專利名稱：使用非線性光度立體視覺方法獲取工具印痕的三維表面形態(tài)圖像的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及使用非線性光度立體視覺(photometric stereo)方法獲取的高度鏡面反射物體的表面形態(tài)圖像的領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
彈道比較測試依賴于形成在彈道證據(jù)(ballistic piece of evidence (BPOE))(諸如子彈或彈殼)的表面上的條痕(striation)和印記(impression)。這些條痕具有代表槍械的獨(dú)特標(biāo)志的獨(dú)特特征。通過比較兩個BPOE的條痕或印記特征，有可能推斷出它們是否從相同的槍械中發(fā)射。當(dāng)獲取物體上某一區(qū)域的三維表面形態(tài)圖像(即，立體映射(map)Z (x，y))時，其中 Z是在位置(X，y)處的表面的局部高度，使用包括傳感器(或照相機(jī))和光源的光學(xué)系統(tǒng)。照亮研究中的物體并且獲取被照亮表面的表面形態(tài)圖像。在彈道學(xué)領(lǐng)域，研究中的物體常常是非平面的并且很可能是鏡面反射的。這意味著從相對于局部表面法線N的角度Θ入射的大部分光將被反射在指向-Θ方向的小圓錐中。因此，如果將光源沿著傳感器的光軸放置，因為對于用于表面形態(tài)捕捉的許多光學(xué)方法事實(shí)是這樣，僅入射光中的極微小的部分被反射回傳感器中用于顯示重要斜面的表面形態(tài)的部分，導(dǎo)致局部無效的測量。存在一種測量物體的表面形態(tài)的完全不同的方法。根據(jù)該方法，稱為光度立體視覺，獲取表面的一組發(fā)光度(或高能亮度)圖像，其中該組中每個圖像具有不同的照明條件。如果假設(shè)表面的反射率恒定且光源的照明強(qiáng)度相同，并且如果表面是純散射性的(或朗伯型的(Lambertian)),貝U三個光源足以恢復(fù)表面法線場N(x, y)。表面的表面形態(tài)Z (x, y)通過法線場的積分獲得。但是，表面的發(fā)光度圖像受到噪聲影響，并且由于顏色和/或反照率的局部變化，表面反射率可能不是恒定的。通常的解決方案是使用更多數(shù)量的光源，以便過定義(overdefine)線性方程系統(tǒng)。然后通過誤差最小化過程(諸如卡方(chi square)誤差最小化方案)獲得表面法線場N(x，y)。如果光源的數(shù)量足夠大，人們甚至可以不測量光源的強(qiáng)度，或者甚至光源位置，并且通過擬合過程、主成分分析或者對于本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的其它方法獲得這個信息。很少表面是真正散射性的，并且如果表面是平滑的或者有光澤的，則應(yīng)用上述過程導(dǎo)致在表面形態(tài)的精確度方面獲得非常差的結(jié)果。但是，當(dāng)觀察方向遠(yuǎn)離對于特定光源的鏡面反射方向時，在一定程度上可能仍然保持表面上的光反射的朗伯(Lambert)模型。再次，當(dāng)面對這種有光澤的或者平滑的材料時，通常的解決方案是通過使用不止三個光源來過定義問題，并且對于所形成圖像組的每個像素確定是否任何光源都產(chǎn)生朝向由非朗伯型貢獻(xiàn)支配的照相機(jī)的反射。如果發(fā)現(xiàn)這種條件，則在所考慮的像素的表面法線N的計算中忽略這個光源的貢獻(xiàn)。
但是，當(dāng)考慮彈道證據(jù)(BPOE)時，這些方法都不適用，因為表面是金屬的，這導(dǎo)致光反射的散射貢獻(xiàn)，若有的話，那是比鏡面反射貢獻(xiàn)更小的量級。因此，存在改進(jìn)通常用于金屬表面的捕獲以及特別用于BPOE的光度立體視覺的需要。

發(fā)明內(nèi)容
