圓盤狀基板的形狀測定裝置及其方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種圓盤狀基板的形狀測定裝置，能夠高速且高精度地測定圓盤狀基板的圓周邊緣的形狀。圓盤狀基板的形狀測定裝置具備：測定部，不與圓盤狀基板的圓周邊緣接觸地測定所述圓周邊緣的形狀；計(jì)算部，使用基于所述圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)而提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)，計(jì)算與所述圓周邊緣近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)；輸出部，輸出由所述計(jì)算部計(jì)算出的形狀數(shù)據(jù)；搬出/搬入機(jī)構(gòu)，將圓盤狀基板從收納容器搬出，并且在進(jìn)行了所述圓周邊緣的形狀的測定后將所搬出的圓盤狀基板搬入所述收納容器；以及移動機(jī)構(gòu)，使所述收納容器與所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的相對位置移動，以使所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)能夠?qū)⑹占{在所述收納容器中的其他圓盤狀基板搬出/搬入。
【專利說明】圓盤狀基板的形狀測定裝置及其方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及測定圓盤狀基板的圓周邊緣的形狀的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]作為涉及測定圓盤狀基板的圓周邊緣的形狀的裝置的現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)，已知例如專利文獻(xiàn)1、2。專利文獻(xiàn)I的測定裝置具有內(nèi)徑測定部，所述內(nèi)徑測定部使在中央形成有圓孔的圓盤狀基板向面內(nèi)方向旋轉(zhuǎn)成為多個不同的姿勢，按多個不同的姿勢取得圓孔的弦的長度，將最大的弦的長度作為圓孔的內(nèi)徑樣本值，從而確定內(nèi)徑。專利文獻(xiàn)2的測定裝置具有內(nèi)徑測定部，所述內(nèi)徑測定部通過受光部所取得的光量分布來取得基板的圓孔的弦的長度，將最大的弦的長度作為圓孔的內(nèi)徑。
[0003]專利文獻(xiàn)1:日本特開2009-14362號公報
[0004]專利文獻(xiàn)2:日本特開2011-220999號公報
[0005]然而，在專利文獻(xiàn)I的測定裝置中，若不使基板成為多個不同的姿勢則無法最終測定內(nèi)徑，因而可能存在測定時間變長而生產(chǎn)率變差的問題。而且，在專利文獻(xiàn)2的測定裝置中，將最大的弦的長度作為圓孔的內(nèi)徑，因此測定精度容易受到圓孔的圓度影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種圓盤狀基板的形狀測定裝置及其方法，能夠高速且高精度地測定圓盤狀基板的圓周邊緣的形狀。
[0007]為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明提供一種圓盤狀基板的形狀測定裝置，其具備:
[0008]測定部，不與圓盤狀基板的圓周邊緣接觸地測定所述圓周邊緣的形狀；
[0009]計(jì)算部，使用基于所述圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)而提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)，計(jì)算與所述圓周邊緣近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)；
[0010]輸出部，輸出由所述計(jì)算部計(jì)算出的形狀數(shù)據(jù)；
[0011]搬出/搬入機(jī)構(gòu)，將圓盤狀基板從收納容器搬出，并且在進(jìn)行了所述圓周邊緣的形狀的測定后將所搬出的圓盤狀基板搬入所述收納容器；以及
[0012]移動機(jī)構(gòu)，使所述收納容器與所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的相對位置移動，以使所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)能夠?qū)⑹占{在所述收納容器中的其他圓盤狀基板搬出/搬入。
[0013]而且，為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明提供一種圓盤狀基板的形狀測定方法，其包括如下工序:
[0014]搬出工序，通過搬出/搬入機(jī)構(gòu)將圓盤狀基板從收納容器搬出；
[0015]測定工序，不與在所述搬出工序中被搬出的圓盤狀基板的圓周邊緣接觸地測定所述圓周邊緣的形狀；
[0016]計(jì)算工序，使用基于所述圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)而提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)，計(jì)算與所述圓周邊緣近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)；
[0017]輸出工序，輸出在所述計(jì)算工序中計(jì)算出的形狀數(shù)據(jù)；[0018]搬入工序，在進(jìn)行了所述圓周邊緣的形狀的測定后將由所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)搬出的圓盤狀基板搬入所述收納容器；以及
[0019]移動工序，使所述收納容器與所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的相對位置移動，以便能夠?qū)⒔酉聛硪M(jìn)行測定的圓盤狀基板搬出/搬入。
[0020]根據(jù)本發(fā)明，能夠高速且高精度地測定圓盤狀基板的圓周邊緣的形狀。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1是示意性地示出形狀測定裝置的一例的圖。
[0022]圖2是搬出/搬入機(jī)構(gòu)的基板支承部的變形例。
[0023]圖3是示出基于圓周邊緣的攝像數(shù)據(jù)提取的邊緣和該邊緣上的多個點(diǎn)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)的圖。
