雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池的制作方法
【專(zhuān)利摘要】一種雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池，在下基片的上表面用膠粘接有中基片，中基片的上表面用膠粘接有上基片，上基片、中基片、下基片為有機(jī)玻璃片。在上基片的中心位置加工有電解池c，電解池c的底為中基片，在上基片和中基片的中心位置加工有通道b，通道b的底為下基片，在上基片及中基片上通道b的左端加工有左儲(chǔ)液槽a、右端加工有右儲(chǔ)液槽d，通道b與左儲(chǔ)液槽a和右儲(chǔ)液槽d相聯(lián)通。本實(shí)用新型具有設(shè)計(jì)合理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可重復(fù)使用、正置和倒置顯微鏡通用等優(yōu)點(diǎn)，可在雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像分析中推廣應(yīng)用。
【專(zhuān)利說(shuō)明】雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于電化學(xué)發(fā)光設(shè)備或裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及到利用雙電極的電場(chǎng)富集效應(yīng)、場(chǎng)誘導(dǎo)電化學(xué)發(fā)光電解池。

【背景技術(shù)】
[0002]雙極性電極是一個(gè)不與外電源連接而置于驅(qū)動(dòng)陰極和陽(yáng)極之間電解液中的導(dǎo)體。當(dāng)一個(gè)足夠強(qiáng)的電場(chǎng)施加于電解質(zhì)溶液時(shí)，即使這個(gè)導(dǎo)體與外電源沒(méi)有直接的電連接，法拉第反應(yīng)也能在導(dǎo)體的兩端同時(shí)發(fā)生，其中靠近驅(qū)動(dòng)陰極的一端發(fā)生氧化反應(yīng)，稱(chēng)為陽(yáng)極，靠近驅(qū)動(dòng)陽(yáng)極的一端發(fā)生還原反應(yīng)，稱(chēng)為陰極。電化學(xué)發(fā)光是在電極上施加一定的電壓使電極反應(yīng)產(chǎn)物之間或電極反應(yīng)產(chǎn)物與溶液中某組分之間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)而產(chǎn)生的一種光輻射。在電解池中加入發(fā)光試劑，如釕聯(lián)吡啶-三丙胺，魯米諾-過(guò)氧化氫等，在驅(qū)動(dòng)電極兩端施加電壓，則會(huì)在雙極性電極的一端檢測(cè)到發(fā)光信號(hào)。傳統(tǒng)的雙極性電極通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)光刻法直接在電解池的基板上制作而成，通道模具也同樣用標(biāo)準(zhǔn)光刻法制得，再經(jīng)過(guò)燒注聚二甲基硅氧烷和凝固劑、加熱固化、脫模，將其與雙極性電極基板進(jìn)行不可逆封裝四個(gè)步驟，即可得到雙極性電極與聚二甲基硅氧烷電解池通道封合的整體。此法制作復(fù)雜，而且由于雙極性電極易損傷，電解池通道重復(fù)利用率低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于克服上述傳統(tǒng)的雙極性電極電化學(xué)電解池的缺點(diǎn)，提供一種設(shè)計(jì)合理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池。
[0004]解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:在下基片的上表面設(shè)置有中基片，中基片的上表面設(shè)置有上基片，在上基片的中心位置加工有電解池C，電解池c的底為中基片，在上基片和中基片的中心位置加工有通道b，通道b的底為下基片，在上基片及中基片上通道b的左端加工有左儲(chǔ)液槽a、右端加工有右儲(chǔ)液槽d，通道b與左儲(chǔ)液槽a和右儲(chǔ)液槽d相聯(lián)通。
