1.一種用于檢測顆粒檢測表面上或靠近顆粒檢測表面的顆粒的檢測裝置，檢測裝置（1）適配成可操作在第一光學檢測模式中和第二光學檢測模式中，其中檢測裝置（1）包括：
– 用于生成第一光以用于在第一光學檢測模式中光照顆粒檢測表面（5）的第一光源（6），
– 用于生成第二光以用于在第二光學檢測模式中光照顆粒檢測表面（5）的第二光源（7），
– 用于在已經(jīng)遇到顆粒檢測表面（5）之后檢測第一光和第二光的光檢測系統(tǒng)（8），
– 用于在遇到顆粒檢測表面（5）之前和/或在已經(jīng)遇到顆粒檢測表面（5）之后修改第一光和第二光的光學系統(tǒng)（9），
其中光檢測系統(tǒng)（8）的組件和/或光學系統(tǒng)（9）的組件布置成使用在第一檢測模式中和第二檢測模式中，并且
其中光檢測系統(tǒng)（8）和光學系統(tǒng)（9）適配成使得第一光被由顆粒（2）導致的衰減全內(nèi)反射所修改并且檢測經(jīng)修改的第一光。
2.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中光檢測系統(tǒng)（8）和光學系統(tǒng)（9）適配成使得第二光被顆粒（2）所散射并且檢測經(jīng)散射的第二光。
3.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中光檢測系統(tǒng)（8）包括布置成使用在第一光學檢測模式中和第二光學檢測模式中的光檢測表面（15），其中第一光由光檢測表面（15）的第一部分（11）檢測并且第二光由光檢測表面（15）的第二部分（12）檢測。
4.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中光學系統(tǒng)（9）包括雙遠心布置（13），其適配成用于在第一光學檢測模式中修改第一光并且用于在第二光學檢測模式中修改第二光。
5.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中光學系統(tǒng)（9）包括可透性反射鏡（14），其適配成用于在第一光學檢測模式中修改第一光并且用于在第二光學檢測模式中修改第二光。
6.如權(quán)利要求5中所限定的檢測裝置，其中光檢測系統(tǒng)（8）包括布置成使用在第一光學檢測模式中和第二光學檢測模式中的光檢測表面（15），其中檢測裝置（1）適配成使得：
- 在第一光學檢測模式中，來自顆粒檢測表面（5）的第一光定向到可透性反射鏡（14），并且橫穿可透性反射鏡（14）的第一光定向到光檢測表面（15），并且
- 在第二光學檢測模式中，由第二光源（7）提供的光定向到可透性反射鏡（14），由可透性反射鏡（14）反射的光定向到顆粒檢測表面（5），并且來自顆粒檢測表面（5）的光定向到光檢測表面（15）。
7.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中第一光源（6）和光學系統(tǒng)（9）適配成使得在第一光學檢測模式中光照顆粒檢測表面（5）的較大區(qū)域（16），并且第二光源（7）和光學系統(tǒng)（9）適配成使得在第二光學檢測模式中光照顆粒檢測表面（5）的較小區(qū)域（33）。
8.如權(quán)利要求7中所限定的檢測裝置，其中顆粒檢測表面（5）包括其中要檢測顆粒（2）的若干檢測區(qū)（17,18,20,21），其中第一光源（6）和光學系統(tǒng)（9）適配成使得在第一光學檢測模式中，顆粒檢測表面（5）的較大被光照區(qū)域（16）覆蓋若干檢測區(qū)（17,18,20,21）和若干檢測區(qū)（17,18,20,21）之間的區(qū)域，并且其中第二光源（7）和光學系統(tǒng)（9）適配成使得在第二光學檢測模式中光照僅一個或僅若干檢測區(qū)（17,18,20,21），從而光照顆粒檢測表面（5）的較小區(qū)域（33）。
9.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中光學系統(tǒng)（9）適配成使得在第一光學檢測模式和第二光學檢測模式中在相反方向上至少部分地使用相同光學路徑。
10.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中光學系統(tǒng)（9）適配成使得在第二光學檢測模式中，提供第二光在遇到顆粒檢測表面（5）之前沿其行進的光照光學路徑（37），以及第二光在已經(jīng)遇到顆粒檢測表面（5）之后并且在由光檢測系統(tǒng)（8）檢測之前沿其行進的檢測光學路徑（36），其中檢測裝置（1）包括布置在光照光學路徑（37）與檢測光學路徑（36）之間的光屏障（28）。
11.如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置，其中檢測裝置（1）適配成檢測流體內(nèi)的物質(zhì)（3），其中顆粒檢測表面（5）上的顆粒（2）已經(jīng)附著到物質(zhì)（3），其中檢測裝置（1）包括用于基于所檢測到的第一光和/或所檢測到的第二光來檢測物質(zhì)（3）的物質(zhì)檢測單元（29）。
12.一種用于檢測流體內(nèi)的物質(zhì)的生物傳感器系統(tǒng)，其中生物傳感器系統(tǒng)（40）包括：
– 其上要檢測顆粒的顆粒檢測表面，以及
– 如權(quán)利要求11中所限定的檢測裝置。
13.一種用于檢測顆粒檢測表面上或靠近顆粒檢測表面的顆粒的檢測方法，檢測方法適配成可操作在第一光學檢測模式中和第二光學檢測模式中，其中檢測方法包括：
– 通過第一光源（6）生成第一光以用于在第一光學檢測模式中光照顆粒檢測表面（5），
– 通過第二光源（7）生成第二光以用于在第二光學檢測模式中光照顆粒檢測表面（5），
– 在遇到顆粒檢測表面（5）之前和/或在已經(jīng)遇到顆粒檢測表面（5）之后通過光學系統(tǒng)（9）修改第一光和第二光，
– 在已經(jīng)遇到顆粒檢測表面（5）之后通過光檢測系統(tǒng)（8）檢測第一光和第二光，
其中光檢測系統(tǒng)（8）的組件和/或光學系統(tǒng)（9）的組件使用在第一檢測模式中和第二檢測模式中，并且
其中第一光被由顆粒（2）導致的衰減全內(nèi)反射所修改并且檢測經(jīng)修改的第一光。
14.一種用于檢測顆粒檢測表面上或靠近顆粒檢測表面的顆粒的檢測計算機程序，檢測計算機程序包括用于當計算機程序在控制檢測裝置（1）的計算機上運行時，使如權(quán)利要求1中所限定的檢測裝置（1）實施如權(quán)利要求13中所限定的檢測方法的步驟的程序代碼構(gòu)件。