技術(shù)編號(hào)：12659142
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于SAR子孔徑成像的方位模糊抑制方法，屬于SAR成像技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)在子孔徑成像處理中，方位信號(hào)的頻譜主要表現(xiàn)為二次相位項(xiàng)，包括決定方位分辨率的多普勒信號(hào)，與距離遷徙項(xiàng)相關(guān)的二次項(xiàng)。方位模糊是由與距離遷徙項(xiàng)相關(guān)的二次項(xiàng)引起的。距離遷徙校正(RCMC)的參考函數(shù)沿方位向表現(xiàn)為線性調(diào)頻信號(hào)，并且?guī)捫∮赑RF，在方位頻域，信號(hào)不滿足采樣定理的要求，校正參考函數(shù)將會(huì)出現(xiàn)混疊，這將導(dǎo)致方位模糊的出現(xiàn)。方位模糊位置與目標(biāo)真實(shí)位置之間的距離為子孔徑長度。關(guān)于方位模糊的抑制，存在兩種方法，一...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。