dú)立于所述兩個(gè)相對(duì)表面移動(dòng)；
·從所述多個(gè)直徑中確定最小直徑；以及
·從所述最小直徑選擇所述移動(dòng)樣品掃描單元進(jìn)行測(cè)量的起點(diǎn)。
23.根據(jù)權(quán)利要求22的方法，其中，所述拉絲流變儀是根據(jù)權(quán)利要求1至16所述的流變儀。
24.根據(jù)權(quán)利要求22至23的方法，進(jìn)一步包括如下步驟：
·將所述移動(dòng)樣品掃描單元定位在所述起點(diǎn)；
·將所述兩個(gè)相對(duì)表面相向或者相背地移動(dòng)，使得所述樣品掃描單元隨著所述兩個(gè)相對(duì)表面從所述起點(diǎn)移動(dòng)；以及
·在所述兩個(gè)相對(duì)表面的移動(dòng)期間，測(cè)量所述樣品的直徑。