[0024]圖4是示出通過線性激光求得內(nèi)周邊緣上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)，并計(jì)算與內(nèi)周邊緣近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)的方法的一例的圖。
[0025]圖5是示出通過線性激光求得外周邊緣上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)，并計(jì)算與外周邊緣近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)的方法的一例的圖。
[0026]圖6是示出通過面陣相機(jī)求得圓周邊緣上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)的情況的圖。
[0027]圖7是從上方觀察盒的圖。
[0028]圖8是說明升降機(jī)構(gòu)和移動機(jī)構(gòu)兩者的動作的說明圖。
[0029]圖9是用于說明玻璃基板和基板保持器的支承狀態(tài)的圖。
[0030]圖10是示出近似圓的形狀數(shù)據(jù)的計(jì)算/輸出方法的一例的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031 ] 下面，按照【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的實(shí)施方式。
[0032][形狀測定裝置的結(jié)構(gòu)]
[0033]圖1是示意性地示出本發(fā)明的一種實(shí)施方式的形狀測定裝置I的結(jié)構(gòu)的圖。玻璃基板W的形狀測定裝置I的主要結(jié)構(gòu)包括激光光源11、受光部12、計(jì)算機(jī)14、顯示器15、基板支承部20、驅(qū)動機(jī)構(gòu)45和載物架44。玻璃基板W是在中央部形成有圓狀的圓孔C的環(huán)狀的圓盤狀基板。
[0034]激光光源11和受光部12是不與玻璃基板W的圓周邊緣接觸地測定該圓周邊緣的形狀的測定部(也可以稱為非接觸測定部、非接觸觀測部。下面，也簡稱為“測定部”)。作為形狀測定的對象的圓周邊緣是玻璃基板W的輪廓，可以是玻璃基板W的圓孔C的內(nèi)周邊緣CI，也可以是玻璃基板W的圓狀的外周邊緣C2。
[0035]激光光源11是朝向玻璃基板W的主平面S照射線性激光13 (線性光的一例)的投光部。主平面S是由內(nèi)周邊緣Cl和外周邊緣C2夾著的平面狀的環(huán)狀面。
[0036]受光部12相對于玻璃基板W配置在與激光光源11相反的一側(cè)。受光部12接收在玻璃基板W的圓周邊緣及其附近通過而到達(dá)的線性激光13，并將與其接收的光量分布對應(yīng)的數(shù)據(jù)作為玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)輸出到計(jì)算機(jī)14。S卩，受光部12測定其接收的光量分布的變化點(diǎn)作為玻璃基板W的圓周邊緣。也可以是，受光部12基于玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)提取邊緣，并將所提取的邊緣的坐標(biāo)數(shù)據(jù)輸出到計(jì)算機(jī)14。
[0037]不與玻璃基板W的圓周邊緣接觸地測定該圓周邊緣的形狀的測定部不限于激光光源11和受光部12。例如可以將激光光源11和受光部12置換為線陣相機(jī)(Line Camera)(也稱為“線傳感器”(Line Sensor))，也可以將激光光源11和受光部12置換為面陣相機(jī)(Area Camera)(也稱為“面?zhèn)鞲衅鳌?Area Sensor))。線陣相機(jī)或者面陣相機(jī)將以玻璃基板W的圓周邊緣的一部分或全部為被攝體的攝像數(shù)據(jù)作為玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)而輸出到計(jì)算機(jī)14。也可以是，線陣相機(jī)或面陣相機(jī)基于圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)(攝像數(shù)據(jù))提取邊緣，并將所提取的邊緣的坐標(biāo)數(shù)據(jù)輸出到計(jì)算機(jī)14。
[0038]而且，不與玻璃基板W的圓周邊緣接觸地測定該圓周邊緣的形狀的測定部也可以是反射型移位傳感器，所述反射型移位傳感器具備將受光部12設(shè)于激光光源11側(cè)而構(gòu)成的投受光器。
[0039]計(jì)算機(jī)14是計(jì)算部，其使用基于玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)，來計(jì)算與玻璃基板W的圓周邊緣近似地貼合的近似圓的形狀數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)14例如在圓周邊緣的近似圓的形狀數(shù)據(jù)的計(jì)算中使用基于玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)提取的邊緣上的多個點(diǎn)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)14例如可以根據(jù)提取的邊緣上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)而基于最小二乘法導(dǎo)出與玻璃基板W的圓周邊緣近似地貼合的近似圓的半徑及中心坐標(biāo)，并計(jì)算由所導(dǎo)出的半徑和中心坐標(biāo)確定的近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
[0040]近似圓的形狀數(shù)據(jù)例如可以列舉出近似圓的直徑、圓度、缺口等。例如，通過將外周邊緣C2的近似圓和內(nèi)周邊緣Cl的近似圓導(dǎo)出，不僅能夠計(jì)算外周邊緣C2和內(nèi)周邊緣Cl各自的直徑、圓度、缺口等形狀數(shù)據(jù)，而且還能夠計(jì)算外周邊緣C2與內(nèi)周邊緣Cl的同心度來作為形狀數(shù)據(jù)。外周邊緣C2的直徑相當(dāng)于玻璃基板W的外徑，內(nèi)周邊緣Cl的直徑相當(dāng)于玻璃基板W的內(nèi)徑。