這里描述了一種用于應(yīng)對通常金屬表面、特別是彈道證據(jù)的鏡面反射性質(zhì)的方法和三維圖像獲取系統(tǒng)，通過確定和求解包括散射項和鏡面反射項的多組非線性方程式來確定表面法向向量場N(x, y),并且利用N(x, y)來確定三維表面形態(tài)Z (x, y),從而使用光度立體視覺。根據(jù)第一寬泛方面，提供了 一種用于確定物體的鏡面表面的三維表面形態(tài)Z (X，y)的方法，該方法包括從多個局部軸線方向相繼地照射物體的表面；使用具有與物體表面的總平面大體上垂直的傳感軸線的傳感器在物體表面的每個相繼的照射處獲取物體表面的至少一個圖像，從而產(chǎn)生具有相同視場(FOV)的一組發(fā)光度圖像；利用發(fā)光度圖像來提供并求解包括散射項(diffusive term)和鏡面反射項(specular term)的多組非線性方程式，從而確定表面法向向量場N (X，y);以及利用表面法向向量場N (X，y)來確定三維表面形態(tài) Z (X，y)。根據(jù)第二寬泛方面，提供了一種用于確定物體的鏡面表面的三維表面形態(tài)Z (x，y)的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括用于獲取二維發(fā)光度圖像的傳感器，該傳感器具有大體上垂直于物體的總平面的傳感軸線；設(shè)置在多個局部軸線方向處的一組K個有效光源；以及計算機(jī)可讀介質(zhì)，程序代碼存儲在計算機(jī)可讀介質(zhì)上并且可由處理器執(zhí)行，用于使K個有效光源從多個局部軸線方向相繼地照射物體的表面；使傳感器在物體表面的每個相繼的照射處獲取物體表面的至少一個圖像，從而產(chǎn)生具有相同視場(FOV)的一組發(fā)光度圖像；利用發(fā)光度圖像來提供并求解包括散射項和鏡面反射項的多組非線性方程式，從而確定表面法向向量場N(x, y);以及利用表面法向向量場N(x, y)來確定三維表面形態(tài)Z (x, y)。根據(jù)另一個寬泛的方面，提供了一種計算機(jī)可讀介質(zhì)，該計算機(jī)可讀介質(zhì)上已經(jīng)被編碼光控制模塊的程序代碼，該光控制模塊的程序代碼可由一處理器執(zhí)行，以使K個有效光源從多個局部軸線方向相繼地照射物體的表面；傳感器控制模塊的程序代碼，該傳感器控制模塊的程序代碼可由一處理器執(zhí)行，以使傳感器在物體表面的每個相繼的照射處獲取物體表面的至少一個圖像，從而產(chǎn)生具有相同視場(FOV)的一組發(fā)光度圖像；以及表面形態(tài)生成模塊的程序代碼，該表面形態(tài)生成模塊的程序代碼可由一處理器執(zhí)行，以利用發(fā)光度圖像來提供和求解包括散射項和鏡面反射項的多組非線性方程式，從而確定表面法向向量場N(x, y),并且利用表面法向向量場N(x, y)來確定三維表面形態(tài)Z(x, y)。在本說明書中，詞語“三維表面形態(tài)”用來指起伏表面Z (X，y)，其中Z是在垂直于傳感軸線的平面中在相對于傳感軸線的位置(x，y)處的表面的局部高度。術(shù)語“二維發(fā)光度圖像”應(yīng)該理解為由光學(xué)照相機(jī)捕獲的發(fā)光度(或者高能亮度)的映射R(x，y)。它與在照相機(jī)的方向上由表面發(fā)出的光強(qiáng)度的映射成正比。以常用的語言，這被稱為攝影圖像。貫穿本文，可以理解發(fā)光度圖像是單通道的或者是單色的。因此，不會記錄顏色信息并且圖像的位深度(bit cbpth)指單通道的位深度?；蛘咄ㄟ^組合來自于不同顏色通道的信息或者通過僅僅考慮一個這種通道，也可以使用從彩色照相機(jī)獲得的單色圖像。還可以理解，照相機(jī)具有線性輻射響應(yīng)，或者相反，照相機(jī)的輻射響應(yīng)是已知的，使得捕獲的圖像可被線性化。術(shù)語“有效光源”應(yīng)該理解為包括物理光源的總數(shù)以及當(dāng)應(yīng)用物理光源和/或觀察中的物體的連續(xù)旋轉(zhuǎn)時所使用的光源的有效總數(shù)兩者。


