一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及線性遮光檢測(cè)技術(shù)，尤其是一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法。它將光敏電阻兩頭電阻片彎曲部分用不透光的絕緣體材料或涂料進(jìn)行遮蔽，將光敏電阻與運(yùn)動(dòng)遮光板方位設(shè)一致，在運(yùn)動(dòng)遮光板左右位移時(shí)檢測(cè)光敏電阻體不同位置的受光反應(yīng)線性折光面積和位移，檢測(cè)光敏電阻受光強(qiáng)度的不同以及阻值隨光強(qiáng)度的變化。本發(fā)明一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，技術(shù)簡(jiǎn)單，成本低廉，可實(shí)現(xiàn)線性化檢測(cè)，檢測(cè)光敏電阻不同電平的狀況。
【專利說(shuō)明】一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及線性遮光檢測(cè)技術(shù)，尤其是一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法。
技術(shù)背景
[0002]目前，光敏電阻遮光檢測(cè)通常應(yīng)用為光敏電阻的受光面全部受光方式，僅僅檢測(cè)出高低兩種電平的狀況，在遮光檢測(cè)中，由于受光的結(jié)構(gòu)形狀，不能線性反應(yīng)遮光面積與位移，而現(xiàn)有的檢測(cè)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，技術(shù)難度大，器材價(jià)格昂貴。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種技術(shù)簡(jiǎn)單，成本低廉，可實(shí)現(xiàn)線性化檢測(cè)，檢測(cè)光敏電阻不同的電平狀況的線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法。
[0004]本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，是將光敏電阻兩頭電阻片的彎曲部分用不透光的絕緣體材料或涂料進(jìn)行遮蔽，將光敏電阻與運(yùn)動(dòng)體遮光板方位設(shè)一致，在遮光板位移時(shí)檢測(cè)光敏電阻體不同位置的受光反應(yīng)線性折光面積和位移，檢測(cè)光敏電阻受光強(qiáng)度不同，阻值隨光強(qiáng)度的變化。
[0005]所述的光敏電阻兩頭電阻片的彎曲部分用不透光的絕緣體材料或涂料進(jìn)行遮蔽，光敏電阻電阻片上遮蔽和不遮蔽位置處的光照強(qiáng)度不同。
[0006]所述的光敏電阻與運(yùn)動(dòng)遮光板的左右運(yùn)動(dòng)方向一致，檢測(cè)運(yùn)動(dòng)遮光板運(yùn)動(dòng)到光敏電阻不同位置處時(shí)對(duì)應(yīng)的遮光偏移量、對(duì)應(yīng)的光照強(qiáng)度，檢測(cè)出線性比例的變化量。所述的檢測(cè)光敏電阻體不同位置受光反應(yīng)線性折光面積和位移，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中線性化運(yùn)動(dòng)遮光，光敏電阻阻值隨之變化，隨光照輸出不同種的電平狀況。
[0007]所述的運(yùn)動(dòng)遮光板在位移時(shí)光敏電阻折光面積不同，運(yùn)動(dòng)遮光板和光敏電阻相對(duì)位移中數(shù)字量連續(xù)檢測(cè)。
[0008]本發(fā)明的一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，技術(shù)簡(jiǎn)單，成本低廉，可實(shí)現(xiàn)線性化檢測(cè)，檢測(cè)光敏電阻不同電平的狀況。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1是本發(fā)明的普通光敏電阻的結(jié)構(gòu)示意圖
[0010]圖2是本發(fā)明遮光線性運(yùn)動(dòng)檢測(cè)形成圖
[0011]圖中:1.光敏電阻，2.電阻片，3.不透光絕緣體或涂料，4.遮光板。
【具體實(shí)施方式】
[0012]根據(jù)附圖1、2，本發(fā)明實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)的結(jié)構(gòu)包括光敏電阻1，安裝在光敏電阻I上的電阻片2和電阻片2兩頭彎曲部分的不透光絕緣材料或涂料3，在線性遮光檢測(cè)中運(yùn)動(dòng)遮光板4左右位移時(shí)，檢測(cè)光敏電阻在不同位置的光照面積，發(fā)生的線性位移，檢測(cè)阻值的變化。
[0013]在實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)時(shí)，將普通光敏電阻I上的電阻片2兩頭彎曲部分用不透光的絕緣材料或涂料3進(jìn)行遮擋，在運(yùn)動(dòng)遮光板4做左右運(yùn)動(dòng)時(shí)，光照在電阻片2被遮擋部分時(shí)，測(cè)定電阻值無(wú)窮大，輸出高電平，遮光板4在移動(dòng)中光照在第一片電阻片2時(shí)，測(cè)定電阻值稍高，繼續(xù)移動(dòng)時(shí)，在光照在不同個(gè)電阻片2時(shí)，電阻值也在發(fā)生變化，光照面積大時(shí)，阻值也相應(yīng)變小，輸出低電平，運(yùn)動(dòng)遮光板4每次發(fā)生位移，受光面積就相對(duì)應(yīng)變化，測(cè)定電阻值也相應(yīng)的發(fā)生變化，電平狀況也相應(yīng)變化，實(shí)現(xiàn)遮光型式位移檢測(cè)的線性化，能夠測(cè)定對(duì)應(yīng)遮光偏移量，能夠測(cè)定有線性比例的阻值變化量。
【權(quán)利要求】
1.一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于:將光敏電阻兩頭電阻片彎曲部分用不透光的絕緣體材料或涂料進(jìn)行遮蔽，將光敏電阻與運(yùn)動(dòng)遮光板的方位設(shè)一致，在運(yùn)動(dòng)遮光板左右位移時(shí)，檢測(cè)光敏電阻體不同位置的受光反應(yīng)線性折光面積和位移，光敏電阻受光強(qiáng)度的不同以及光敏電阻阻值隨光照強(qiáng)度的變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于:所述的光敏電阻兩頭電阻片彎曲部分用不透光的絕緣體材料或涂料進(jìn)行遮蔽，光敏電阻的電阻片上遮蔽和不遮蔽位置處的光照強(qiáng)度不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于:所述的光敏電阻與運(yùn)動(dòng)遮光板的左右運(yùn)動(dòng)方向一致，檢測(cè)運(yùn)動(dòng)遮光板運(yùn)動(dòng)到光敏電阻不同位置處時(shí)對(duì)應(yīng)的遮光偏移量、對(duì)應(yīng)光照強(qiáng)度，檢測(cè)出線性比例的變化量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于:所述的檢測(cè)光敏電阻體不同位置受光反應(yīng)線性折光面積和位移，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中線性化運(yùn)動(dòng)遮光，光敏電阻阻值隨之變化，隨光照輸出不同種的電平狀況。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種普通光敏電阻實(shí)現(xiàn)線性遮光檢測(cè)結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于:所述的運(yùn)動(dòng)遮光板在位移時(shí)光敏電阻折光面積不同，運(yùn)動(dòng)遮光板和光敏電阻相對(duì)位移中數(shù)字量連續(xù)檢測(cè)。
【文檔編號(hào)】G01R31/00GK103913649SQ201310006634
【公開(kāi)日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2013年1月7日 優(yōu)先權(quán)日:2013年1月7日
【發(fā)明者】岳志明 申請(qǐng)人:酒泉職業(yè)技術(shù)學(xué)院