[0041]邊緣的提取可以由測定部進(jìn)行，也可以由計(jì)算機(jī)14進(jìn)行。而且，邊緣的提取可以通過測定數(shù)據(jù)的波形處理來進(jìn)行，也可以通過攝像數(shù)據(jù)的圖像處理來進(jìn)行。而且，對于所提取的邊緣上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)的導(dǎo)出，可以由測定部進(jìn)行，也可以由計(jì)算機(jī)14進(jìn)行。
[0042]顯示器15是將由計(jì)算機(jī)14之類的計(jì)算部計(jì)算的近似圓的形狀數(shù)據(jù)作為玻璃基板W的圓周邊緣的形狀數(shù)據(jù)輸出的輸出部、即顯示部。這樣的輸出部也可以包括揚(yáng)聲器等聲音輸出部、打印機(jī)等打印輸出部。
[0043]基板支承部20是搬出/搬入機(jī)構(gòu)，將玻璃基板W從盒40搬出，并在測定玻璃基板W的圓周邊緣的形狀后將搬出的玻璃基板搬入盒40。該搬出/搬入機(jī)構(gòu)也可以包括使基板支承部20在固定的直線方向(在該情況下為上下方向)移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)45。驅(qū)動機(jī)構(gòu)45例如基于來自計(jì)算機(jī)14的指令使基板支承部20升降。
[0044]基板支承部20具有軸21和固定在軸21的上端的基板保持器22。隨著軸21借助驅(qū)動機(jī)構(gòu)45上下移動，基板保持器22也上下移動?；灞３制?2例如是在外周邊緣C2支承從盒40搬出的玻璃基板W的基板支承件。盒40是能夠?qū)⒍鄠€玻璃基板W以使其相鄰的主平面S相對的方式并列地收容的收納容器。
[0045]基板支承部20用基板保持器22支承著玻璃基板W地將玻璃基板W從盒40搬出到測定部能夠測定玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的位置。而且，基板支承部20在玻璃基板W的圓周邊緣的形狀測定后，用基板保持器22支承著玻璃基板W地將玻璃基板W搬入盒40中的該玻璃基板W的原始的收容位置。
[0046]載物架44是使盒40與基板支承部20的相對位置移動以使基板支承部20能夠搬出/搬入收容于盒40的其他圓盤狀基板的移動機(jī)構(gòu)。該移動機(jī)構(gòu)也可以包括使載物架44在固定的直線方向(在該情況下為左右方向)移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)45。驅(qū)動機(jī)構(gòu)45例如基于來自計(jì)算機(jī)14的指令使載物架44在左右方向移動。
[0047]載物架44例如可以是使盒40和基板支承部20的相對位置在各玻璃基板W排列的方向上間距(Pitch)移動以使收容于盒40的各玻璃基板W由基板支承部20搬出/搬入的間距移動機(jī)構(gòu)。
[0048]因此，根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠高速且高精度地測定玻璃基板W的圓周邊緣的形狀。SP，通過基板支承部20和載物架44，能夠?qū)⑹占{于盒40的多個玻璃基板W高速地替換并依次搬送到測定部能夠進(jìn)行形狀測定的位置。而且，使用基于玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)，作成該圓周邊緣的近似圓，計(jì)算該作成的近似圓的形狀數(shù)據(jù)。因此，即使玻璃基板W的實(shí)際的圓周邊緣的圓度低，也能夠高精度無偏差地測定圓周邊緣的形狀。例如，若將圓周邊緣的直徑定義為圓周邊緣的最大的弦的長度的話，則隨著圓度的降低，測定結(jié)果發(fā)生偏差。
[0049][基板支承部的變形例]
[0050]圖2是示出與外周邊緣C2外切地支承玻璃基板W的基板支承部20的變形例的圖。[0051 ] 圖2 (a)的基板支承部20A具有從外周邊緣C2的下側(cè)支承玻璃基板W的基板保持器22。
[0052]圖2 (b)的基板支承部20B具有比基板支承部20A的基板保持器22小的基板保持器23，以能夠盡量縮窄作為形狀測定的對象的外周邊緣C2被擋住的范圍。而且，基板保持器23為了防止因基板保持器23的支承而無法準(zhǔn)確地測定外周邊緣C2的形狀的測定數(shù)據(jù)，具有使支承外周邊緣C2的部分透明的透明部24。透明部24使光透過外周邊緣C2由透明部24支承的部分。通過這樣，能夠盡量增加作成外周邊緣C2的近似圓所需的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，因此改善了近似圓的近似精度，結(jié)果是玻璃基板W的圓周邊緣的形狀測定的精度也改善了。另外，“透明”也包括半透明。
[0053]圖2 (C)的基板支承部20C具有從玻璃基板W的外周邊緣C2的下側(cè)支承的基板保持器25和從外周邊緣C2的上側(cè)支承玻璃基板W的基板保持器26。由此，能夠在上下支承玻璃基板W，因此能夠有效地抑制玻璃基板W相對于鉛直方向的傾斜?；灞３制?6例如也可以由位置固定的軸27固定。
[0054]圖2 (d)的基板支承部20D具有從玻璃基板W的外周邊緣C2的下側(cè)支承的基板保持器41、42和從外周邊緣C2的上側(cè)支承玻璃基板W的基板保持器43。基板保持器41、42、43與玻璃基板W的外周邊緣C2外切。基板保持器41、42、43也可以是使玻璃基板W沿其周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)輥。在該情況下，基板保持器41、42、43可以全部具備對玻璃基板W施加旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動源，也可以是僅其中一部分具備該種驅(qū)動源，而其他則不具備該種驅(qū)動源而作為旋轉(zhuǎn)支承引導(dǎo)件發(fā)揮作用。
[0055][近似圓的形狀數(shù)據(jù)的計(jì)算]
[0056]計(jì)算機(jī)14為了計(jì)算對玻璃基板W的圓周邊緣以最小二乘法近似后的近似圓的形狀數(shù)據(jù)，需要求得基于玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)提取的邊緣上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)。
[0057]圖3是示出基于玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)(攝像數(shù)據(jù))提取的邊緣Wa和邊緣Wa上的多個點(diǎn)Pi的坐標(biāo)數(shù)據(jù)(xi，yi)的圖(i為自然數(shù))。圖3是示出面陣相機(jī)在攝像范圍16拍攝玻璃基板W的圓周邊緣的一部分而得到的攝像圖像。面陣相機(jī)所得到的攝像圖像由多個像素構(gòu)成。通過被分配到構(gòu)成攝像圖像的各像素的坐標(biāo)，能夠表示攝像圖像內(nèi)的被攝體的位置。