[0005]本實(shí)用新型的電解池c的形狀為正方形電解池凹槽或長(zhǎng)方形電解池凹槽；通道b的形狀為長(zhǎng)方形凹槽，長(zhǎng)方形凹槽的長(zhǎng)邊長(zhǎng)>正方形凹槽的邊長(zhǎng)，正方形凹槽的邊長(zhǎng)>長(zhǎng)方形凹槽的寬邊長(zhǎng)。本實(shí)用新型的左儲(chǔ)液槽a、右儲(chǔ)液槽d、通道b的中心線與電解池c的水平中心線相重合。
[0006]本實(shí)用新型的左儲(chǔ)液槽a的形狀為圓形凹槽，圓形凹槽的直徑>通道b的寬，右儲(chǔ)液槽d的形狀與左儲(chǔ)液槽a的形狀完全相同。
[0007]本實(shí)用新型的正方形電解池凹槽的邊長(zhǎng)為6?9mm，長(zhǎng)方形電解池凹槽長(zhǎng)X寬為6X9。本實(shí)用新型的通道b的長(zhǎng)為16?22mm、寬為2?3mm。本實(shí)用新型的左儲(chǔ)液槽a和右儲(chǔ)液槽d的直徑為3?5mm。
[0008]本實(shí)用新型的正方形電解池的邊長(zhǎng)最佳為8.5_。本實(shí)用新型的通道b的長(zhǎng)最佳為20_、寬為3_。本實(shí)用新型的左儲(chǔ)液槽a、右儲(chǔ)液槽d的直徑最佳為4_。
[0009]由于本實(shí)用新型的電解池與雙極電極相互獨(dú)立，可重復(fù)使用，非透明材質(zhì)的雙極性電極(如金、銀等)，電極陣列面朝上，用正置顯微鏡從上方檢測(cè)；在有臺(tái)階的情況下，電極面朝下不會(huì)接觸到池底，用倒置顯微鏡從下方檢測(cè)，擴(kuò)展了電解池的適用范圍。本實(shí)用新型具有設(shè)計(jì)合理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可重復(fù)使用、正置和倒置顯微鏡通用等優(yōu)點(diǎn)，可在雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像分析中推廣應(yīng)用。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2是圖1的A-A剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，但是本實(shí)用新型不限于下述的實(shí)施例。
[0013]實(shí)施例1
[0014]如圖1、2所示，本實(shí)施例的雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池由上基片1、中基片
2、下基片3聯(lián)接構(gòu)成。
[0015]在下基片3的上表面用I父粘接有中基片2,中基片2的上表面用I父粘接有上基片1，上基片1、中基片2、下基片3為有機(jī)玻璃片。在上基片I的中心位置加工有電解池C，電解池c的結(jié)構(gòu)為正方形凹槽，正方形凹槽的底為中基片2，正方形凹槽的邊長(zhǎng)為8.5mm，在上基片I和中基片2的中心位置加工有通道b，通道b的形狀為長(zhǎng)方形凹槽，長(zhǎng)方形凹槽的底為下基片3，長(zhǎng)方形凹槽的長(zhǎng)為20mm、寬為3mm，通道b用于裝檢測(cè)用的電化學(xué)發(fā)光試劑，在上基片I及中基片2上通道b的左端加工有左儲(chǔ)液槽a、右端加工有右儲(chǔ)液槽d，左儲(chǔ)液槽a和右儲(chǔ)液槽d的形狀為圓形凹槽,直徑為4mm,圓形凹槽的底為下基片3。通道b分別與左儲(chǔ)液槽a和右儲(chǔ)液槽d相聯(lián)通，左儲(chǔ)液槽a、右儲(chǔ)液槽d、通道b的中心線與電解池c的水平中心線相重合，電解池c用于安裝雙性電極4的玻璃基板，雙性電極4已在電化學(xué)中廣泛應(yīng)用并在文獻(xiàn)報(bào)道。
[0016]實(shí)施例2