本發(fā)明的進(jìn)一步的特征和優(yōu)點(diǎn)通過下文中的結(jié)合附圖的詳細(xì)描述將變得顯而易見，附圖中圖1示出了用于利用非線性光度立體視覺方法獲取三維表面形態(tài)的系統(tǒng)的示例性實(shí)施例；圖2是示出用于獲取三維表面形態(tài)的非線性光度立體視覺方法的示例性實(shí)施例的流程圖；圖3是示出用于獲取具有多個灰度級的圖像的方法的示例性實(shí)施例的流程圖；圖4是示出用于計算有效蔽光框(mask)的方法的示例性實(shí)施例的流程圖；圖5是示出用于計算組合圖像和組合有效蔽光框的方法的示例性實(shí)施例的流程圖；圖6是示出在非線性光度立體視覺方法中用于計算的各種向量的示意圖；圖7是示出多步反射的示意圖；圖8是用于圖1的計算機(jī)系統(tǒng)的示例性實(shí)施例的框圖；以及圖9是示出用于多標(biāo)高水平的一組光源的示例性實(shí)施例的示意圖。應(yīng)注意到在所有附圖中，相同的特征用相同的標(biāo)號識別。
具體實(shí)施例方式顯示出工具印痕特征的一些物體不是平的。例如，用過的彈殼在底火(primer)的中心部分(對于中心發(fā)火的彈徑)或者在彈殼頭部的外部區(qū)域(對于邊緣發(fā)火的彈徑)中表現(xiàn)出大且深的凹陷。這個凹陷通常具有比對于彈道識別有用的條痕或者印記的通常深度更深的量級。許多中心發(fā)火彈徑的用過的彈殼還表現(xiàn)出在普通的底火平面上方伸展的區(qū)域。這些區(qū)域被稱為回流并且在它們的外部邊界上常常表現(xiàn)出剪切標(biāo)記的槍械特征條痕。而且，由于子彈是大體上圓柱形的物體，它們的表面法線的局部值在垂直于圓柱軸線的方向上連續(xù)變化。即使將圖像傳感器放置在研究中的物體的上方，它的光軸(或者傳感軸線)大體上垂直于物體的總平面，并且具有同軸的光源，也可能發(fā)生相關(guān)的彈道印痕落在遠(yuǎn)非垂直于光軸的局部表面區(qū)域上。如果研究中的物體的材料是高度鏡面反射的(也就是說，其如同鏡子反射大部分的進(jìn)入光，具有相等的入射角和反射角)，如同通常對于金屬以及特別地對于彈道證據(jù)(BPOE)那樣，照耀這些局部陡峭的區(qū)域的非常少的入射光將被反射回傳感器，導(dǎo)致無效的表面形態(tài)測量。圖1示出用于利用非線性光度立體視覺方法獲取三維表面形態(tài)的系統(tǒng)的示例性實(shí)施例。該系統(tǒng)通常包括傳感器102和一組K個局部光源106。如所示，圖像捕獲裝置102和發(fā)光裝置106是分離的，但其中一個光源的軸線可以與傳感軸線共線。在這個結(jié)構(gòu)中，圖像捕獲裝置102放置在研究中的物體108的上方，其光軸(或者傳感軸線)104大體上垂直于物體108的總平面。在本實(shí)例中，使用具有對應(yīng)于傳感器102的光軸104的Z軸的坐標(biāo)系統(tǒng)。X和Y軸是定義了垂直于Z軸的平面的一對相互正交的軸。物體表面上的位置和捕獲圖像上的位置同樣地表示為(x，y)并且應(yīng)該不區(qū)分地描述物理點(diǎn)和在圖像上的映射點(diǎn)。在不影響這個方法的普遍性的情況下，可以使用其它的坐標(biāo)系統(tǒng)。物體被從多個局部軸線方向106照亮。而且，那些局部光源106—次照亮一個，并且對于該組中的每個光源106，至少一個發(fā)光度圖像被光學(xué)傳感器102捕獲。具有處理器114以及應(yīng)用程序112和存儲器116的計算機(jī)系統(tǒng)110操作性地連接到傳感器102和光源106，用于控制和處理操作。應(yīng)用程序112包括可由處理器114執(zhí)行的程序代碼，如在下文中更詳細(xì)地描述的。圖2是示出用于確定物體的一區(qū)域的三維表面形態(tài)Z(x，y)的示例性的方法的流程圖。該方法的第一步驟是利用參考平面的校準(zhǔn)步驟202，這將在下文中更詳細(xì)地解釋。校準(zhǔn)涉及確定光源的相對強(qiáng)度和它們在照相機(jī)的視場上方的各個強(qiáng)度圖形。一旦完成校準(zhǔn)，則參考平面被物體替代204。一組K個光源被相繼地點(diǎn)亮206，其中對于該組中的每個光源，至少一個發(fā)光度圖像被照相機(jī)捕獲208。