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真空原位儀的制作方法

文檔序號(hào):6010287閱讀:332來源:國(guó)知局
專利名稱:真空原位儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及的是催化劑原位表征的真空裝置及紅外原位測(cè)量系統(tǒng),具體地說是一種真空原位儀。
背景技術(shù)
紅外光譜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于催化劑表面性質(zhì)的研究,其中最有效和廣泛應(yīng)用的是研究吸附在催化劑表面的所謂“探針分子”的紅外光譜,如:N0、C0等,它可以提供在催化劑表面存在的“活性中心”信息,用這種方法可以表征催化劑表面暴露的原子或離子,更深入地揭示表面結(jié)構(gòu)的信息,與其它方法相比較,這樣的紅外研究所獲得的信息只限于探針分子(或反應(yīng)物分子)可以接近或勢(shì)壘所允許的催化劑工作表面。雙金屬原子簇催化劑的研究(紅外光譜方法研究催化劑表面組成和相互作用)利用兩種氣體混合物吸附在雙組元過渡金屬催化劑上,通過紅外光譜測(cè)其吸附在不同組元上吸收帶強(qiáng)度的方法,可以測(cè)定雙金屬載體催化劑的表面組成。例如:C0和NO混合氣吸附在Pt-Ru/Si02上的紅外光譜測(cè)定Pt-Ru/Si02催化劑的表面組成。由于紅外光譜方法本身存在以下的局限性:1、利用透射方法研究載體催化劑,由于大部分載體低于1000cm,就不透明了,所以
很難獲得這一范圍的許多重要信息。2、金屬粒子不同的暴露表面邊、角、階梯、相間界面線等,分子吸附在所有這些中心上的光譜都可對(duì)測(cè)得的光譜有貢獻(xiàn),因而解釋起來有困難。3、由于催化反應(yīng)過程中,在催化劑表面上反應(yīng)中間物濃度一般都很低,壽命很短(尤其是反應(yīng)活性的承擔(dān)者),紅外光譜的靈敏度和跟蹤速度不夠高。4、紅外光譜只適用于有紅外活性的物質(zhì),具有相當(dāng)?shù)木窒扌浴?br>
實(shí)用新型內(nèi)容針對(duì)上述問題,本實(shí)用新型提供了一種通用性強(qiáng),性能穩(wěn)定的真空原位儀。本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種真空原位儀,包括真空泵支架、控制終端裝置,所述的真空泵支架上安裝機(jī)械升降臺(tái),所述的機(jī)械升降臺(tái)上固定杜瓦瓶,所述的杜瓦瓶?jī)?nèi)插U型管,所述的U型管連接截止閥A的一端,所述的截止閥A的另一端連接三通,所述的三通連接吸附氣產(chǎn)生裝置,所述的三通還連通紅外樣品池,還包括機(jī)械泵,所述的機(jī)械泵連接擴(kuò)散泵,所述的擴(kuò)散泵下端安裝加熱爐,所述的擴(kuò)散泵的上端連通所述的U型管,所述的加熱爐、擴(kuò)散泵固定在所述的真空泵支架上。作為優(yōu)選,所述的擴(kuò)散泵連接真空計(jì)。作為優(yōu)選,所述的加熱爐下方安裝機(jī)械升降臺(tái)。作為優(yōu)選,所述的U型管固定在管路支架上,所述的管路支架固定在真空泵支架上。作為優(yōu)選,所述的三通與所述的吸附氣產(chǎn)生裝置之間設(shè)置截止閥B,所述的三通與紅外樣品池之間設(shè)置截止閥C。本實(shí)用新型采取了上述改進(jìn)措施進(jìn)行,其有益效果顯著:當(dāng)樣品處理開始后紅外樣品池中真空度在30分鐘內(nèi)達(dá)可以達(dá)到10 5Torr ;使用擴(kuò)散泵串聯(lián)組合抽氣,避免了測(cè)量所需探針分子為酸性或堿性分子的相互污染;滿足了系統(tǒng)高真空的要求,可以達(dá)到測(cè)試池中高真空的要求。而且該裝置抽速快,體積小,低噪音,操作簡(jiǎn)單,系統(tǒng)中的高濃度氣體或吸附的殘余氣體都會(huì)被處理干凈,提高了分析的精度。另外,樣品測(cè)量過程中各樣品可同時(shí)或分別進(jìn)行預(yù)處理、吸附、脫附探針分子或更換樣品。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖;圖中I是機(jī)械泵,2是機(jī)械升降臺(tái),3是加熱爐,4是擴(kuò)散泵,5是真空計(jì),6是截止閥A,7是真空泵支架,8是U型管,9是三通,10是管路支架,11是截止閥B,12是吸附氣產(chǎn)生裝置,13是杜瓦瓶,14是截止閥C,15是紅外樣品池,16是控制終端裝置。
具體實(shí)施方式
