1.一種光譜掃描測試裝置，其特征在于，包括：
制冷樣品室，用于向待測樣品提供一預(yù)定溫度的測試環(huán)境；
樣品臺，設(shè)置于所述制冷樣品室中且用于承載所述待測樣品，所述樣品臺以預(yù)定數(shù)量級的位移精度進行移動；
顯微光路系統(tǒng)，至少包括顯微鏡及激光光源，其中，所述激光光源發(fā)出的激光經(jīng)由所述顯微鏡傳遞至承載于所述樣品臺上的所述待測樣品，以激發(fā)所述待測樣品產(chǎn)生激發(fā)光譜；
光譜測試系統(tǒng)，用于接收并測試所述激發(fā)光譜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測試裝置，其特征在于，所述顯微光路系統(tǒng)還包括：半反半透元件，設(shè)置于所述顯微鏡與所述激光光源之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測試裝置，其特征在于，所述顯微光路系統(tǒng)還包括：白光光源，鄰近于所述激光光源設(shè)置，所述白光光源發(fā)出的白光經(jīng)由所述顯微鏡傳遞至承載于所述樣品臺上的所述待測樣品，以產(chǎn)生所述待測樣品的表面形貌圖。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測試裝置，其特征在于，所述制冷樣品室為無液氦低溫制冷設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測試裝置，其特征在于，所述樣品臺以納米級的位移精度進行移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的測試裝置，其特征在于，所述樣品臺的位移精度為10nm。
7.一種光譜掃描測試裝置的測試方法，其特征在于，所述光譜掃描測試裝置包括制冷樣品室、樣品臺、顯微光路系統(tǒng)以及光譜測試系統(tǒng)，顯微光路系統(tǒng)至少包括顯微鏡及激光光源，其中，所述測試方法包括步驟：
將待測樣品置于所述制冷樣品室中的所述樣品臺上，并對所述待測樣品進行制冷至預(yù)定溫度；
所述激光光源發(fā)射激光，所述激光經(jīng)由所述顯微鏡傳遞至承載于所述樣品臺上的所述待測樣品，以激發(fā)所述待測樣品產(chǎn)生激發(fā)光譜；
所述光譜測試系統(tǒng)接收并測試經(jīng)由所述顯微鏡傳遞的所述激發(fā)光譜。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測試方法，其特征在于，所述顯微光路系統(tǒng)還包括設(shè)置于所述顯微鏡與所述激光光源之間的半反半透元件，其中，所述激光光源發(fā)射激光，所述激光經(jīng)所述半反半透元件反射后，再經(jīng)由所述顯微鏡傳遞至承載于所述樣品臺上的所述待測樣品，以激發(fā)所述待測樣品產(chǎn)生激發(fā)光譜。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的測試方法，其特征在于，所述顯微光路系統(tǒng)還包括鄰近于所述激光光源設(shè)置的白光光源，其中，在所述激光光源發(fā)射激光之前，所述測試方法還包括步驟：
所述白光光源發(fā)射白光，所述白光經(jīng)由所述顯微鏡傳遞至承載于所述樣品臺上的所述待測樣品，以產(chǎn)生所述待測樣品的表面形貌圖。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測試方法，其特征在于，所述制冷樣品室為無液氦低溫制冷設(shè)備。