技術(shù)特征：

1.一種用于SAR子孔徑成像的方位模糊抑制方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：按照成像處理流程對原始回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離向處理然后再沿方位向劃分子孔徑，其中對原始回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離向處理具體為：

進(jìn)行距離向FFT；

再進(jìn)行距離壓縮；

進(jìn)行距離向IFFT；

去除脈沖持續(xù)時間點數(shù)；

步驟2：數(shù)據(jù)處理完成后進(jìn)行子孔徑距離向處理，子孔徑距離向處理的具體步驟為

首先子孔徑方位FFT；

再進(jìn)行數(shù)據(jù)兩端進(jìn)行補零，增加兩端脈沖持續(xù)時間點數(shù)來實現(xiàn)擴展子孔徑長度；

進(jìn)行距離向FFT；

進(jìn)行距離向逆壓縮、三次相位濾波，參考點相位補償；

進(jìn)行距離向IFFT；

進(jìn)行Chirp Scaling運算；

進(jìn)行距離向FFT；

進(jìn)行距離壓縮、二次距離壓縮、距離彎曲校正；

進(jìn)行距離向IFFT；

進(jìn)行剩余相位補償；

子孔徑方位向IFFT；

進(jìn)行方位向合成方位子孔徑數(shù)據(jù)；

步驟3：進(jìn)行距離向劃分子帶回波；

進(jìn)行方位向FFT；

進(jìn)行方位向壓縮；

進(jìn)行方位向IFFT；

合并距離子帶圖像；

最后輸出SAR圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于SAR子孔徑成像的方位模糊抑制方法，其特征在于，步驟2中的再進(jìn)行數(shù)據(jù)兩端進(jìn)行補零，增加兩端脈沖持續(xù)時間點數(shù)來實現(xiàn)擴展子孔徑長度具體為：

子孔徑距離向處理將距離遷徙校正前的子孔徑回波變換到二維時域，沿方位向進(jìn)行子孔徑長度擴展，即將子孔徑回波沿方位向兩端補零，

設(shè)擴展后的子孔徑長度為T_sF，子孔徑長度擴展后，距離遷徙校正參考函數(shù)可以表示為:

式(1)中,n為子孔徑序號，N_s為沿方位向劃分的子孔徑個數(shù)，為N為子孔徑方位點數(shù)，f_r為距離向基帶信號頻率,為距離遷徙校正參考函數(shù)的帶寬，rect[·]為矩形窗函數(shù)，K_a為目標(biāo)方位向多普勒頻率調(diào)頻率,fc為中心頻率，f_a為方位多普勒頻率。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于SAR子孔徑成像的方位模糊抑制方法，其特征在于，步驟2中的進(jìn)行距離壓縮、二次距離壓縮、距離彎曲校正具體為：

進(jìn)行子孔徑距離遷徙校正:

$S_s\left(f_a\right)={\mathrm{\ψ}}_3(f_a,f_r)\exp \{-{\mathrm{j\πf}}_a^2/K_a\}\underset{n=-N/2}{\overset{N/2}{\Σ}}\exp \{-j2{\mathrm{\πnT}}_{sF}{f}_a\}rect\[\frac{f_a-{\mathrm{nB}}_{{\mathrm{sa}}_{RCMC}}\left(f_r\right)/2}{B_{{\mathrm{sa}}_{RCMC}}\left(f_r\right)}\]---\left(2\right)$

將式(2)的結(jié)果變換到二維時域，這時回波信號可以表示為

$s_s\left(t_m\right)=\underset{n=-N/2}{\overset{N/2}{\Σ}}{B}_n\left(t_m\right)\exp \{-{\mathrm{j\πK}}_a{(t_m-{\mathrm{nT}}_{sF})}^2\}rect\[\frac{t_m-n(T_{sF}-T_s)}{T_{sF}}\]---\left(3\right)$

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于SAR子孔徑成像的方位模糊抑制方法，其特征在于，步驟2中的進(jìn)行方位向合成方位子孔徑數(shù)據(jù)具體為：擴展前的子孔徑長度為T_s，將擴展的子孔徑長度去掉后，方位時間的取值范圍為-T_s/2≤t_m≤T_s/2，這時，方位模糊位置變?yōu)?T_sF和T_sF，距離遷徙校正之后，將子孔徑擴展部分去除掉，方位模糊得到一定程度的抑制。