[0058]若將圖3所示的攝像圖像的左右方向作為X軸方向，將上下方向作為y軸方向的話，邊緣Wa上的多個點(diǎn)Pi能夠由表示點(diǎn)Pi所屬的像素的位置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)(xi，yi)確定(i為自然數(shù))。
[0059]圖4是示出通過線性激光13求得內(nèi)周邊緣Cl上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)，并計(jì)算與內(nèi)周邊緣Cl近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)的方法的一例的圖。另外，線陣相機(jī)的情況也相同，因此在此列舉線性激光為例進(jìn)行說明。
[0060]在圖4中，在各圖的左側(cè)示出內(nèi)周邊緣Cl與線性激光13的位置關(guān)系，在各圖的右側(cè)示出由受光部12 (參照圖1)測定的內(nèi)周邊緣Cl的測定數(shù)據(jù)al?a8的波形圖像。基板保持器41、42將玻璃基板W從盒40(參照圖1)的下部推起到線性激光13的通過位置。線性激光13的通過位置不變。
[0061]另外，在圖4中圖示了基板保持器41、42的情況，不過也可以是圖2中例示的基板保持器，這些以外的形狀的基板保持器也同樣可以考慮。這同樣適用于其他附圖。
[0062]在圖4中，計(jì)算機(jī)14或受光部12檢測因線性激光13與內(nèi)周邊緣Cl相交而在測定數(shù)據(jù)al?a8產(chǎn)生的邊緣pi?p6，并將邊緣pi?p6的坐標(biāo)數(shù)據(jù)作為內(nèi)周邊緣Cl上的坐標(biāo)數(shù)據(jù)來進(jìn)行檢測。另外，在圖4(b)的情況下，通過使線性激光13與內(nèi)周邊緣Cl相交，產(chǎn)生測定數(shù)據(jù)a2或a3。圖4(c)、圖4(d)也是一樣的。
[0063]計(jì)算機(jī)14或受光部12取得多個如此檢測出的邊緣的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，根據(jù)所述多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)作成內(nèi)周邊緣Cl的近似圓，并計(jì)算該近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
[0064]圖5是示出通過線性激光13求得外周邊緣C2上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)，并計(jì)算與外周邊緣C2近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)的方法的一例的圖。另外，線陣相機(jī)的情況也相同，因此在此列舉線性激光為例進(jìn)行說明。
[0065]在圖5中，在各圖的左側(cè)示出外周邊緣C2與線性激光13的位置關(guān)系，在各圖的右側(cè)示出由受光部12 (參照圖1)測定的外周邊緣C2的測定數(shù)據(jù)bl?b8的波形圖像?；灞３制?1、42將玻璃基板W從盒40(參照圖1)的下部推起到線性激光13的通過位置。線性激光13的通過位置不變。
[0066]計(jì)算機(jī)14或受光部12檢測因線性激光13與外周邊緣C2相交而在測定數(shù)據(jù)bl?b8產(chǎn)生的邊緣ql?q8，并將邊緣ql?q8中除去邊緣q4和q5以外的坐標(biāo)數(shù)據(jù)作為外周邊緣C2上的坐標(biāo)數(shù)據(jù)來進(jìn)行檢測。邊緣q4和q5是與內(nèi)周邊緣Cl對應(yīng)的邊緣。因此，從測定數(shù)據(jù)bl?b8所產(chǎn)生的邊緣ql?q8去除通過上述圖4的方法檢測出的邊緣即可。另夕卜，在圖5(b)的情況下，通過使線性激光13與外周邊緣C2相交，產(chǎn)生測定數(shù)據(jù)b2或b3。圖5(c)、圖5(d)也是一樣的。
[0067]計(jì)算機(jī)14或受光部12取得多個如此檢測出的邊緣的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，根據(jù)所述多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)作成外周邊緣C2的近似圓，并計(jì)算該近似圓的形狀數(shù)據(jù)。[0068]圖6是示出通過面陣相機(jī)求得內(nèi)周邊緣Cl或外周邊緣C2上的多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)，并計(jì)算與內(nèi)周邊緣Cl或外周邊緣C2近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)的方法的一例的圖。
[0069]在圖6中，示出了測定內(nèi)周邊緣Cl時的面陣相機(jī)的攝像范圍16a與內(nèi)周緣部Cl的位置關(guān)系、以及測定外周邊緣C2時的面陣相機(jī)的攝像范圍16b與外周邊緣C2的位置關(guān)系?；灞３制?1、42將玻璃基板W從盒40 (參照圖1)的下部推起到面陣相機(jī)的攝像范圍。
[0070]計(jì)算機(jī)14或受光部12基于面陣相機(jī)的像素的坐標(biāo)取得內(nèi)周邊緣Cl或外周邊緣C2上的多個點(diǎn)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，根據(jù)所述多個坐標(biāo)數(shù)據(jù)作成內(nèi)周邊緣Cl或外周邊緣C2的近似圓，并計(jì)算該近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
[0071]另外，計(jì)算機(jī)14或受光部12也可以不使用玻璃基板W的整個圓周邊緣中存在異常的部分(下面，也稱為“異常部分”)上的點(diǎn)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)地計(jì)算該圓周邊緣的近似圓的形狀數(shù)據(jù)。這是因?yàn)?，若使用異常部分的坐?biāo)數(shù)據(jù)的話，近似圓的近似精度降低。
