專利名稱：一種雙光路x射線無損檢測裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本實用新型涉及光學無損檢測技術(shù)領域，具體是指一種雙光路X射線無損檢測裝置。
背景技術(shù)：
無損檢測是在不影響檢測對象未來使用功能或現(xiàn)在的運行狀態(tài)前提下，采用射線、超聲、紅外、電磁等原理技術(shù)儀器對材料、零件、設備進行缺陷、化學、物理參數(shù)的檢測技術(shù)。無損檢測是工業(yè)發(fā)展必不可少的有效工具，在一定程度上反映了一個國家的工業(yè)發(fā)展水平，其重要性已得到公認。目前在化工行業(yè)中常使用射線法對工件進行檢測，射線法可以獲得缺陷的直觀圖像，定性準確，對長度、寬度尺寸的定量也比較準確，檢測結(jié)果有直接記錄，可長期保存，但是現(xiàn)有的射線檢測工具也存在有一些缺陷，例如對面積型缺陷(未焊透、未熔合、裂紋等)，如果照相角度不適當，容易漏檢；不宜檢測較厚的工件；不適宜檢驗角焊縫以及板材、棒材、鍛件等；對缺陷在工件中厚度方向的位置、尺寸(高度)的確定比較困難。
發(fā)明內(nèi)容為解決上述問題，本實用新型提供一種雙光路X射線無損檢測裝置。本實用新型的技術(shù)方案是一種雙光路X射線無損檢測裝置，包括放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器、保護外殼以及控制系統(tǒng)，所述放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器放置于保護外殼內(nèi)，所述前準直器放置在放射源和被測工件之間，所述后準直器放置在康普頓探測器、線陣探測器與被測工件之間。進一步，所述放射源和線陣探測器處于固定位置，康普頓探測器、測量臺的運行軌跡則由控制系統(tǒng)進行控制。進一步，所述保護外殼為含鉛玻璃，重金屬材料可以有效吸收X射線，避免X射線對操作人員造成傷害。進一步，所述前準直器為無散射狹縫，后準直器為高分辨率的多平行束準直器。通常出射光面積越小分辨率越高，無散射狹縫的設置可以保證出射光無散射，基本平行，而且面積小，可以提供較高的分辨率。進一步，所述測量臺為三維可旋轉(zhuǎn)測量臺，其可以在平面內(nèi)以非常低的角速度的速度進行旋轉(zhuǎn)，亦可以再水平平面和豎直平面內(nèi)移動，以完成測量工件所需要的位移；此外測量臺在水品方向的移動還可以實現(xiàn)對被測工件某一感興趣區(qū)的放大和縮小，得到更加詳實數(shù)據(jù)。進一步，測量時，所述放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位。進一步，所述放射源為分體式X射線管，使用Cu靶為射線源。[0012]本實用新型使用兩條光路，不但可以進行工件整體分析，還可以進行工件表面分析，分辨率高，可進行不同倍數(shù)的放大掃描，使用方便。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中:1.放射源2.前準直器3.測量臺4.被測工件5.后準直器6.康普頓探測器 7.線陣探測器 8.保護外殼9.控制系統(tǒng)
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。參照圖1對本實用新型進行說明，一種雙光路X射線無損檢測裝置，包括放射源1、前準直器2、測量臺3、被測工件4、后準直器5、康普頓探測器6、線陣探測器7、保護外殼8以及控制系統(tǒng)9，所 述放射源1、前準直器2、測量臺3、被測工件4、后準直器5、線陣探測器7、康普頓探測器6放置于保護外殼內(nèi)，所述前準直器2放置在放射源I和被測工件4之間，所述后準直器5放置在康普頓探測器6、線陣探測器7與被測工件4之間。放射源I和線陣探測器7處于固定位置，康普頓探測器6、測量臺3的運行軌跡則由控制系統(tǒng)9進行控制。保護外殼8為含鉛玻璃，重金屬材料可以有效吸收X射線，避免X射線對操作人員造成傷害，前準直器2為無散射狹縫，后準直器5為高分辨率的多平行束準直器。通常出射光面積越小分辨率越高，無散射狹縫的設置可以保證出射光無散射，基本平行，而且面積小，可以提供較聞的分辨率。測量臺3為三維可旋轉(zhuǎn)測量臺，其可以在平面內(nèi)以非常低的角速度的速度進行旋轉(zhuǎn)，亦可以再水平平面和豎直平面內(nèi)移動，以完成測量工件所需要的位移；此外測量臺在水品方向的移動還可以實現(xiàn)對被測工件某一感興趣區(qū)的放大和縮小，得到更加詳實數(shù)據(jù)。測量時，所述放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位。所述放射源為分體式X射線管，使用Cu靶為射線源。本實用新型使用兩條光路，不但可以進行工件整體分析，還可以進行工件表面分析，分辨率高，可進行不同倍數(shù)的放大掃描，使用方便。
權(quán)利要求1.一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:包括放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器、保護外殼以及控制系統(tǒng)，所述放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器放置于保護外殼內(nèi)，所述前準直器放置在放射源和被測工件之間，所述后準直器放置在康普頓探測器、線陣探測器與被測工件之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述放射源和線陣探測器處于固定位置，康普頓探測器、測量臺的運行軌跡則由控制系統(tǒng)進行控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述保護外殼為含鉛玻璃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述前準直器為無散射狹縫，后準直器為高分辨率的多平行束準直器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述測量臺為三維可旋轉(zhuǎn)測量臺。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:測量時，所述放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述放射源為分體式X射線管，使用Cu靶為射線源。
專利摘要本實用新型提供一種雙光路X射線無損檢測裝置，包括放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器、保護外殼以及控制系統(tǒng)，其中前準直器為無散射狹縫，后準直器為高分辨率的多平行束準直器。測量時，通過控制系統(tǒng)控制測量臺進行圓周方向步進轉(zhuǎn)動和豎直方向的移動，放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位；所述后準直器設于康普頓探測器和線陣探測器前端以排除雜散射線。本實用新型使用兩條光路，不但可以進行工件整體分析，還可以進行工件表面分析，分辨率高，可進行不同倍數(shù)的放大掃描，使用方便。
文檔編號G01N23/04GK203025127SQ201220754700
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月27日
發(fā)明者韓曉耕, 張勇, 田文文, 段輝 申請人:天津欣維檢測技術(shù)有限公司