下面對(duì)照附圖結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明:參照?qǐng)D1所示,實(shí)施例1中一種真空原位儀,包括機(jī)械泵、機(jī)械升降臺(tái)、加熱爐、擴(kuò)散泵、真空泵支架、U型管、杜瓦瓶、吸附氣產(chǎn)生裝置、紅外樣品池、控制終端裝置,其中機(jī)械升降臺(tái)、加熱爐、擴(kuò)散泵、真空泵支架、U型管、杜瓦瓶、吸附氣產(chǎn)生裝置、控制終端裝置均固定安裝在真空泵支架上。機(jī)械泵連接擴(kuò)散泵,擴(kuò)散泵的下端安裝加熱爐,加熱爐的下方安裝機(jī)械升降臺(tái),擴(kuò)散泵的上端連通U型管,U型管插入杜瓦瓶?jī)?nèi),U型管固定在管路支架上,管路支架固定在真空泵支架上。U型管先連接截止閥A,截止閥A的另一端連接三通,三通一條支路連接吸附氣產(chǎn)生裝置,另一條連通紅外樣品池,三通和吸附氣產(chǎn)生裝置之間設(shè)置截止閥B,三通與紅外樣品池之間也設(shè)置有截止閥C。 上述部件均由控制終端裝置進(jìn)行總的動(dòng)作控制。工作時(shí),通過機(jī)械升降臺(tái)將加熱爐升至合理位置;關(guān)閉截止閥B,打開截止閥C和截止閥A ;打開加熱爐對(duì)擴(kuò)散泵開始加熱,至擴(kuò)散泵里硅油產(chǎn)生均勻的氣泡;通過控制終端裝置控制紅外樣品池開始升溫,至理論參數(shù)溫度值;打開機(jī)械泵開始對(duì)整條管路(包括:機(jī)械泵一擴(kuò)散泵一U型管一紅外樣品池)抽真空,直至真空計(jì)讀數(shù)為-0.1MPa0然后通過控制終端裝置控制吸附氣產(chǎn)生裝置開始加熱,使加熱包內(nèi)的樣品(如甲醇、乙醇、吡啶、等)氣化,即產(chǎn)生吸附氣體。隨后打開截止閥B,關(guān)閉截止閥A,加熱包內(nèi)的樣品經(jīng)氣化后,由于管路內(nèi)存在一定的壓差,氣化后的吸附氣體會(huì)自動(dòng)的進(jìn)入紅外樣品池內(nèi),并在一定時(shí)間內(nèi)完成吸附。當(dāng)吸附完成后,關(guān)閉吸附氣產(chǎn)生裝置與截止閥B,打開截止閥A,再次開始對(duì)整條管路和紅外樣品池抽真空,并同時(shí)將多余的吸附氣體抽取干凈。工作結(jié)束,通過控制終端裝置測(cè)得紅外樣品池內(nèi)的反應(yīng)條件達(dá)到參數(shù)要求后,關(guān)閉截止閥C,然后關(guān)閉機(jī)械泵。以上列舉的僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例,顯然,本實(shí)用新型不限于以上實(shí)施例。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能從本實(shí)用新型公開的內(nèi)容直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的所有變形,均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種真空原位儀,包括真空泵支架、控制終端裝置,所述的真空泵支架上安裝機(jī)械升降臺(tái),所述的機(jī)械升降臺(tái)上固定杜瓦瓶,所述的杜瓦瓶?jī)?nèi)插U型管,所述的U型管連接截止閥A的一端,所述的截止閥A的另一端連接三通,所述的三通連接吸附氣產(chǎn)生裝置,所述的三通還連通紅外樣品池,其特征在于,還包括機(jī)械泵,所述的機(jī)械泵連接擴(kuò)散泵,所述的擴(kuò)散泵下端安裝加熱爐,所述的擴(kuò)散泵的上端連通所述的U型管,所述的加熱爐、擴(kuò)散泵固定在所述的真空泵支架上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空原位儀,其特征在于,所述的擴(kuò)散泵連接真空計(jì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空原位儀,其特征在于,所述的加熱爐下方安裝機(jī)械升降臺(tái)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空原位儀,其特征在于,所述的U型管固定在管路支架上,所述的管路支架固定在真空泵支架上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空原位儀,其特征在于,所述的三通與所述的吸附氣產(chǎn)生裝置之間設(shè)置截止閥B。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空原位儀,其特征在于,所述的三通與紅外樣品池之間設(shè)置截止閥C。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種真空原位儀,包括真空泵支架、控制終端裝置,所述的真空泵支架上安裝機(jī)械升降臺(tái),所述的機(jī)械升降臺(tái)上固定杜瓦瓶,所述的杜瓦瓶?jī)?nèi)插U型管,所述的U型管連接截止閥A的一端,所述的截止閥A的另一端連接三通,所述的三通連接吸附氣產(chǎn)生裝置,所述的三通還連通紅外樣品池,還包括機(jī)械泵,所述的機(jī)械泵連接擴(kuò)散泵,所述的擴(kuò)散泵下端安裝加熱爐,所述的擴(kuò)散泵的上端連通所述的U型管,所述的加熱爐、擴(kuò)散泵固定在所述的真空泵支架上,本實(shí)用新型抽速快,體積小,低噪音,操作簡(jiǎn)單,系統(tǒng)中的高濃度氣體或吸附的殘余氣體都會(huì)被處理干凈,提高了分析的精度。
文檔編號(hào)G01N21/35GK202974859SQ20122063727
公開日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2012年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月26日
發(fā)明者王成文 申請(qǐng)人:浙江泛泰儀器有限公司
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