[0072]異常部分指的是，例如因由基板保持器支承玻璃基板W而導(dǎo)致測定部無法準(zhǔn)確測定該玻璃基板W的圓周邊緣的形狀的部分。具體來說，圖5(d)或圖6中，整個外周邊緣C2中玻璃基板W的下側(cè)區(qū)域B2內(nèi)的圓弧部分相當(dāng)于異常部分。在該圓弧部分，基板保持器41,42與外周邊緣C2外切，因此外周邊緣C2的輪廓被基板保持器41、42擋住，無法準(zhǔn)確測定外周邊緣C2。
[0073]因此，計(jì)算機(jī)14或受光部12可以在由測定部測定玻璃基板W的整個圓周邊緣的形狀后，除去異常部分上的點(diǎn)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)來計(jì)算該圓周邊緣的近似圓的形狀數(shù)據(jù)。即，在圖5(d)或圖6中，可以使用從玻璃基板W的整個區(qū)域(B1+B2)內(nèi)的內(nèi)周邊緣上的坐標(biāo)數(shù)據(jù)除去區(qū)域B2內(nèi)的圓弧部分上的坐標(biāo)數(shù)據(jù)而余下的坐標(biāo)數(shù)據(jù)來計(jì)算近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
[0074]基板保持器41、42的坐標(biāo)和大小是已知的。因此，可以從整個圓周邊緣的坐標(biāo)數(shù)據(jù)中除去因基板保持器41、42而對圓周邊緣的測定產(chǎn)生影響的異常部分的坐標(biāo)數(shù)據(jù)(例如，在圖5(d)中，外切切點(diǎn)A1、A2的坐標(biāo)數(shù)據(jù))。而且，也可以將提取的邊緣上的多個點(diǎn)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)中臨近的坐標(biāo)數(shù)據(jù)彼此比較來確定位置變化大的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，從而檢測異常部分。
[0075]而且，計(jì)算機(jī)14或受光部12可以在由測定部測定從玻璃基板W的整個圓周邊緣中除去了異常部分而得的部分的形狀后，計(jì)算該圓周邊緣的近似圓的形狀數(shù)據(jù)。即，在圖5(d)或圖6中，測定部不測定下側(cè)區(qū)域B2上的圓周邊緣的形狀，僅測定上側(cè)區(qū)域BI內(nèi)的圓周邊緣的形狀。并且，也可以僅使用上側(cè)區(qū)域BI內(nèi)的圓周邊緣上的點(diǎn)的坐標(biāo)數(shù)據(jù)來計(jì)算近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
[0076]基板保持器41、42的坐標(biāo)和大小是已知的。因此，能夠預(yù)先確定整個圓周邊緣中因基板保持器41、42而對圓周邊緣的測定產(chǎn)生影響的異常部分。
[0077]而且，為了避免使用異常部分的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，也可以使基板保持器41等旋轉(zhuǎn)支承部作為使玻璃基板W沿其周向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)輥發(fā)揮作用。由此，能夠在圓周邊緣的形狀的測定過程中改變玻璃基板W的被基板保持器41、42支承的部分，能夠準(zhǔn)確地測定整個圓周邊緣的形狀。而且，為了避免異常部分的坐標(biāo)數(shù)據(jù)的使用，也可以如圖2(b)所示地設(shè)置透明部24。
[0078][多個玻璃基板的形狀測定的高速化]
[0079]圖7是從上方觀察盒40的圖。盒40是能夠?qū)⒍鄠€玻璃基板W在以使其主平面S鉛直的方式立起的狀態(tài)下在橫向(即主平面S的法線方向)上彼此隔離地并列收納起來的收納容器(作為具體例子:擱架)。盒40對多個玻璃基板W在它們的上部和下部敞開并露出的狀態(tài)下進(jìn)行支承?；灞３制?1、42作為升降機(jī)構(gòu)，能夠?qū)⒁粡埐ＡЩ錡從下方推起到規(guī)定位置，再使被推起到規(guī)定位置的玻璃基板下降?；灞３制?1、42在推起前的初始狀態(tài)下配置在盒40的下方。在該規(guī)定位置，可以設(shè)置圖2(d)所示的旋轉(zhuǎn)輥43(在圖7中省略)，所述旋轉(zhuǎn)輥43固定玻璃基板W或者具備對玻璃基板W施加其周向的旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動源。而且，盒40放置在能夠使盒40橫向移動的載物架44上。
[0080]圖8是說明具有基板保持器41、42、43的升降機(jī)構(gòu)和具有盒40的移動機(jī)構(gòu)兩者的動作的說明圖。圖8是從側(cè)方觀察盒40的圖。
[0081]另外，在圖8中圖示了基板保持器41、42、43的情況，不過也可以是圖2中例示的基板保持器，除此之外的形狀的基板保持器也同樣可以考慮。這同樣適用于其他附圖。
[0082]如圖8 (a)、圖8 (b)所示，當(dāng)未圖示的測定開始開關(guān)被按下時，基板保持器41、42借助驅(qū)動機(jī)構(gòu)45上升?；灞３制?1、42支承著玻璃基板Wl的下部的外周端面地使玻璃基板Wl保持立起狀態(tài)地上升并從盒40脫離。
[0083]如圖8(c)所示，基板保持器41、42使玻璃基板Wl上升直到玻璃基板Wl的上部的外周端面與基板保持器43接觸。并且，基板保持器43固定玻璃基板W1，在因通過基板保持器41、42支承玻璃基板Wl而使測定部無法準(zhǔn)確測定圓周邊緣的形狀的情況下，可以通過馬達(dá)M的驅(qū)動力使玻璃基板Wl沿周向旋轉(zhuǎn)。
[0084]在線性激光或線陣相機(jī)等線傳感器方式的情況下，在上升到規(guī)定位置的同時測定圓周邊緣的形狀。在面陣相機(jī)等面?zhèn)鞲衅鞣绞降那闆r下，在上升到規(guī)定位置后測定圓周邊緣的形狀。
[0085]如圖8(d)所示，在圓周邊緣的形狀的測定結(jié)束后，基板保持器41、42使玻璃基板Wl保持立起狀態(tài)地下降，回到盒40的原始的收容位置。
[0086]如圖8(e)所示，盒40移動一個間距(收納間隔的長度量)，以便通過基板保持器41,42使收納在玻璃基板Wl的收容位置的相鄰位置并且接下來要進(jìn)行形狀測定的玻璃基板W2能夠從盒40上升并脫離。作為使盒40和基板保持器41、42的橫向的相對位置移動的間距移動機(jī)構(gòu)，具備載物架44和控制載物架44的橫向移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)45。
[0087]如圖8(f)所示，基板保持器41、42支承著玻璃基板W2的下部的外周端面地使玻璃基板W2保持立起狀態(tài)地上升并從盒40脫離。以下同樣地重復(fù)。