一旦獲取了該組的所有圖像，則通過求解來計算表面法線場N (X，y)，對于FOV的每個像素，過定義方程式組210 Ii=A* 散射項(N，Li) +B* 鏡面反射項(N，Li, C)；其產(chǎn)生NPX (每行像素數(shù))*NPY (每列像素數(shù))組獨(dú)立的非線性方程式，其中i從I到LLi是從表面指向第i個光源的單位向量，以及C是從表面指向照相機(jī)的單位向量。然后在視場上對表面法線場N (X，y)積分，以計算表面形態(tài)Z (X，y)212。系數(shù)A和B是未知的，并且將是方程的解的結(jié)果的一部分，N的三個分量也一樣。在一個實(shí)施例中，步驟208被順序地執(zhí)行，以實(shí)現(xiàn)更高位深度的圖像，如圖3的流程圖中所示。首先定義一組M個照相機(jī)積分時間(integration time)(或者照相機(jī)快門速度)302。這些積分時間應(yīng)該足夠不同，以產(chǎn)生明顯不同的捕獲圖像。取決于由照相機(jī)捕獲的圖像的位深度和所得到圖像的目標(biāo)位深度，積分時間的數(shù)量M可以低至2以及高至10，但是更大的M也是可能的。照相機(jī)被順序地設(shè)定到每個積分時間304，并且對于每個積分時間，捕獲和存儲一個圖像306。對于每個捕獲和存儲的圖像，計算和存儲有效蔽光框308。如果像素的強(qiáng)度在照相機(jī)的線性捕獲范圍之夕卜，則表明像素是無效的。一旦捕獲了 M個圖像并且計算出M個蔽光框，則計算所得到的圖像310,被稱為組合或者合成或者高動態(tài)范圍((high dynamic range) HDR)圖像。圖4示出用于為每個通過給定的積分時間捕獲的發(fā)光度圖像計算有效蔽光框308的示例性方法。首先定義一對強(qiáng)度閾值402，一個閾值用于高像素強(qiáng)度TH，一個閾值用于低像素強(qiáng)度TL。對于每個圖像伴隨的有效蔽光框的像素有效值如下計算404 :如果圖像中對應(yīng)的像素強(qiáng)度值大于TH或者小于TL，則將蔽光框的像素值設(shè)定為0，否則設(shè)定為I。用于TL的典型值通常非常低并且說明在照相機(jī)捕獲的圖像中的可能的最低值和/或照相機(jī)的預(yù)期的暗電流噪聲水平。TL的值也可以稍高，以避免散粒噪聲支配的信號。用于TH的典型值取決于由照相機(jī)捕獲的圖像中的單個通道的原始位深度。對于8位圖像的情況，圖像中的最大灰度級是255。使用TH值來保存像素強(qiáng)度和積分時間之間的線性條件。因此它被設(shè)定為小于255的值，以避免像素飽和，并且要足夠高，以保持合理的動態(tài)范圍。圖5示出了用于計算組合圖像和它的伴隨的組合圖像有效蔽光框310的實(shí)施例。對于每個像素位置x，y，我們首先獲得對于FOV中的每個像素(x，y)的一組M個適當(dāng)?shù)木€性化像素強(qiáng)度Ii (χ, y) 502以及M個有效蔽光框值Maski (x, y) 504。用以下方程式計算組合圖像強(qiáng)度的臨時值506
權(quán)利要求
1.一種用于確定物體的鏡面反射表面的三維表面形態(tài)z(x，y)的方法，所述方法包括 從多個局部軸線位置相繼地照射所述物體的表面；利用傳感器在所述物體的表面的每個相繼的照射處獲取所述物體的表面的至少一個圖像，從而產(chǎn)生具有相同視場(FOV)的一組發(fā)光度圖像，所述傳感器具有大體上垂直于所述物體的表面的總平面的傳感軸線；利用所述發(fā)光度圖像來提供并求解包括散射項和鏡面反射項的多組非線性方程式，以確定表面法向向量場N (x，y);以及利用所述表面法向向量場N(x, y)確定所述三維表面形態(tài)Z(x, y)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在相繼地照射所述物體的表面之前，校準(zhǔn)參考平面并且用所述物體替換所述參考平面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，校準(zhǔn)所述參考平面包括在所述傳感器的焦距處在所述傳感器的視場中設(shè)置參考表面；從所述多個局部軸線方向相繼地照射所述參考表面；在每個相繼的照射處獲取至少一個校準(zhǔn)發(fā)光度圖像；對于所述校準(zhǔn)發(fā)光度圖像，計算一組特征值Ci (X，y)；確定最大特征值；通過所述最大值正規(guī)化所述一組特征值，以獲得一組正規(guī)化特征Mi ;以及從被除以所述正規(guī)化特征Mi的所述校準(zhǔn)圖像的倒數(shù)獲得一組校準(zhǔn)映射；其中對于源 i，校準(zhǔn)圖像通過用第i個校準(zhǔn)映射乘以捕獲圖像而獲得。