[0017]電解池c的結(jié)構(gòu)為正方形凹槽，正方形凹槽的邊長(zhǎng)為6mm，通道b的形狀為長(zhǎng)方形凹槽，長(zhǎng)方形凹槽的長(zhǎng)為16mm、寬為2mm,左儲(chǔ)液槽a的形狀為圓形凹槽，圓形凹槽的直徑為4_，右儲(chǔ)液槽d的結(jié)構(gòu)與左儲(chǔ)液槽a完全相同。其他零部件以及零部件的聯(lián)接關(guān)系與實(shí)施例I相同。
[0018]實(shí)施例3
[0019]電解池c的結(jié)構(gòu)為正方形凹槽，正方形凹槽的邊長(zhǎng)為9mm，通道b的形狀為長(zhǎng)方形凹槽，長(zhǎng)方形凹槽的長(zhǎng)為22mm、寬為3mm,左儲(chǔ)液槽a的形狀為圓形凹槽，圓形凹槽的直徑為5_，右儲(chǔ)液槽d的結(jié)構(gòu)與左儲(chǔ)液槽a完全相同。其他零部件以及零部件的聯(lián)接關(guān)系與實(shí)施例I相同。
[0020]實(shí)施例4
[0021]在實(shí)施例1中，電解池c的結(jié)構(gòu)為長(zhǎng)方形凹槽，長(zhǎng)方形凹槽的長(zhǎng)為9mm、寬為6mm，電解池c長(zhǎng)度方向的中心線與左儲(chǔ)液槽a、右儲(chǔ)液槽d、通道b的中心線相重合。其他零部件及零部件的連接關(guān)系與相應(yīng)的實(shí)施例相同。
【權(quán)利要求】
1.一種雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池，其特征在于:在下基片(3)的上表面設(shè)置有中基片(2)，中基片(2)的上表面設(shè)置有上基片(I)，在上基片(I)的中心位置加工有電解池(C)，電解池(c)的底為中基片(2)，在上基片⑴和中基片(2)的中心位置加工有通道(b)，通道(b)的底為下基片(3)，在上基片(I)及中基片(2)上通道(b)的左端加工有左儲(chǔ)液槽(a)、右端加工有右儲(chǔ)液槽(d)，通道(b)與左儲(chǔ)液槽(a)和右儲(chǔ)液槽(d)相聯(lián)通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池，其特征在于:所述的電解池(c)的形狀為正方形電解池凹槽或長(zhǎng)方形電解池凹槽；所述的通道(b)的形狀為長(zhǎng)方形凹槽，長(zhǎng)方形凹槽的長(zhǎng)邊長(zhǎng)> 正方形凹槽的邊長(zhǎng)，正方形凹槽的邊長(zhǎng) >長(zhǎng)方形凹槽的寬邊長(zhǎng)；所述的左儲(chǔ)液槽(a)、右儲(chǔ)液槽(d)、通道(b)的中心線與電解池(C)的水平中心線相重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池，其特征在于:所述的左儲(chǔ)液槽(a)的形狀為圓形凹槽，圓形凹槽的直徑>通道(b)的寬，右儲(chǔ)液槽(d)的形狀與左儲(chǔ)液槽(a)的形狀完全相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池，其特征在于:所述的正方形電解池凹+槽的邊長(zhǎng)為6?9mm，長(zhǎng)方形電解池凹槽長(zhǎng)X寬為6X9 ;所述的通道(b)的長(zhǎng)為16?22mm、寬為2?3mm ;所述的左儲(chǔ)液槽(a)和右儲(chǔ)液槽(d)的直徑為3?5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙極性電極電化學(xué)發(fā)光成像電解池，其特征在于:所述的正方形電解池的邊長(zhǎng)為8.5mm ;所述的通道(b)的長(zhǎng)為20mm、寬為3mm ;所述的左儲(chǔ)液槽(a)、右儲(chǔ)液槽⑷的直徑為4mm。
【文檔編號(hào)】G01N21/76GK203929704SQ201420221143
【公開(kāi)日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月30日
【發(fā)明者】張成孝, 孫麗娟, 漆紅蘭, 阮三鵬, 杜瀅鑫 申請(qǐng)人:陜西師范大學(xué)