[0088]通過這樣的結(jié)構(gòu)，即使要測定圓周邊緣的形狀的玻璃基板W存在多個，也能夠高速地自動處理其形狀測定。即，能夠進(jìn)行與玻璃基板W的形狀測定有關(guān)的全部檢查。
[0089][玻璃基板W的傾斜檢測]
[0090]如圖1所示，形狀測定裝置I也可以具備檢測玻璃基板W的傾斜的移位傳感器30。移位傳感器30是在物體從某個位置向其他位置移動時測定其移動量的裝置，作為測定所述移動量(移位量)的方式，存在以磁場、光、聲波為介質(zhì)的非接觸式的移位傳感器和刻度盤、差動變壓器等接觸式的移位傳感器。在本實(shí)施方式中，優(yōu)選采用例如激光對焦式、光學(xué)式、靜電容量式、超聲波式等非接觸式的移位傳感器。移位傳感器30采用光學(xué)式的情況下，通過向玻璃基板W的主平面S照射光31，非接觸地檢測玻璃基板W相對于鉛直方向的傾斜。
[0091]計(jì)算機(jī)14使用由移位傳感器30檢測出的傾斜，修正地計(jì)算玻璃基板W的近似圓的形狀數(shù)據(jù)。由此，即使玻璃基板W傾斜，也能夠防止近似圓的精度降低。
[0092]另外，移位傳感器30還能夠利用玻璃基板W的主平面S的反射在正反間的不同，來測定玻璃基板W的板厚。
[0093]圖9是用于說明玻璃基板W和基板保持器22的支承狀態(tài)的圖?；灞３制?2作為承托玻璃基板W的外周邊緣C2的承托部而具有槽28。作為槽28的一例在圖9示出了 V型槽，但槽28也可以是U型槽、矩形槽。
[0094]由于玻璃基板W與槽28之間存在游隙，因此即使在基板保持器22如圖9所示未相對于水平面L3傾斜的狀態(tài)下，玻璃基板W實(shí)際上也相對于鉛直方向LI向L2方向傾斜微小角度α。
[0095]因此，基于激光光源11等測定部的測定數(shù)據(jù)確定的坐標(biāo)數(shù)據(jù)包括與角度α對應(yīng)的誤差。因此，計(jì)算機(jī)14例如基于由移位傳感器30檢測出的傾斜α與誤差的關(guān)系對照表，能夠修正基于測定部的測定數(shù)據(jù)確定的坐標(biāo)數(shù)據(jù)。這樣的關(guān)系對照表可以預(yù)先測定其對應(yīng)關(guān)系并存儲到存儲器等中。
[0096]而且，也可以通過使基板保持器22自身相對于水平面L3傾斜，使玻璃基板W的主平面S與槽28的限制面28a或28b抵接。由此，借助玻璃基板W的自重，主平面S被限制面28a或28b按壓，因此能夠抑制玻璃基板W的傾斜的程度(微小角度α的變動)、振動。
[0097][近似圓的形狀數(shù)據(jù)的計(jì)算/輸出方法]
[0098]圖10是示出近似圓的形狀數(shù)據(jù)的計(jì)算/輸出方法的一例的流程圖。圖10是測定圓周邊緣的直徑的方法。
[0099]計(jì)算機(jī)14通過圖像或激光取得圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)(步驟Sll)，將該測定數(shù)據(jù)內(nèi)部存儲在存儲器(步驟S13)。接著，計(jì)算機(jī)14基于內(nèi)部存儲的測定數(shù)據(jù)執(zhí)行邊緣的提取處理，檢測通過所述提取處理提取的邊緣上的多個邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)(步驟S15。在圖3?圖6中例示)。
[0100]另一方面，計(jì)算機(jī)14從移位傳感器30取得玻璃基板W的傾斜數(shù)據(jù)(步驟S17)，基于取得的傾斜數(shù)據(jù)，計(jì)算用于修正在步驟S15中提取的邊緣上的點(diǎn)的邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)的修正值(步驟S19)。計(jì)算機(jī)14使用在步驟S19中計(jì)算出的修正值來修正在步驟S15中檢測出的坐標(biāo)數(shù)據(jù)(步驟S20)。另外，在不需要修正的情況下，步驟S17?S20也可以取消。
[0101]在步驟S22中，計(jì)算機(jī)14進(jìn)行邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)的異常確認(rèn)。例如，在邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)中，對坐標(biāo)靠近的數(shù)據(jù)彼此(例如，坐標(biāo)相鄰的數(shù)據(jù)彼此)進(jìn)行比較，提取所述數(shù)據(jù)間的距離偏離規(guī)定值以上的邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)。
[0102]在步驟S24中，在沒有偏離規(guī)定值以上的邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)的情況下，計(jì)算機(jī)14使用在步驟S15中檢測出的所有的邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)，執(zhí)行近似圓的計(jì)算(步驟S26)。
[0103]在步驟S28中，計(jì)算機(jī)14進(jìn)行計(jì)算出的近似圓數(shù)據(jù)(例如，近似圓的半徑、近似圓的中心坐標(biāo)等)的異常確認(rèn)。例如，判斷近似圓數(shù)據(jù)是否滿足預(yù)定的基準(zhǔn)值。計(jì)算機(jī)14在近似圓數(shù)據(jù)滿足預(yù)定的基準(zhǔn)值的情況下(步驟S30)，將該近似圓的直徑顯示到顯示器15(步驟S32)，并記錄近似圓數(shù)據(jù)(步驟S34)。
[0104]另一方面，計(jì)算機(jī)14在近似圓數(shù)據(jù)不滿足預(yù)定的基準(zhǔn)值的情況下(步驟S30)，將通知近似圓的形狀數(shù)據(jù)的異常的缺陷信息和該近似圓的直徑顯示到顯示器15(步驟S36)，記錄近似圓數(shù)據(jù)(步驟S34)。缺陷信息指的是通知例如損傷、缺口、污物等的信息。[0105]另一方面，在步驟S24中，在存在偏離規(guī)定值以上的邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)的情況下，計(jì)算機(jī)14將偏離規(guī)定值以上的邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)作為異常坐標(biāo)數(shù)據(jù)存儲起來(步驟S38)。并且，計(jì)算機(jī)14使用從步驟S15中檢測出的所有的邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)除去異常坐標(biāo)數(shù)據(jù)后的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，執(zhí)行近似圓的計(jì)算(步驟S40)。