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法，還包括利用所述表面法向向量場N(x，y) 來觀察具有渲染引擎的所述物體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法，其中，相繼地照射所述物體的表面包括利用Q個物理光源和所述物體的或者所述物理光源的圍繞所述傳感器的所述傳感軸線的一系列P個旋轉(zhuǎn)來獲得所述K個局部軸線方向，K>Q。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的方法，其中，獲取至少一個圖像包括定義一組M個不同的照相機(jī)積分時間；用所定義的積分時間中的每一個獲取一個圖像，從而獲取M個圖像；對于每一個圖像計算有效蔽光框；以及利用用所述積分時間中的每一個獲取的所述一個圖像和對應(yīng)的有效蔽光框，計算具有比所獲取的圖像更高的位深度的組合圖像，以及計算組合有效蔽光框。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，對于每一個圖像計算所述有效蔽光框包括設(shè)定高強(qiáng)度閾值TH和設(shè)定低強(qiáng)度閾值TL ；以及對于所述一個圖像中的每個像素設(shè)定mask (X，y)值為TH和TL的函數(shù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6至7中任一項所述的方法，其中，計算所述組合圖像和所述組合有效蔽光框包括從所述M個圖像獲得一組M個像素強(qiáng)度Ii (x，y)；從對于每個圖像的有效蔽光框獲得M個有效蔽光框值Maski (X，y)；計算對于組合圖像強(qiáng)度的臨時值；以及計算合成高位深度圖像和伴隨的合成有效蔽光框。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的方法，其中，利用所述發(fā)光度圖像來求解所述一組非線性方程式包括對于所述發(fā)光度圖像的每個像素求解一組方程式，所述一組方程式鏈接第i個圖像的捕獲或校準(zhǔn)發(fā)光度Ii與所述散射項和所述鏡面反射項之和，其取決于局部表面法線、發(fā)光方向和/或觀察方向。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的方法，還包括從所述一組發(fā)光度圖像中去除偏離所述物體的鏡面反射表面的多步反射的效果。
11.一種用于確定物體的鏡面反射表面的三維表面形態(tài)Z(X，y)的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括傳感器，用于獲取二維發(fā)光度圖像，所述傳感器具有大體上垂直于所述物體的總平面的傳感軸線；一組K個有效光源，設(shè)置在多個局部軸線方向處；以及計算機(jī)可讀介質(zhì)，具有存儲于其上的程序代碼，所述程序代碼能夠由處理器執(zhí)行，用于使所述K個有效光源從所述多個局部軸線方向相繼地照射所述物體的表面；使所述傳感器在所述物體的表面的每個相繼的照射處獲取所述物體的表面的至少一個圖像，從而產(chǎn)生具有相同視場(FOV)的一組發(fā)光度圖像；利用所述發(fā)光度圖像來提供并求解包括散射項和鏡面反射項的多組非線性方程式，以確定表面法向向量場N (X，y);以及利用所述表面法向向量場N (X，y)確定所述三維表面形態(tài) Z (X，y)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述計算機(jī)可讀介質(zhì)還包括能夠由處理器執(zhí)行的用于校準(zhǔn)參考平面的程序代碼。