[0106]在步驟S42中，計(jì)算機(jī)14進(jìn)行計(jì)算出的近似圓數(shù)據(jù)(例如，近似圓的半徑、近似圓的中心坐標(biāo)等)的異常確認(rèn)。例如，判斷近似圓數(shù)據(jù)是否滿足預(yù)定的基準(zhǔn)值。計(jì)算機(jī)14在近似圓數(shù)據(jù)滿足預(yù)定的基準(zhǔn)值的情況下(步驟S44)，將通知邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)的異常的缺陷信息和該近似圓的直徑顯示到顯示器15 (步驟S46)，并記錄近似圓數(shù)據(jù)(步驟S34)。另一方面，計(jì)算機(jī)14在近似圓數(shù)據(jù)不滿足預(yù)定的基準(zhǔn)值的情況下(步驟S44)，將通知邊緣坐標(biāo)數(shù)據(jù)以及近似圓的形狀數(shù)據(jù)雙方的異常的缺陷信息和該近似圓的直徑顯示到顯示器15(步驟S48)，并記錄近似圓數(shù)據(jù)(步驟S34)。
[0107][玻璃基板的制造方法]
[0108]接下來，列舉磁記錄介質(zhì)用玻璃基板和磁盤的制造工序?yàn)槔f明在形狀測定裝置I的制造工序中的使用方法。
[0109]一般來說，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板和磁盤的制造工序包括下述工序。
[0110][工序I]將通過浮法、熔融法、再曳引法或者沖壓成形法成形的玻璃原基板加工成在中央部具有圓孔的圓盤形狀后，對內(nèi)周側(cè)面和外周側(cè)面進(jìn)打倒角加工。
[0111][工序2]對玻璃基板的側(cè)面部和倒角部進(jìn)行端面研磨。
[0112][工序3]研磨玻璃基板的主平面。研磨工序可以為僅有I次研磨，也可以進(jìn)行I次研磨和2次研磨，也可以在2次研磨后進(jìn)行3次研磨。
[0113][工序4]清洗玻璃基板，得到磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
[0114][工序5]在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上形成磁性層等的薄膜，制造磁盤(磁記錄介質(zhì))。
[0115]在所述磁記錄介質(zhì)用玻璃基板和磁盤的制造工序中，可以在[工序I]或[工序2]的工序的前后中的至少一方實(shí)施主平面的拋光(例如，游離磨粒拋光、固定磨粒拋光等)，也可以在各工序間實(shí)施玻璃基板的清洗(工序間清洗)、玻璃基板表面的刻蝕(工序間刻蝕)。另外，主平面的拋光(例如，游離磨粒拋光、固定磨粒拋光等)是廣義的主平面的研磨。
[0116]并且，在對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板要求高機(jī)械強(qiáng)度的情況下，可以在研磨工序前、或者在研磨工序后、又或者在研磨工序期間，實(shí)施在玻璃基板的表層形成強(qiáng)化層的強(qiáng)化工序(例如，化學(xué)強(qiáng)化工序)。
[0117]而且，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板可以是非晶玻璃，也可以是結(jié)晶化玻璃，也可以是在玻璃基板的表層具有強(qiáng)化層的強(qiáng)化玻璃(例如，化學(xué)強(qiáng)化玻璃)。而且，玻璃基板的玻璃原基板可以是通過浮法制造的，也可以是通過熔融法制造的，也可以是通過再曳引法制造的，也可以是通過沖壓成形法制造的。
[0118]本發(fā)明的形狀測定裝置及形狀測定方法在玻璃基板的形狀測定的精度方面優(yōu)良，因此優(yōu)選應(yīng)用于檢查[工序2]的端面研磨工序之后的玻璃基板的檢查工序，特別優(yōu)選應(yīng)用于磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的形狀檢查(磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的最終檢查)、在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板上形成磁性層等的薄膜而制造的磁盤的形狀檢查。[0119]以上，通過實(shí)施方式例說明了圓盤狀基板的形狀測定裝置及其方法，但本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施方式例。與其他實(shí)施方式例的一部分或全部的組合、置換等各種變形和改良均可在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0120]成為本發(fā)明的測定對象的玻璃基板并無特別限制，只要是圓盤形狀的基板即可。例如，玻璃基板的種類不限于磁記錄介質(zhì)用，也可以是光掩模用、液晶和有機(jī)EL等顯示器用、光拾取元件、光學(xué)濾波器、光學(xué)透鏡等光學(xué)部件用等。而且，圓盤狀基板不限于玻璃基板，也可以是鋁基板。
【權(quán)利要求】
1.一種圓盤狀基板的形狀測定裝置，其特征在于，具備: 測定部，不與圓盤狀基板的圓周邊緣接觸地測定所述圓周邊緣的形狀； 計(jì)算部，使用基于所述圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)而提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)，計(jì)算與所述圓周邊緣近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)； 輸出部，輸出由所述計(jì)算部計(jì)算出的形狀數(shù)據(jù)； 搬出/搬入機(jī)構(gòu)，將圓盤狀基板從收納容器搬出，并且在進(jìn)行了所述圓周邊緣的形狀的測定后將所搬出的圓盤狀基板搬入所述收納容器；以及 移動機(jī)構(gòu)，使所述收納容器與所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的相對位置移動，以使所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)能夠?qū)⑹占{在所述收納容器中的其他圓盤狀基板搬出/搬入。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述計(jì)算部不使用所述圓周邊緣的異常部分上的點(diǎn)數(shù)據(jù)地計(jì)算所述近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述異常部分是因所述圓盤狀基板被所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的基板支承部支承而使得所述測定部無法準(zhǔn)確地測定所述圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)的部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述計(jì)算部在由所述測定部測定所述圓周邊緣整體的形狀后，除去所述異常部分上的點(diǎn)數(shù)據(jù)，計(jì)算所述近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述異常部分通過將所述提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)中彼此靠近的數(shù)據(jù)相互比較來進(jìn)行檢測。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述計(jì)算部在由所述測定部測定所述圓周邊緣整體中除去了所述異常部分的部分的形狀后，計(jì)算所述近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的基板支承部具有透明部，所述透明部在支承圓盤狀基板的部分使光透過。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述圓盤狀基板的形狀測定裝置具備傾斜檢測部，所述傾斜檢測部檢測被所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的基板支承部支承的圓盤狀基板的傾斜， 所述計(jì)算部使用由所述傾斜檢測部檢測出的傾斜來修正地計(jì)算所述近似圓的形狀數(shù)據(jù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述計(jì)算部根據(jù)由所述傾斜檢測部檢測出的傾斜來校正所述提取的邊緣上的點(diǎn)數(shù)據(jù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述傾斜檢測部是非接觸式的移位傳感器。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述移位傳感器是能夠檢測所述搬出的圓盤狀基板的板厚的傳感器。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中，所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的基板支承部具有承托所述圓周邊緣的承托部， 通過使所述基板支承部相對于水平面傾斜，使由所述基板支承部支承的圓盤狀基板的主平面與所述承托部抵接。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述輸出部輸出通知所述提取的邊緣上的點(diǎn)數(shù)據(jù)的異常的信息和通知由所述計(jì)算部計(jì)算出的形狀數(shù)據(jù)的異常的信息的至少一方。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述圓周邊緣是在中央部具有圓孔的圓盤狀基板的內(nèi)周和外周的至少一方的邊緣。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述近似圓的形狀數(shù)據(jù)是包括直徑和圓度的至少一方的數(shù)據(jù)。
16.根據(jù)權(quán)利要求1至15的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置，其中， 所述圓盤狀基板是玻璃基板。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置， 其中， 所述玻璃基板是磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
18.—種圓盤狀基板的形狀測定方法，其特征在于，包括如下工序: 搬出工序，通過搬出/搬入機(jī)構(gòu)將圓盤狀基板從收納容器搬出； 測定工序，不與在所述搬出工序中被搬出的圓盤狀基板的圓周邊緣接觸地測定所述圓周邊緣的形狀； 計(jì)算工序，使用基于所述圓周邊緣的形狀的測定數(shù)據(jù)而提取的邊緣上的多個點(diǎn)數(shù)據(jù)，計(jì)算與所述圓周邊緣近似的近似圓的形狀數(shù)據(jù)； 輸出工序，輸出在所述計(jì)算工序中計(jì)算出的形狀數(shù)據(jù)； 搬入工序，在進(jìn)行了所述圓周邊緣的形狀的測定后將由所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)搬出的圓盤狀基板搬入所述收納容器；以及 移動工序，使所述收納容器與所述搬出/搬入機(jī)構(gòu)的相對位置移動，以便能夠?qū)⒔酉聛硪M(jìn)行形狀測定的圓盤狀基板搬出/搬入。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的圓盤狀基板的形狀測定方法，其中， 所述圓盤狀基板是玻璃基板。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圓盤狀基板的形狀測定方法，其中， 所述玻璃基板是磁記錄介質(zhì)用玻璃基板。
21.一種圓盤狀基板的制造方法，其特征在于， 具有使用權(quán)利要求1至17的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定裝置的檢查工序。
22.—種圓盤狀基板的制造方法，其特征在于， 包括通過權(quán)利要求18至20的任意一項(xiàng)所述的圓盤狀基板的形狀測定方法來檢查圓盤狀基板的檢查工序。
【文檔編號】G01B11/24GK103673919SQ201310394839
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年9月3日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月6日
【發(fā)明者】土屋誠 申請人:旭硝子株式會社