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中，所述用于校準(zhǔn)參考平面的程序代碼包括以下程序代碼，用于使所述K個有效光源從所述多個局部軸線方向相繼地照射參考平面；使所述傳感器在每個相繼的照射處獲取至少一個校準(zhǔn)發(fā)光度圖像；對于所述校準(zhǔn)發(fā)光度圖像計算一組特征值Ci (X，y)；確定最大特征值；通過所述最大值正規(guī)化所述一組特征值，以獲得一組正規(guī)化特征Mi ;以及從被除以所述正規(guī)化特征Mi的所述校準(zhǔn)圖像的倒數(shù)獲得一組校準(zhǔn)映射；其中對于源 i，校準(zhǔn)圖像通過用第i個校準(zhǔn)映射乘以捕獲圖像而獲得。
14.根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述K個有效光源包括能夠旋轉(zhuǎn)到對應(yīng)于所述多個局部軸線方向的位置的Q個物理光源。
15.根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項所述的系統(tǒng)，還包括用于旋轉(zhuǎn)所述物體到多個局部軸線方向的支架，以與用于所述K個有效光源的多個局部軸線方向?qū)?yīng)。
16.根據(jù)權(quán)利要求11至15中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述K個有效光源以具有不同傾斜角的多個子集提供。
17.根據(jù)權(quán)利要求11至16中任一項所述的系統(tǒng)，其中，利用所述發(fā)光度圖像來求解所述一組非線性方程式的所述程序代碼包括對所述發(fā)光度圖像的每個像素求解一組方程式的程序代碼，所述一組方程式鏈接第i個圖像的捕獲或校準(zhǔn)發(fā)光度Ii與所述散射項和所述鏡面反射項之和，其取決于局部表面法線、發(fā)光方向和/或觀察方向。
18.根據(jù)權(quán)利要求11至17中任一項所述的系統(tǒng)，其中，利用所述發(fā)光度圖像來提供和求解多組非線性方程式的程序代碼還包括用以去除所述物體的鏡面反射表面上的多步反射的效果的程序代碼。
19.一種計算機(jī)可讀介質(zhì)，所述計算機(jī)可讀介質(zhì)上已編碼有光控制模塊的程序代碼，所述光控制模塊的程序代碼能夠由一處理器執(zhí)行，以使K個有效光源從多個局部軸線方向相繼地照射物體的表面；傳感器控制模塊的程序代碼，所述傳感器控制模塊的程序代碼能夠由一處理器執(zhí)行， 以使傳感器在所述物體的表面的每個相繼的照射處獲取所述物體的表面的至少一個圖像， 從而產(chǎn)生具有相同視場(FOV)的一組發(fā)光度圖像；以及表面形態(tài)生成模塊的程序代碼，所述表面形態(tài)生成模塊的程序代碼能夠由一處理器執(zhí)行，以使用所述發(fā)光度圖像來提供和求解包括散射項和鏡面反射項的多組非線性方程式， 以確定表面法向向量場N(x，y)，并且利用所述表面法向向量場N (X，y)確定所述三維表面形態(tài) Z(x, y)。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的計算機(jī)可讀介質(zhì)，其中，所述表面形態(tài)生成模塊的程序代碼還包括用以去除所述物體的鏡面反射表面上的多步反射效果的程序代碼。
全文摘要
本發(fā)明描述了一種針對通常金屬表面、以及尤其是彈道證據(jù)的鏡面反射性質(zhì)的方法和三維圖像獲取系統(tǒng)，通過確定和求解包括散射項和鏡面反射項的多組非線性方程式來確定表面法向向量場N(x,y)，并且利用N(x,y)來確定三維表面形態(tài)Z(x,y)，從而使用光度立體視覺。
文檔編號G01B11/245GK103003663SQ201180029780
公開日2013年3月27日 申請日期2011年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月16日
發(fā)明者謝爾格·萊韋斯克 申請人:司法技術(shù)Wai公司